替代EUV光刻，新方案公布！

來源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺(tái)積電以及日本即將落成的先進(jìn)晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準(zhǔn)備將...

2024-06-17 標(biāo)簽：光刻EUV 1.5k 0

飛秒激光在精密光子學(xué)制造中的應(yīng)用

精密光子制造中為什么要使用飛秒激光?飛秒激光器發(fā)射持續(xù)時(shí)間低于一皮秒的超短光脈沖，達(dá)到飛秒級(jí)(1fs=10-15s)。飛秒激光的特點(diǎn)是脈沖寬度極短，峰值...

2024-06-17 標(biāo)簽：激光光刻光譜 939 0

新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng) 無需掩膜

? 基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術(shù)，其成本正呈指數(shù)級(jí)攀升。而無掩膜的電子束光刻技術(shù)提供了補(bǔ)充性選項(xiàng)，可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場(chǎng)。電子束光刻技術(shù)采用電...

2024-05-22 標(biāo)簽：光刻新思科技電子束 4.2k 0

英特爾推進(jìn)面向未來節(jié)點(diǎn)的技術(shù)創(chuàng)新，在2025年后鞏固制程領(lǐng)先性

英特爾正在按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)其“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”的目標(biāo)，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。...

2024-05-16 標(biāo)簽：英特爾光刻EUV 935 0

SK海力士聯(lián)手TEMC開發(fā)氖氣回收技術(shù)，年度節(jié)省400億韓元

SK海力士聯(lián)合 TEMC 研發(fā)出一套氖氣回收裝置，用以收集及分類處理光刻工藝環(huán)境中的氖氣，然后交予 TEMC 進(jìn)行純化處理，最后回流至 SK 海力士使用。

2024-04-02 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻SK海力士 1.2k 0

美光計(jì)劃部署納米印刷技術(shù)，降低DRAM芯片生產(chǎn)成本

3 月 5 日消息，美光科技公司計(jì)劃率先支持佳能的納米印刷技術(shù)，從而進(jìn)一步降低生產(chǎn) DRAM 存儲(chǔ)芯片的單層成本。 美光公司近日舉辦了一場(chǎng)演講，介紹在將...

2024-03-06 標(biāo)簽：光刻美光DRAM芯片 954 0

德累斯頓工廠的電子束光刻系統(tǒng)

來源：半導(dǎo)體芯科技編譯 投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備 Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元，為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子...

2024-01-15 標(biāo)簽：光刻電子束 1.9k 0

隆基27.09%刷新硅太陽(yáng)能電池效率世界紀(jì)錄

針對(duì)HBC太陽(yáng)電池圖形化技術(shù)高成本的瓶頸，隆基綠能持續(xù)自主創(chuàng)新研發(fā)，放棄了高成本的光刻工藝，采用全激光圖形化技術(shù)實(shí)現(xiàn)了27.09%的轉(zhuǎn)換效率。

2023-12-20 標(biāo)簽：太陽(yáng)能電池光刻隆基 1.1k 0

龍圖光罩科創(chuàng)板IPO獲批，募投項(xiàng)目技術(shù)和經(jīng)濟(jì)可行性是關(guān)鍵?

龍圖光罩擁有130nm及以上節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體掩模版制備頂尖技術(shù)，覆蓋 CAM、光刻、檢測(cè)全流程。在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域，其工藝節(jié)點(diǎn)已能充分滿足全球主流制程的需求。

2023-12-18 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻功率半導(dǎo)體 1.1k 0

IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心

12 月 12 日消息，今天早些時(shí)候，紐約州長(zhǎng)凱西?霍楚爾（Kathy Hochul ）宣布與 IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子（東京威力科創(chuàng)）等半導(dǎo)體...

2023-12-14 標(biāo)簽：IBM光刻美光 1k 0

八億時(shí)空：光刻膠樹脂量產(chǎn)產(chǎn)能不斷提升 預(yù)計(jì)明年將會(huì)貢獻(xiàn)一定營(yíng)收

該公司目前集中開發(fā)krf光刻樹脂及其衍生物，分為負(fù)離子聚合的狹窄分布樹脂和包括三重聚合物在內(nèi)的自由基聚合的廣泛分布樹脂。現(xiàn)在下游客戶對(duì)這兩個(gè)地區(qū)都有需求...

2023-11-09 標(biāo)簽：樹脂光刻電子材料 1.4k 0