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      干刻清洗工藝在金屬刻蝕去膠腔上的評價及應(yīng)用

      2009-12-14 | rar | 555 | 次下載 | 3積分

      資料介紹

      本文以金屬刻蝕去膠腔為背景，簡述干刻清洗工藝開發(fā)和評價過程。針對實(shí)際應(yīng)用中
      的問題，展開討論。通過實(shí)際案例分析,展示了干刻清洗工藝的應(yīng)用價值。
      關(guān)鍵字：干刻清洗Dry Clean； 金屬刻蝕 Metal Etch；干刻 Dry Etch；
      去膠腔 Ash Chamber；去膠速率：Ash Rate (AR)
      The Evaluation And Application Of Dry Clean Process On Ash Chamber Of Metal Etch
      Wang Qian (Shanghai Jiao Tong University)
      (Shanghai Huahong NEC Electronics Limited Company, Shanghai 201206, China)
      Abstract: Based on ash chamber of metal etch, this paper describes the full process of dry clean
      development and evaluation. And the related issue among process application is also discussed.
      Through the analysis of actual case, the worth of dry clean application is presented.
      金屬
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