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GaN為何能在5G射頻挑戰(zhàn)中脫穎而出

Qorvo半導(dǎo)體 ? 來源:未知 ? 作者:胡薇 ? 2018-11-13 16:19 ? 次閱讀
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如今,電子業(yè)正邁向4G的終點、5G的起點。 后者發(fā)展上仍有不少進(jìn)步空間,但可以確定,新一代無線電網(wǎng)絡(luò)勢必需要更多組件、更高頻率做支撐。對此,市研機(jī)構(gòu)Yole發(fā)布的「2017年RF功率市場與科技報告」指出,RF功率市場可望以將近二位數(shù)的年復(fù)合成長率(GAGR)迅速成長;同時,氮化鎵(GaN)將逐漸取代橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS),成為市場主流技術(shù)。

不同材料的能隙與擊穿電壓對比

現(xiàn)行GaN功率元件以GaN-on-SiC及GaN-on-Si兩種晶圓進(jìn)行制造,其中GaN-on-SiC強(qiáng)調(diào)適合應(yīng)用在高溫、高頻的操作環(huán)境,因此在散熱性能上具優(yōu)勢,其以5G基地臺應(yīng)用最多,預(yù)期SiC基板未來在5G商用帶動下,具有龐大市場商機(jī)。

典型GaN射頻器件的工藝流程

典型的GaN射頻器件的加工工藝主要包括如下環(huán)節(jié):外延生長-器件隔離-歐姆接觸(制作源極、漏極)-氮化物鈍化-柵極制作-場板制作-襯底減薄-襯底通孔等環(huán)節(jié)。

外延生長

采用金屬氧化物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)或分子束外延(MBE)方式在SiC或Si襯底上外延GaN材料。

器件隔離

采用離子注入或者制作臺階(去除掉溝道層)的方式來實現(xiàn)器件隔離。射頻器件之間的隔離是制作射頻電路的基本要求。

歐姆接觸

形成歐姆接觸是指制作源極和漏極的電極。對GaN材料而言,制造歐姆接觸需要在很高的溫度下完成。

氮化物鈍化

在源極和漏極制作完成后,GaN半導(dǎo)體材料需要經(jīng)過鈍化過程來消除懸掛鍵等界面態(tài)。GaN的鈍化過程通常采用SiN(氮化硅)來實現(xiàn)。

柵極制作

在SiN鈍化層上開口,然后沉積柵極金屬。至此,基本的場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)就成型了。

場板制作

柵極制作完成后,繼續(xù)沉積額外的幾層金屬和氮化物,來制作場板、互連和電容,此外,也可以保護(hù)器件免受外部環(huán)境影響。

襯底減薄

襯底厚度減薄至100μm左右,然后對減薄后的襯底背部進(jìn)行金屬化。

襯底通孔

通孔是指在襯底上表面和下表面之間刻蝕出的短通道,用于降低器件和接地(底部金屬化層)之間的電感。

5G高頻特性,GaN技術(shù)伸展空間巨大

目前基地臺用功率放大器(Power Amplifier,PA)主要為基于硅的橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體LDMOS技術(shù),不過LDMOS技術(shù)僅適用于低頻段,在高頻應(yīng)用領(lǐng)域存在局限性。

換言之,GaN優(yōu)勢在于更高功率密度及更高截止頻率(Cutoff Frequency,輸出訊號功率超出或低于傳導(dǎo)頻率時輸出訊號功率的頻率),尤其在5G多輸入多輸出(Massive MIMO)應(yīng)用中,可實現(xiàn)高整合性解決方案,例如模塊化射頻前端元件,以毫米波(Millimeter Wave,mmWave)應(yīng)用為例,GaN高功率密度特性可有效減少收發(fā)通道數(shù)及尺寸,實現(xiàn)高性能目標(biāo),然短期LDMOS會與GaN共存,主要原因在于低頻應(yīng)用仍會采用LDMOS,例如2GHz以下應(yīng)用領(lǐng)域。

通常來說,采用GaN技術(shù)可降低天線陣列功耗,透過整合式多通道模塊、3~6GHz及28/39GHz頻段在射頻前端產(chǎn)品的布局,更加強(qiáng)調(diào)高性能、低功耗、高整合度、高易用性等目標(biāo)達(dá)成。

Qorvo3月推出的GaN-on-SiC晶體管QPD1025來看,其無需結(jié)合放大器的復(fù)雜操作便可實現(xiàn)數(shù)千瓦的解決方案,能夠大幅節(jié)省客戶的時間和成本。與LDMOS相比,QPD1025的漏極效率有了顯著提升,效率高出近15個百分點。

由于GaN具有更高功率密度特性,能實現(xiàn)更小元件封裝,滿足Massive MIMO和主動天線單元(Active Antenna Unit,AAU)技術(shù)下射頻前端高度整合需求。目前GaN運用以5G基礎(chǔ)設(shè)施(如基地臺)為主,手機(jī)較難采用GaN技術(shù)。主要挑戰(zhàn)包括:

(1)GaN成本高;

(2)GaN供電電壓高;

無論如何,GaN已成為高頻、大功耗應(yīng)用技術(shù)首選,包括需高功率水平的傳輸訊號或長距離應(yīng)用,例如基地臺收發(fā)器、雷達(dá)、衛(wèi)星通信等。Qorvo提供業(yè)內(nèi)種類最多、最具創(chuàng)意的GaN-on-SiC產(chǎn)品組合,其產(chǎn)品具有高功率密度、小尺寸、增益出色、高可靠性和工藝成熟的特點,早在2000年就開始批量生產(chǎn)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標(biāo)題:解決5G射頻挑戰(zhàn),GaN為何能脫穎而出?

文章出處:【微信號:Qorvo_Inc,微信公眾號:Qorvo半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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