隨著半導(dǎo)體和光電子技術(shù)的快速發(fā)展,紫外至紅外波段的薄膜材料應(yīng)用日益廣泛,而薄膜厚度、折射率等參數(shù)的高精度測量對器件性能至關(guān)重要。然而,現(xiàn)有光譜橢偏技術(shù)難以同時實(shí)現(xiàn)紫外至中紅外的寬波段覆蓋與大角度測量,限制了其在多種材料表征中的應(yīng)用。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度與折射率的高精度表征,廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體和表面科學(xué)等領(lǐng)域。
本研究提出了一種結(jié)合光柵光譜與傅里葉光譜的寬波段大角度橢偏測量系統(tǒng):在192–2100nm波段采用光柵光譜技術(shù),在2000–3200nm波段采用傅里葉干涉技術(shù),并通過臥式旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)15°–90°大角度測量。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該系統(tǒng)對多種薄膜材料的厚度測量精度優(yōu)于0.7nm,重復(fù)性精度達(dá)0.04nm,能夠根據(jù)不同材料靈活選擇最優(yōu)測量波段,顯著提升了寬波段、大角度薄膜測量的精度與適用性。
1
橢偏儀原理
flexfilm
橢偏技術(shù)通過分析偏振光與樣品相互作用前后偏振態(tài)的變化,以非接觸、無損方式獲取光學(xué)常數(shù)(如折射率、消光系數(shù))、膜厚及表面形貌等參數(shù),是一種高精度光學(xué)測量方法。從紫外到紅外波段的光譜橢偏技術(shù)已在半導(dǎo)體、光伏、顯示及材料科學(xué)等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。然而,受限于紅外光源能量與偏振器性能,紅外波段橢偏技術(shù)的發(fā)展相對緩慢。
為滿足不同材料在寬光譜范圍內(nèi)的測量需求,本文研究一種結(jié)合光柵與傅里葉光譜的橢偏系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)192–3200nm寬波段范圍內(nèi)單層與多層薄膜的高精度、快速測量。
2
寬波段大角度光譜橢偏系統(tǒng)原理

基于光柵+傅里葉光譜的寬波段大角度光譜橢偏原理結(jié)構(gòu)圖
寬波段大角度光譜橢偏系統(tǒng)主要由四部分組成:紫外-短波紅外起偏臂(PSG-UV-SWIR)、短波紅外-中紅外起偏臂(PSG-SWIR-MIR)、檢偏臂(PSA)及樣品臺(S)。其中,檢偏臂PSA包含紫外-短波紅外檢偏單元(PSA-UV-SWIR)和短波紅外-中紅外檢偏單元(PSA-SWIR-MIR),可根據(jù)透反射測量需求及入射角要求,與樣品臺一同進(jìn)行大角度旋轉(zhuǎn)。
紫外-短波紅外波段(UV-SWIR,192~2100nm)測量系統(tǒng)
該波段由PSG-UV-SWIR與PSA-UV-SWIR組成測量系統(tǒng),采用“復(fù)色光源+光柵光譜”的探測方式:
光源采用背透式氘燈(L?)和鎢燈(L?),結(jié)合石英透鏡實(shí)現(xiàn)光路重合,滿足192~2100nm全波段覆蓋;
通過離軸拋物面反射鏡(M?)構(gòu)建無色差反射式光路,確保光線準(zhǔn)直;
自動光闌(AS)可切換不同檔位,實(shí)現(xiàn)測試能量的自動調(diào)控;
洛匈棱鏡(P?)負(fù)責(zé)寬光譜起偏,偏振光入射樣品(S)后進(jìn)入檢偏臂;
旋轉(zhuǎn)消色差補(bǔ)償器(C?)對被測光進(jìn)行偏振調(diào)制,經(jīng)檢偏器(A?)后,光束分別進(jìn)入紫外可見光譜儀(GS?,192~1000nm)和近紅外光譜儀(GS?,1000~2100nm)完成探測。
短波紅外-中紅外波段(SWIR-MIR,2000~3200 nm)測量系統(tǒng)
該波段由PSG-SWIR-MIR與PSA-SWIR-MIR組成,采用“傅里葉干涉+紅外探測”的方式:
紅外光源硅碳棒(L?)發(fā)出的光線,經(jīng)鍍金離軸拋物面鏡(M?)準(zhǔn)直后,進(jìn)入傅里葉紅外干涉具(IFI)進(jìn)行干涉調(diào)制;
調(diào)制后的光線通過中紅外起偏棱鏡(P?)從自動光闌(AS)出射,起偏后入射樣品(S)并進(jìn)入檢偏臂;
旋轉(zhuǎn)消色差補(bǔ)償器(C?)完成偏振調(diào)制,經(jīng)檢偏器(A?)后,由離軸拋物面鏡(M?)聚焦于近紅外/短波紅外MCT光電探測器(D)實(shí)現(xiàn)信號采集。
核心理論模型
采用Stokes矢量描述偏振光束特性,穆勒矩陣描述光學(xué)元件(起偏器、補(bǔ)償器、檢偏器)與樣品的偏振作用規(guī)律,出射光束的Stokes矢量S???可表示為:

