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碳化硅的5大優(yōu)勢

國晶微第三代半導體碳化硅SiC ? 來源:國晶微第三代半導體碳化 ? 2023-12-12 09:47 ? 次閱讀
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碳化硅(SiC),又名碳化硅,是一種硅和碳化合物。其材料特性使SiC器件具有高阻斷電壓能力和低比導通電阻。這些特性允許超快的開關(guān)速度和在高溫下工作的能力,使SiC成為電力電子領(lǐng)域傳統(tǒng)硅基(Si)器件的可行繼任者。該技術(shù)可以應(yīng)用于突出的應(yīng)用,如汽車電動汽車/混合動力汽車和充電、太陽能和儲能系統(tǒng)、數(shù)據(jù)和通信電源和UPS、工業(yè)驅(qū)動、暖通空調(diào)和焊接。

肖特基二極管(SBD)和MOSFET是通常指定的SiC器件。與硅器件相比,碳化硅器件具有五大關(guān)鍵優(yōu)勢:

電源轉(zhuǎn)換器的開關(guān)頻率會影響開關(guān)損耗、變壓器損耗、轉(zhuǎn)換器整體尺寸/重量和轉(zhuǎn)換器級電磁干擾(EMI)等因素。與硅開關(guān)相比,SiC MOSFET具有低開關(guān)損耗能量和超低柵極電荷,從而實現(xiàn)更高的開關(guān)頻率,從而實現(xiàn)更緊湊的變壓器設(shè)計,同時降低功率損耗。

這導通電阻(RDS(開))是MOSFET的源極和漏極之間的電阻。導通電阻越低,功率損耗越低。低RDS(開)也意味著更低的發(fā)熱量。1700 V SiC MOSFET的比導通電阻遠低于2000 V及以上Si MOSFET。可以使用更小的封裝,具有相同的導通電阻額定值,從而提高了1700 V SiC MOSFET的性價比。SiC SBD在結(jié)溫(TJ)高于150°C。

SiC MOSFET的開關(guān)損耗低于Si MOSFET,可以提高轉(zhuǎn)換器效率。散熱器可以減小尺寸,甚至可以完全拆除。較低的開關(guān)損耗還為提高輔助電源的開關(guān)頻率提供了選擇,以最大限度地減小變壓器的尺寸和重量。超低開關(guān)損耗和快速開關(guān)速度可顯著提高能效。

碳化硅器件具有寬禁帶;帶隙是指價帶頂部和導帶底部之間的能量差。較長的距離使設(shè)備能夠在更高的電壓、溫度和頻率下運行。分立式SiC肖特基二極管和SiC MOSFET器件具有寬禁帶(4H-SiC具有3.3eV),可實現(xiàn)低導通和開關(guān)損耗。在比較具有相同結(jié)構(gòu)和尺寸的SiC和Si半導體芯片時,SiC芯片表現(xiàn)出比Si芯片更低的比導通電阻和更高的擊穿電壓。

SiC的導熱性比普通Si提高了三倍。碳化硅還可以承受比普通硅高10倍的電壓,提高導熱性可以降低系統(tǒng)復雜性和成本。SiC MOSFET器件兼具高工作電壓和快速開關(guān)速度,這是傳統(tǒng)功率晶體管通常不具備的組合。

如圖1所示,SiC器件具有較低的開關(guān)損耗和傳導損耗,從而減小了組件尺寸并提高了功率密度。它們在高結(jié)溫下工作,具有低柵極電阻、低柵極電荷、低輸出電容和超低導通電阻。

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具有多種額定電流(6A、8A、10A、16A或20A)。它們?yōu)殡娏﹄娮酉到y(tǒng)設(shè)計人員提供了多種性能優(yōu)勢,包括可忽略不計的反向恢復電流、高浪涌能力和175°C的最高工作結(jié)溫;這些規(guī)格使其適用于提高效率、可靠性和熱管理應(yīng)用。

與類似額定值的IGBT相比,SiC MOSFET器件結(jié)構(gòu)可實現(xiàn)更低的每周期開關(guān)損耗和更高的輕載效率。SiC固有的材料特性使SiC MOSFET在阻斷電壓、比電阻和結(jié)電容方面優(yōu)于類似額定值的Si MOSFET。

支持最大漏源電壓(VDS)的1700V,導通電阻(RDS(開))為750 mΩ,最大工作結(jié)溫為175oC。其引腳排列簡化了PCB布線,開爾文源極連接減少了柵極驅(qū)動電路中的雜散電感,從而提高了效率、EMI行為和開關(guān)性能。







審核編輯:劉清

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原文標題:碳化硅的5大優(yōu)勢!

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