9月10日，SEMI-e深圳國際半導(dǎo)體展暨2025集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展在深圳國際會展中心（寶安）順利開幕。廣明源（展位號：13G27）在展會中重點展示了172nm準(zhǔn)分子光應(yīng)用方案及系列創(chuàng)新產(chǎn)品，吸引了業(yè)內(nèi)人士的廣泛關(guān)注。

本次展出的172nm準(zhǔn)分子光應(yīng)用系列方案，主要覆蓋半導(dǎo)體等高端制造的關(guān)鍵制程與工藝研發(fā)環(huán)節(jié)，包括光清洗、光固化、光改性及超純水TOC降解等，為企業(yè)提供可控且環(huán)保的技術(shù)方案，支持核心工藝實現(xiàn)國產(chǎn)化替代。

01晶圓/掩膜板光清洗解決方案

高效去除晶圓及掩膜板表面微觀有機污染物，實現(xiàn)原子級潔凈處理，無化學(xué)殘留、低溫?zé)o損傷。

02晶圓鍵合改性解決方案

通過精準(zhǔn)調(diào)節(jié)表面親水性和粘附性能，提升鍵合效果，處理快速、低熱效應(yīng)且無化學(xué)殘留。

03超純水TOC降解解決方案

高效降解超純水系統(tǒng)中的總有機碳（TOC），潔凈度可達ppb級，無化學(xué)添加，支持在線連續(xù)處理，穩(wěn)定可靠。

04制程驗證開發(fā)解決方案

針對工藝研發(fā)、制程驗證和小批量試產(chǎn)設(shè)計的172nm MINI實驗?zāi)＝M，結(jié)構(gòu)緊湊、靈活可移、部署便捷，適用于多種實驗環(huán)境及工藝驗證需求。

展會期間，廣明源團隊與觀眾進行了深入交流，介紹了各類應(yīng)用方案的技術(shù)特點及實際應(yīng)用效果，獲得了積極反饋。

深圳SEMI-e將持續(xù)至9月12日，廣明源誠邀各界同仁蒞臨展位（13G27）參觀交流，共同探討172nm準(zhǔn)分子光技術(shù)在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的應(yīng)用與發(fā)展。