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國內IC設計今年成長速度放緩 永光化學緊抓各項合作機會

MZjJ_DIGITIMES ? 來源:lp ? 2019-03-16 10:14 ? 次閱讀
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永光化學長期耕耘半導體晶圓所需之各類光刻膠(photoresists)、顯影劑、拋光液、特殊油墨等產(chǎn)品線,不僅是業(yè)界領導品牌,更在2018年總營收達96.21億元新臺幣,年增4.92%。旗下各事業(yè)體表現(xiàn)不俗,其中又以半導體相關的電子化學品有3%年增表現(xiàn)備受矚目。

挾著2018年市場獲利熱度,永光化學今年開春更開出紅盤,2019年1月合并營收9億元新臺幣、年增9.69%。永光化學總經(jīng)理陳偉望指出,今年永光化學將更深入耕耘國內市場,所以今年的上海國際半導體展永光持續(xù)參加,展現(xiàn)研發(fā)實力。

圖說:永光化學總經(jīng)理陳偉望

國內IC設計今年成長速度放緩永光化學緊抓各項合作機會

SEMICON China 2019將于3月20日正式于上海市浦東新區(qū)亮相,上海國際半導體展可視為全球最大規(guī)模半導體年度盛會之一,也是產(chǎn)業(yè)鏈上下游廠商了解全球產(chǎn)業(yè)格局、前沿技術與市場走勢的最佳機會之一。對此,永光化學長期屬半導體產(chǎn)業(yè)鏈的重要成員,也將持續(xù)共襄盛舉此產(chǎn)業(yè)盛會。

根據(jù)全球市調機構TrendForce的「中國半導體產(chǎn)業(yè)深度分析報告」,數(shù)據(jù)顯示中國在2018年的IC設計產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值達2,515億元人民幣,年增近23%。雖然今年市場仍以進口替代導向為主,但面臨消費性電子產(chǎn)品需求遞減,加上中美貿易糾紛的隱性因素影響,估計今年國內IC產(chǎn)值約2,965億元人民幣,成長速度將放緩至17.9%。

然而,不論國內經(jīng)濟景氣如何走勢,永光化學在海外市場的布局力道不減反增。例如在國際聚氨酯展覽會(PU China 2018)、廣州第二十三屆中國國際涂料展,都可看到永光化學的身影。而永光化學電化事業(yè)副總經(jīng)理林昭文響應,長年觀察國內半導體發(fā)展,業(yè)內需擴大的確帶動外圍化學品、精密設備、制程及檢驗設備等產(chǎn)業(yè)鏈的新技術應用。

對此,陳偉望解釋目前永光化學扎根國內近20年,深知下一步要找尋品牌的發(fā)展空間跟利基點。所以永光會善用競合策略與國內當?shù)鼗锇椋どa(chǎn),關鍵原料廠,上下游高科技業(yè)者、經(jīng)銷通路商等進行深度合作,擴大產(chǎn)線供給以符合大陸市場的需求,并提升產(chǎn)品競爭力。

新三大集團戰(zhàn)略方針因應20納米半導體龐大需求

然而,要達到上述目標,永光已擬定一套具體的因應方針。陳偉望說整個集團的戰(zhàn)略方針去年進行重塑,更聚焦在「突破框架 快速響應」。永光將透過1.創(chuàng)新思維模式,突破既有框架;2.快速反應需求,有效解決問題;3.強化團隊整合,成為隱形冠軍,三項策略作為市場方針。

基于半導體產(chǎn)業(yè)芯片越來越小,去年起永光也重新調整半導體相應的化材產(chǎn)品方向。像是半導體的光刻膠發(fā)展項目推出相對有利基的產(chǎn)品,前段制程方面,永光改善在passivation layer曝光量過高問題,開發(fā)出可降低曝光量的新光刻膠。尤其鎖定大中華區(qū)使用較頻繁的光刻膠,永光開發(fā)出分辨率達0.3um以下的產(chǎn)品做為推廣,完整旗下I-line產(chǎn)品線。

后段制程方面,陳偉望進一步提到永光著重封裝制程所需的厚膜光刻膠,目前產(chǎn)品已在客戶端驗證。下一階段將針對市場難度較高的負型厚膜光刻膠,持續(xù)開發(fā)及送樣。高深寬比的化學增幅型光刻膠也在持續(xù)開發(fā),至于泛用型或特殊型光刻膠及顯影劑,永光也有相對應的搭配方案。

前進半導體展永光展示產(chǎn)品四大亮點

永光化學的關鍵競爭力將在上海半導體展出,今年聚焦四大產(chǎn)品亮點。第一,永光與廠家合作技術轉移,針對產(chǎn)品面不足地方,奠基產(chǎn)品研發(fā)能力。第二,針對光阻劑重新檢討產(chǎn)品開發(fā),目前著重I-line光刻膠產(chǎn)品的完整藍圖。永光重新檢視旗下產(chǎn)品線,將朝兩方向發(fā)展,其一是再挑戰(zhàn)高分辨率的極限;其二是朝高感度產(chǎn)品,期望提升分辨率與客戶產(chǎn)能。

第三個亮點則是持續(xù)挖掘客制化需求,林昭文解釋,過去永光的口碑是為客戶做客制化,但逐漸發(fā)現(xiàn)在產(chǎn)品線還有所不足,所以對應現(xiàn)在市場發(fā)展趨勢,將再開發(fā)更多利基機會。又或是針對過往的亮點產(chǎn)品持續(xù)優(yōu)化,推出第二代或第三代更優(yōu)質的產(chǎn)品,包含降低曝光能量,提升客戶量產(chǎn)的產(chǎn)能及良率、提高圖形分辨率等。

至于第四個亮點,因應物聯(lián)網(wǎng)跟5G時代,由于SiC碳化硅半導體基板需求更加被重視,永光也有提供相關的拋光液產(chǎn)品,目前已經(jīng)有跟業(yè)界的指標性廠商配合。例如半導體前段制程Passivation及implant layer使用的EPI系列光刻膠,永光這幾類產(chǎn)品會再針對這些產(chǎn)品再優(yōu)化,這也是2018年永光在光刻膠開發(fā)路徑,不同以往的全新策略。

今年永光化學在上海國際半導體展的攤位號為 Booth Location N2-2627 ,展示產(chǎn)品包含前段制程的Passivation光刻膠EPI 687、implant光刻膠EPI 630、EPI 673(Matel光刻膠);后段制程方面有封裝光刻膠ENPI 503、EPP 110、ECA 150、PSPI EverPI series,以及研磨漿料產(chǎn)品如硅晶圓拋光液、碳化硅拋光液等。陳偉望最后總結,企業(yè)經(jīng)營本質如產(chǎn)品價格力、服務力甚至環(huán)保永續(xù)的努力,是永光化學站穩(wěn)兩岸的關鍵競爭力。

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原文標題:【展會】永光化學挾三大戰(zhàn)略方針 亮相2019上海國際半導體展

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