三星電子在 EUV 曝光技術(shù)取得重大進(jìn)展，韓媒 Business Korea 報(bào)導(dǎo)，三星電子 DS 部門研究員 Kang Young-seok 表示，三星使用的 EUV 光罩護(hù)膜（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達(dá) 90%，計(jì)劃再提高至 94-96%。

EUV 光罩護(hù)膜（Pellicle）是光罩上的薄膜，保護(hù)光罩免于微塵或揮發(fā)性氣體的污染，使 EUV 順利傳輸。光罩護(hù)膜也是 EUV 曝光時(shí)的關(guān)鍵零件，目的是增加芯片生產(chǎn)良率，減少光罩使用時(shí)的清潔和檢驗(yàn)。

三星今年初聲稱已開發(fā)出透光率達(dá) 88% 的 EUV 光罩護(hù)膜，且這款產(chǎn)品已經(jīng)可以量產(chǎn)，而 Kang 表示三星 EUV 護(hù)膜透光率再度增加，達(dá)到 90%。其中，透光率 90% 的意思是只有 90% 進(jìn)入薄膜的光線能到達(dá)光罩，這可能會(huì)影響電路圖案的精度。這比更常見的氟化氬（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）還低。

當(dāng) EUV 光罩護(hù)膜在 250 瓦光源下操作時(shí)，每平方公分會(huì)產(chǎn)生的 5 瓦熱量，導(dǎo)致溫度高達(dá) 680℃ 以上，因此除了降低光源衰退外，還必須解決光罩護(hù)膜在 EUV 過程中遇到的翹曲或斷裂等散熱問題。

據(jù)報(bào)導(dǎo)，三星已主要客戶的部分先進(jìn) EUV 代工生產(chǎn)在線導(dǎo)入 EUV 光罩護(hù)膜。雖然三星也在 DRAM 生產(chǎn)線中采用 EUV 制程，但考慮到生產(chǎn)率和成本，該公司認(rèn)為即使沒有光罩護(hù)膜也可以進(jìn)行內(nèi)存量產(chǎn)。

EUV 光罩護(hù)膜目前有艾司摩爾（ASML）、三井化學(xué)（Mitsui Chemicals）、信越化學(xué)、S&S Tech、FST 等業(yè)者跨足，但據(jù) Kang 透露，三星并沒有使用韓國(guó)國(guó)內(nèi)供貨商提供的 EUV 光罩護(hù)膜，而是與日本三井化學(xué)合作，為唯一供貨商。

雖然 FST 和 S&STech 等韓國(guó)公司正積極開發(fā) EUV 光罩護(hù)膜，但還沒實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。相比之下，臺(tái)積電早在 2019 年開始使用自行開發(fā)的光罩護(hù)膜，并已在 7 奈米以下制程的生產(chǎn)線使用。