臺(tái)積電2nm工藝突然泄密
據(jù)媒體報(bào)道，臺(tái)積電爆出工程師涉嫌盜取2納米制程技術(shù)機(jī)密，臺(tái)灣檢方經(jīng)調(diào)查后，向法院申請(qǐng)羈押禁見3名涉案人員獲準(zhǔn)。
據(jù)悉，由于臺(tái)“科學(xué)及技術(shù)委員會(huì)”已將14納米以下制程的IC制造技術(shù)納入臺(tái)灣核心關(guān)鍵技術(shù)清單，臺(tái)“科學(xué)及技術(shù)委員會(huì)”解釋說，若竊取核心關(guān)鍵技術(shù)商業(yè)機(jī)密，依規(guī)將由檢調(diào)偵辦，并將加重刑責(zé)最高達(dá)12年有期徒刑、1億元新臺(tái)幣罰金。
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