芯片是怎么被“光刻”出來的

首先光刻膠成分復雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。

2022-07-25 標簽：光刻機光刻膠 5.3k 0

中芯國際表示深圳工廠進口光刻機不是EUV光刻機

據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機，但這是設備正常導入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。

2020-03-07 標簽：中芯國際光刻機EUV 5.2k 0

高端光刻機不再必需?中國科研團隊傳來喜訊,新型光量子芯片問世

相信關注中國科技發(fā)展的朋友都知道，在國內(nèi)的芯片制造領域，中芯國際無疑是目前規(guī)模和技術雙雙領先的國產(chǎn)芯片企業(yè)。可令人無奈的是長期以來受《瓦森納協(xié)定》的制約...

2021-03-01 標簽：芯片中芯國際光刻機 5.2k 0

石墨烯芯片,中國芯片產(chǎn)業(yè)彎道超車的機會

2021-01-07 標簽：芯片晶圓光刻機 5.2k 0

集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目存6大難點

文｜Lee 集微網(wǎng)消息，近期，晶瑞股份因購買ASML光刻機設備受到了資本市場的熱捧，也收到了深交所下發(fā)的關注函。深交所重點關注了晶瑞股份本次購買光刻機設...

2020-10-21 標簽：集成電路光刻機光刻膠 5.2k 0

荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破，預計會在2022年實現(xiàn)商業(yè)化

? ? 11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工...

2020-12-09 標簽：光刻機EUVASML 5.2k 0

芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠

芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠，比如在EDA工具的國產(chǎn)化、光刻機等，國產(chǎn)化都還有很長的路要走。有統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設備的國產(chǎn)化率分...

2023-08-09 標簽：eda芯片制造光刻機 5.2k 0

中國超導量子芯片研發(fā)進入國產(chǎn)自主化的發(fā)展道路

在浙江大學召開的超導量子芯片學術成果研討會上，朱詩堯教授介紹了“莫干1號”、“天目1號”兩款國產(chǎn)超導量子芯片。

2022-04-25 標簽：光刻機量子芯片 5.2k 0

不只是光刻機，還有這一半導體材料依賴進口

在半導體生產(chǎn)制造領域，如今可以說是沒有光刻機寸步難行。即便如此，有了制造設備，沒有材料的支撐也是造不出芯的。今天，我們就來講講半導體材料中的高純石英。 ...

2022-06-06 標簽：半導體半導體材料光刻機 5.2k 0

3nm制程工藝或將迎來希望

2018-11-01 標簽：光刻機EUV 5.1k 0

中國的芯片行業(yè)想要獲得發(fā)展，必須突破光刻機的瓶頸

由于近些年科技的飛速發(fā)展，芯片行業(yè)也一同隨著潮流向前推進。工藝從微米進階到了更小更快的納米。

2020-04-12 標簽：芯片光刻機 5k 0

中芯國際訂購一套極紫外光刻設備,最昂貴和最先進的芯片生產(chǎn)工具

目前，蘋果高端iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器芯片，采用了臺積電的10納米工藝技術，而今年即將推出的新款iPhone將使用7納米工藝技...

2019-01-21 標簽：芯片中芯國際光刻機 5k 0

ASML警告美國：對中國斷供DUV光刻機半導體供應鏈將中斷，真是如此嗎？

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）近日，針對全球半導體產(chǎn)業(yè)廣泛關注的美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機一事，ASML首席執(zhí)行官（CEO）溫彼得正式回應稱，...

2022-07-25 標簽：光刻機ASMLDUV 5k 0

什么是EUV***？

需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從...

2023-05-22 標簽：光刻機EUV7nm芯片 5k 0

荷蘭職員：中國花7500萬元買進二手光刻機，卻不用來搞研發(fā)

科學研究工作，尤其富于創(chuàng)造性的意義，尤其是要依靠自力更生。當然，自力更生并不等于封鎖自己?！?李四光 科技興則民族興、科技強則國家強，近些年，國家愈發(fā)...

2021-01-20 標簽：芯片光刻機 5k 0

為何EUV光刻機會這么耗電呢

EUV（極紫外光）光刻機，是目前半導體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進光刻機類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電...

2021-02-14 標簽：晶圓光刻機EUV 5k 0