式中,Sin=[I,0,0,0]?(I為入射光強(qiáng)),S???=[I',Q',U',V']?(I'為探測器/光譜儀接收光強(qiáng));Mp、Mc、Ms、MA分別為起偏器、補(bǔ)償器、樣品、檢偏器的穆勒矩陣,其具體表達(dá)式如下:

α為起偏器偏振方向角,β為檢偏器偏振方向角,γ為補(bǔ)償器光軸方位角,δ為補(bǔ)償器調(diào)制相位,Ψ和Δ為樣品的橢偏參數(shù)(振幅比與相位差)
由于探測器和光譜儀僅能獲取S???中的光強(qiáng)I',結(jié)合式(1)可推導(dǎo)得:
I'=I?K
針對不同波段的探測特性,光強(qiáng)表達(dá)式進(jìn)一步細(xì)化:
紫外-短波紅外波段(UV-SWIR):起偏臂為復(fù)色光,經(jīng)檢偏臂后由光譜儀分光,不同波長λ在不同補(bǔ)償器旋轉(zhuǎn)角度下的調(diào)制光強(qiáng)為:
I'(λ)=I(λ)?K
短波紅外-中紅外波段(SWIR-MIR):起偏臂為邁克爾遜干涉具調(diào)制后的信號,經(jīng)檢偏臂去除直流分量后,通過傅里葉逆變換獲得分光光譜,光強(qiáng)關(guān)系為:

λ?、λ?分別為該波段最小、最大波長,k為干涉光程差隨時間的系數(shù),L為傅里葉紅外干涉具的最大調(diào)制光程差
根據(jù)上述理論,通過采集補(bǔ)償器在不同方位角所對應(yīng)的調(diào)制光譜,結(jié)合橢偏測量理論和線性回歸算法,即可求出樣品膜厚、折射率、消光系數(shù)等參數(shù)。
3
實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論
flexfilm
實(shí)驗(yàn)裝置
為了更快的準(zhǔn)確對準(zhǔn),樣機(jī)中加入了十字對準(zhǔn)裝置。紫外-近紅外波段采用兩個光柵光譜儀(Maya2000 pro,光譜范圍 192~1000 nm;Nirquest,1000~2100 nm),短波紅外-中紅外波段采用定制傅里葉紅外干涉具(IFI,F(xiàn)oli10-R,光譜范圍 2000~3200 nm)。
分別對空氣(透射式)、半導(dǎo)體、電介質(zhì)、金屬、聚合物、多層膜等多種薄膜進(jìn)行測試,驗(yàn)證其測量薄膜厚度和折射率的重復(fù)測量精度。其中,薄膜樣片采用國防科技工業(yè)光學(xué)一級計(jì)量站標(biāo)定后的不同厚度、不同材料、不同膜層數(shù)的多個樣片。
測量結(jié)果分析

