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有機(jī)發(fā)光顯示器件是目前平板顯示中的熱點(diǎn)，所用ITO玻璃比液晶顯示所用的有更高更嚴(yán)的要求。該文探討了OLED用ITO玻璃生產(chǎn)的相關(guān)工藝，得出使用直流濺射ITO陶瓷靶時，較好的氣氛是低氬微氧，功率約200 W左右，濺射時基板溫度約250℃，高溫?zé)o氧退火。得到方阻20 Ω以下、平均透過率大于80%的ITO玻璃。
Low resistivity Indium Tin Oxide (ITO) films were deposited by DC magnetron sputtering using ITO targets. Films deposited at substrate temperature of 250℃ with 200 W input DC power, in an oxygen/argon atmosphere, argon flow was kept at about 16 sccm and the oxygen flow was less than 1sccm, respectively. Annealing of the ITO films without oxygen for 1 h was necessary for achieving low resistivities. Low resistivity (<20 Ω) and high transmittance (>80%) in visible region were found to occur at a high annealing temperature about 350℃.
ITO
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