集成電路設計自動化軟件領導企業(yè)新思（Synopsys）近日宣布，面向三星7LPP（7nm Low Power Plus）和更先進工藝的良率學習平臺設計取得最大突破，也為三星后續(xù)5nm、4nm、3nm工藝的量產(chǎn)和良品率奠定了堅實基礎。

量產(chǎn)探索平臺（Yield Explorer）是一種復雜的芯片量產(chǎn)良品率學習平臺，可用來分析芯片設計、晶圓廠生產(chǎn)、產(chǎn)品測試三大方面的數(shù)據(jù)，以便幫助工程師找到缺點、改進良品率、提高產(chǎn)能。

現(xiàn)代芯片設計和生產(chǎn)是極為復雜的過程，往往涉及幾千個步驟，需要花費數(shù)月時間，而芯片的最終良品率取決于整體設計、性能和功耗需求等，因此要想提高芯片生產(chǎn)的成功率，需要對各種因素進行細致的分析。

根據(jù)路線圖，三星工藝近期有14nm、10nm、7nm、3nm三個重要節(jié)點，其中14nm會演化出11nm，10nm會演化出8nm，7nm則會演化出6nm、5nm、4nm。

而每種工藝往往又會根據(jù)性能、功耗的不同而分為多個版本，比如14nm分成了14LPE、14LPP、14LPC、14LPU，3nm則分成3GAE、3GAP，預計會采用全新的材料。

目前，三星已經(jīng)完成5nm工藝的設計工作，正在加速推進投入量產(chǎn)，4nm則將在今年下半年完成開發(fā)，新思的新平臺將在其中發(fā)揮巨大作用。