對(duì)于 7 納米制程，三星和臺(tái)積電兩大晶圓代工龍頭都早已入手布局，以便爭(zhēng)奪 IC 設(shè)計(jì)業(yè)者們的訂單。其中，日前傳出三星原定在 2018 年破土動(dòng)工的韓國(guó)華城 18 號(hào)生產(chǎn)線，動(dòng)工時(shí)間已經(jīng)被提前到了 2017 年的 11 月，以便在 2019 年能夠進(jìn)入 7 納米制程的量產(chǎn)階段。其中，18 號(hào)生產(chǎn)線將會(huì)架設(shè) 10 多臺(tái)極紫外光（EUV）設(shè)備，以強(qiáng)化生產(chǎn)效能。

　　至于，臺(tái)積電在 7 納米制程的布局，根據(jù)臺(tái)積電高層之前在法說(shuō)會(huì)上的說(shuō)法，表示目前已經(jīng)有 12 個(gè)產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案，這使得第一代 7 納米制程將會(huì)在 2017 年底或 2018 年達(dá)成量產(chǎn)。至于，第二代的 7 納米制程則會(huì)在 2019 年達(dá)成量產(chǎn)的目標(biāo)，制程中也將導(dǎo)入EUV的技術(shù)。因此，在不論是三星，或者臺(tái)積電都將在 7 納米制程上都將引入 EUV 技術(shù)的情況下，而這種被視為延續(xù)摩爾定律的設(shè)備，正是被寄望能推動(dòng)未來(lái)制程進(jìn)步的重要關(guān)鍵。

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　　我們關(guān)注從一個(gè)芯片制程到另一個(gè)制程的變化。這些技術(shù)清楚地知道進(jìn)入7納米制程的重要意義，它們自然而然假定從物理上看下一代芯片制程技術(shù)會(huì)碰到不可逾越的問(wèn)題，從而使得摩爾定律終結(jié)。這樣考慮是正確的，過(guò)去也的確出現(xiàn)了巨大的挑戰(zhàn)，但芯片產(chǎn)業(yè)曾擊退這些挑戰(zhàn)；于是，許多人錯(cuò)誤地相信產(chǎn)業(yè)會(huì)再次擊退挑戰(zhàn)。我的看法是，可能會(huì)成功，也可能不會(huì)，但物理并非唯一的挑戰(zhàn)。