我國光刻技術(shù)到底達到何種水平?

在芯片的生產(chǎn)過程中，光刻機是關(guān)鍵設(shè)備，而光刻則是必不可少的核心環(huán)節(jié)。光刻技術(shù)的精度水平?jīng)Q定了芯片的性能強弱，也代表了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的完善程度。我們國內(nèi)一直希...

2020-12-09 標簽：芯片半導(dǎo)體晶圓 1.1萬 0

光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀、趨勢及挑戰(zhàn)分析

近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點。芯片制造離不開光刻機，而光刻技術(shù)則是光刻機發(fā)展的重要推動力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個分支...

2020-11-27 標簽：芯片集成電路半導(dǎo)體 2.2萬 0

芯片光刻技術(shù)的基本原理及主要步驟

在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步...

2020-11-11 標簽：芯片集成電路光刻 2.6萬 1

光刻設(shè)備廠商芯碁微裝科創(chuàng)板IPO過會

文｜James 集微網(wǎng)消息，10月27日，據(jù)上交所發(fā)布科創(chuàng)板上市委2020年第93次審議會議結(jié)果顯示，合肥芯碁微電子裝備股份有限公司（以下簡稱芯碁微裝）...

2020-10-30 標簽：芯片半導(dǎo)體光刻 2.4k 0

芯片破壁者（3）：光刻技術(shù)的“鬼斧”之變

在我們今天看來，晶體管發(fā)明以后，集成電路的出現(xiàn)一直到今天超大規(guī)模集成電路的出現(xiàn)，似乎是一件水到渠成的事情。但是如果回到半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)初興的歷史現(xiàn)場，我們就會...

2020-10-30 標簽：芯片光刻 703 0

全球首臺！蘇大維格光刻設(shè)備投入運行；臺積電上半年專利申請數(shù)量375件奪冠…

7月28日，中國臺灣地區(qū)有關(guān)單位公布統(tǒng)計指出，受到疫情影響，今年上半年中國臺灣地區(qū)專利申請件數(shù)為33,954件，與去年同期相比下降4%；發(fā)明專利申請人中...

2020-07-30 標簽：臺積電光刻 5.5k 0

上海博康光刻設(shè)備及光刻材料項目投資13億落戶高陵

（綜合自瀟湘晨報 西安網(wǎng) 財聯(lián)社）日前，總投資13億元的上海博康項目正式簽約落戶高陵，標志著該區(qū)引進國家戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)、推動高質(zhì)量發(fā)展取得新突破。記者了解...

2020-06-09 標簽：半導(dǎo)體光刻光刻膠 1.4萬 0

ASML表示設(shè)備訂單依然強勁 需求前景暫沒有變化

由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預(yù)期。不過，這家生產(chǎn)極紫外線（EUV）光刻...

2020-04-16 標簽：光刻ASML 1.8k 0

南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹脂專利揭秘

在國際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國，但整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進技術(shù)差距較大，...

2020-03-06 標簽：光刻 5.7k 0

美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低

2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠...

2020-02-29 標簽：光刻IMECEUV 4.1k 0

光刻到底是什么 又有哪幾個部分

經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～

2020-01-19 標簽：光刻 9.2k 0

什么是光刻

經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～

2020-01-24 標簽：集成電路光刻 9.2k 0

臺積電首個EUV工藝的N7+開始向客戶交付產(chǎn)品

10月7日，臺積電宣布，其業(yè)界首款可商用的極紫外（EUV）光刻技術(shù)七納米plus（N7+）將向客戶交付產(chǎn)品。采用EUV技術(shù)的N7+工藝建立在臺積電成功的...

2019-10-09 標簽：臺積電光刻EUV 7.8k 0

關(guān)于京東方的發(fā)展分析介紹

蒸鍍機外加金屬鍍罩的雙重門檻，不僅限制了同業(yè)的生產(chǎn)良率，也為其他品牌的手機屏設(shè)置了一道分辨率的上限。使其擁有了對其他手機品牌的牽制，最好的案例便是曾經(jīng)如...

2019-09-04 標簽：芯片半導(dǎo)體光刻 9.6k 0

新型反射顯示:基于等離子超體表面無光刻制程

該技術(shù)的實施還需要借助高成本的納米光刻制造技術(shù)。

2019-06-28 標簽：納米光刻 3.3k 0

日美大戶橫行,阿斯麥光刻市場的崛起之路

阿斯麥的地位有多重要？可以這么說，如果它停產(chǎn)，全球半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)將會停擺。

2019-06-03 標簽：光刻ASML 4.3k 0

臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術(shù) 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。

2019-05-28 標簽：臺積電光刻EUV 4.3k 0

光刻工藝的苛刻高精度、重復(fù)性和穩(wěn)定性要求

光刻技術(shù)，顧名思義就是一種用光刻印的技術(shù)，它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)以及許多其他納米技術(shù)應(yīng)用中；

2019-05-15 標簽：半導(dǎo)體光刻 6.5k 0