91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

日本光刻膠巨頭JSR同意國家收購

半導體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 來源:半導體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 2023-06-27 15:51 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

本文由半導體產(chǎn)業(yè)縱橫(ID:ICVIEWS)綜合

JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一,其產(chǎn)品是制造先進芯片必不可少的原料。

日本光刻膠巨頭JSR同意由日本國家支持的基金以約 9,090 億日元(合 64 億美元)的價格收購,此舉標志著日本政府深化對芯片行業(yè)的投資。

JIC是日本政府于2014年成立的一家投資公司,旨在通過投資國內(nèi)外的優(yōu)秀企業(yè)和項目,促進日本經(jīng)濟增長和創(chuàng)新。JIC擁有約2.7萬億日元(約合1.35萬億元人民幣)的資金規(guī)模,是亞洲最大的投資公司之一。JIC曾經(jīng)參與了多個重大投資項目,例如收購了東芝存儲器(現(xiàn)為Kioxia)的51%股份,以及與美國高通合作建立了一家5G芯片設(shè)計公司。

日前,JIC在一份聲明中概述了收購日本光刻膠巨頭JSR的計劃,預(yù)計在今年12月底發(fā)起要約收購。JSR首席執(zhí)行官埃里克·約翰遜(Eric Johnson)是罕見的非日本出生的日本公司負責人,他稱自己的目標是在5~7年內(nèi)讓JSR重新上市。

目前,全球光刻膠市場由日本和德國的幾家企業(yè)壟斷,其中最大的兩家分別是JSR和東曹。

JSR成立于1957年,起初是一家由日本政府支持的合成橡膠制造商。如今,JSR向全球芯片制造商供應(yīng)光刻膠,其全球市占率高達30%至40%,客戶包括三星、臺積電、英特爾等。為收購JSR,JIC計劃成立一家注冊資本達5000億日元(約251億元人民幣)的新公司,瑞穗金融集團旗下的瑞穗銀行將提供4000億日元(約200.8億元人民幣)融資。此外,JIC還計劃通過優(yōu)先股和多家銀行承銷的次級貸款籌集1000億日元(約50.2億元人民幣)。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省今年4月曾表示,其目標是到2030年將日本制造的半導體銷售額增加一倍,達到15萬億日元(約7530億元人民幣)。

JIC收購JSR的主要原因

JIC之所以想要收購JSR,主要有兩個原因。一是為了保護日本在光刻膠領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢和市場份額,防止被其他國家或企業(yè)超越或侵占。二是為了支持日本的半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,提供更高質(zhì)量和更穩(wěn)定供應(yīng)的光刻膠產(chǎn)品,滿足不斷增長的市場需求。

對于中國的半導體產(chǎn)業(yè)來說,JIC收購JSR可能會帶來一些挑戰(zhàn)和機遇。挑戰(zhàn)在于,中國目前還沒有自主研發(fā)和生產(chǎn)光刻膠的能力,主要依賴進口。如果JIC收購JSR后對中國市場采取限制或歧視性措施,可能會影響中國芯片廠商的生產(chǎn)計劃和成本。機遇在于,中國可以借此契機加快自主研發(fā)和生產(chǎn)光刻膠的步伐,打破外國壟斷,提升自身在半導體產(chǎn)業(yè)鏈中的地位和話語權(quán)。

談判由JSR發(fā)起,日本政府不會干預(yù)公司管理

一位匿名的日本工業(yè)部官員稱,JSR已就潛在支持事宜與JIC進行了接觸,JSR需要大力投資于產(chǎn)能和先進芯片制造材料的開發(fā)。

“我們從JSR管理層感受到了強烈的危機感,擔心日本芯片材料行業(yè)最終將輸給海外競爭對手?!盝IC私募股權(quán)基金CEO Shogo Ikeuchi在接受外媒采訪時表示,“他們的想法與我們基金的目的完全一致,即促進行業(yè)整合?!?/p>

盡管日本政府在拯救陷入困境的工業(yè)企業(yè)方面有著長期且復雜的記錄,但收購一家已經(jīng)進行重組的盈利公司之舉可能會因潛在的過度干預(yù)行為而招致批評。

JIC去年11月表示已將收購基金規(guī)模擴大4.5倍,達到9000億日元。來自Quiddity Advisors的Travis Lundy在Smartkarma的一份報告中寫道:“JIC就是從這里開始的。如果他們就此停止,我會感到非常驚訝。”

日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省的一名官員稱,日本政府不會干預(yù)上市公司的管理,并指出此次收購交易的談判是由JSR發(fā)起的。

JSR董事會在支持JIC收購要約的聲明中表示,該交易將有助于該公司加快投資,增強國內(nèi)半導體行業(yè)的全球競爭力,并加速向歐洲、美國和亞洲的業(yè)務(wù)擴張。

日本政府在芯片行業(yè)采取的舉措正值各國加大國內(nèi)生產(chǎn)力度之際,其中歐盟和美國等國家都向該國半導體行業(yè)投入了大量資金。

哪些公司正在投資日本?

臺積電去年11月宣布,計劃斥資70億美元在日本九州島建設(shè)一座芯片工廠,預(yù)計于2024年開始生產(chǎn)12納米和16納米芯片。索尼集團和汽車零部件制造商電裝也是投資者,該公司將使用臺積電生產(chǎn)的芯片。

美國內(nèi)存芯片制造商美光科技5月份表示,計劃在日本政府的支持下,未來幾年在極紫外技術(shù)(EUV)上投資高達5000億日元(35億美元)。該公司表示,它將成為第一家將 EUV 技術(shù)引入日本進行生產(chǎn)的芯片制造商。

今年3月,三星電子表示正在考慮在其現(xiàn)有的橫濱研發(fā)中心附近建立其在日本的第一條芯片封裝測試線。

日本政府支持的 Rapidus今年 2 月表示,將在日本北部島嶼北海道的制造中心千歲建立一家芯片工廠。Rapidus與IBM合作開發(fā)和生產(chǎn)尖端 2 納米芯片,計劃于 2025 年推出原型生產(chǎn)線。





審核編輯:劉清

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1199

    瀏覽量

    48929
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88820
  • EUV光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    129

    瀏覽量

    15849

原文標題:日本光刻膠巨頭JSR同意國家收購

文章出處:【微信號:ICViews,微信公眾號:半導體產(chǎn)業(yè)縱橫】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    國產(chǎn)光刻膠開啟“鉗形攻勢”

    。作為半導體制造中最關(guān)鍵的材料之一,其性能更是直接決定了芯片的線寬、集成度和良率。 ? 《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》明確將光刻膠等半導體材料列為重點投資領(lǐng)域,計劃投入超過500億元支持關(guān)鍵材料研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化??萍疾俊笆奈濉毙虏牧蠈?/div>
    的頭像 發(fā)表于 01-13 09:06 ?3991次閱讀

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6675次閱讀

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術(shù)有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?1953次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?1796次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    從光固化到半導體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路

    當您尋找可靠的國產(chǎn)半導體材料供應(yīng)商時,一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導體核心材料國產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角
    的頭像 發(fā)表于 08-12 16:45 ?2063次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期,國產(chǎn)
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?6897次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?578次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?1055次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?879次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時,光刻圖形的精準
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?828次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用,并
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?793次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?905次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?1597次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1366次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?9569次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性