由于全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈格局的變化，日本致力于重獲半導(dǎo)體制造業(yè)領(lǐng)導(dǎo)權(quán)，政府計劃提供高達生產(chǎn)設(shè)施投資費用50%的資助，以期吸引國內(nèi)外投資。然而，相較之下，韓國提供的僅限于稅收優(yōu)惠，因此，韓國業(yè)界擔心其半導(dǎo)體生產(chǎn)效率在未來10年內(nèi)可能會被日本趕超。

據(jù)報道，美光公司正在日本廣島興建DRAM工廠，已得到來自日本政府約39%的投資額補貼，其預(yù)期的成本競爭力由提升5%-7%。在半導(dǎo)體設(shè)備投入大量資金的情況下，除了技術(shù)實力和大規(guī)模生產(chǎn)經(jīng)驗外，資金補貼也是一個有力的競爭力因素。美光的目標是到2025年在日本實現(xiàn)最先進的存儲芯片“1γ（Gamma）DRAM”的生產(chǎn)。

此舉引發(fā)韓國業(yè)界憂慮，作為全球DRAM市場份額居次席的美光有能力以日本生產(chǎn)基地威脅韓國三星、SK海力士。

臺積電制造公司正在享受日本方面的資助金，其位于熊本縣的首座工廠中41%的設(shè)備投資額已得到援助。根據(jù)分析，日本的資助使該廠的成本競爭力提高了10%。日本決定進一步提高臺積電在日本設(shè)立二、三廠的補貼率至50%。此外，日本熊本縣、熊本大學和九州大學于12月26日共同簽署協(xié)議，將在半導(dǎo)體領(lǐng)域加大科研和人才培養(yǎng)力度，為臺積電生產(chǎn)提供人才保障。據(jù)KAIST電氣電子工學部教授金正浩指出，如成本差異不斷拉大，同樣能改變這場競爭的局勢。

日本政府已將半導(dǎo)體列為“特定重要物資”，設(shè)定目標在未來實現(xiàn)2nm及更為先進制程芯片在本土的批量生產(chǎn)。除現(xiàn)金資助外，還為Rapidus、Kioxia等本地企業(yè)提供多層級的支持。這是一種吸引跨國企業(yè)和加強國內(nèi)市場力量的“雙軌戰(zhàn)略”。

反觀韓國，迄今為止未推出針對半導(dǎo)體設(shè)施投資的現(xiàn)金支持政策。盡管2023年3月稅收特例限制法修正案增加了大企業(yè)設(shè)施投資額的稅額減免比例至15%，但這項政策將于2024年12月到期。單從日本的補助金和韓國的稅收減免政策對比來看，美光和臺積電在韓國設(shè)廠的吸引力并不高。韓國的法人稅率、最低限度稅等稅負較重，因此相對競爭對手而言，其吸引力有所降低。

對半導(dǎo)體行業(yè)的高層人物來說，“只看數(shù)據(jù)的話，即使是韓國企業(yè)在日本設(shè)廠也可能更具優(yōu)勢”，并呼吁韓國政府應(yīng)在經(jīng)濟安全上加強對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支持。