樣機(jī)測得樣片穆勒矩陣元素N、C、S與波長的對應(yīng)曲線(SiO?-Si樣片,SiO?厚度d=62.5 nm)

樣機(jī)測得樣片橢偏參量(Ψ,Δ)與波長的對應(yīng)曲線(SiO?-Si樣片,SiO?厚度d=62.5 nm)
將樣機(jī)入射角設(shè)置為70°,對SiO?-Si標(biāo)準(zhǔn)樣片(SiO?厚度標(biāo)定值62.5nm)進(jìn)行測量,得到穆勒矩陣元素N=cos2Ψ、C=sin2ΨcosΔ、S=sin2ΨsinΔ與波長的關(guān)系,進(jìn)而計(jì)算獲得橢偏參數(shù)Ψ和Δ與波長的對應(yīng)曲線。
通過構(gòu)建SiO?-Si光學(xué)模型,結(jié)合測量數(shù)據(jù)采用算法回歸擬合,得到Ψ和Δ的擬合曲線,并反演獲得薄膜厚度。
采用相同方法對所有實(shí)驗(yàn)樣片進(jìn)行測量,樣機(jī)對Si基底上不同薄膜材料、不同厚度、不同膜層樣片進(jìn)行測量,其中SiO?-Si(薄膜為電介質(zhì))、ZnO-Si(薄膜為半導(dǎo)體)、PI-Si(薄膜為聚合物)、Si3N4-AL2O3-Si(電介質(zhì)雙層膜)、Au-SiO?-Si(金屬電介質(zhì)雙層膜)各進(jìn)行30次測量后的厚度測量精度及重復(fù)測量精度:

樣機(jī)對不同類型薄膜樣片測得的厚度及精度
由實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示厚度測量精度優(yōu)于0.7nm,重復(fù)測量精度優(yōu)于0.04 nm,展現(xiàn)出優(yōu)異的測量穩(wěn)定性與準(zhǔn)確性。
本文提出一種基于光柵+傅里葉光譜融合的寬波段大角度光譜橢偏測量技術(shù)。該技術(shù)通過紫外-短波紅外波段(192~2100nm)采用光柵光譜橢偏、短波紅外-中紅外波段(2000~3200nm)采用傅里葉光譜橢偏的設(shè)計(jì),結(jié)合臥式旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)15°~90°大角度測量,成功集成了覆蓋192~3200nm的寬波段橢偏測量系統(tǒng)。對Si基底上多種類型薄膜樣片的測量實(shí)驗(yàn)表明,該系統(tǒng)的薄膜厚度測量精度優(yōu)于0.7 nm,30次重復(fù)測量的重復(fù)性精度可達(dá)0.04 nm。該技術(shù)可根據(jù)不同材料特性靈活選擇最優(yōu)光譜波段,有效拓展了光譜橢偏技術(shù)的測量材料范圍,提升了測量精度,在高精度、寬波段、大角度薄膜橢偏測量領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值。
Flexfilm全光譜橢偏儀
flexfilm

全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領(lǐng)域中單層或多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k)
- 先進(jìn)的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器測量技術(shù):無測量死角問題。
- 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進(jìn)的光能量增強(qiáng)技術(shù),高信噪比的探測技術(shù)。
- 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
- 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達(dá)0.05nm。
Flexfilm全光譜橢偏儀能非破壞、非接觸地原位精確測量超薄圖案化薄膜的厚度、折射率,結(jié)合費(fèi)曼儀器全流程薄膜測量技術(shù),助力半導(dǎo)體薄膜材料領(lǐng)域的高質(zhì)量發(fā)展。
原文參考:《基于光柵+傅里葉光譜的寬波段大角度光譜橢偏技術(shù)研究》
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