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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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突發(fā)!ASML對(duì)手,宣布破產(chǎn)!
荷蘭的芯片機(jī)制造是世界有名的,其中的ASML就是世界領(lǐng)先的佼佼者,但是,上周有消息傳出,其荷蘭的競爭對(duì)手、代
SK海力士的M16工廠將用上最先進(jìn)的EUV光刻工藝
今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠,這是2015年全球最大的存儲(chǔ)芯片工廠M14落成時(shí)SK Hynix宣布的46萬億韓元投資計(jì)劃中的...
我國成功研制出世界首臺(tái)分辨力最高紫外超分辨光刻裝備
我國成功研制出世界首臺(tái)分辨力最高紫外超分辨光刻裝備,可加工22納米芯片。
EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn),2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了,這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多...
臺(tái)積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項(xiàng)重磅突破
今年4月開始,臺(tái)積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn),蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或...
在30多年的半導(dǎo)體制造歷史上,最大的一個(gè)挑戰(zhàn)就是跟上1965年摩爾做出的預(yù)測(cè),即集成電路中的晶體管數(shù)目每兩年翻一番。 為了實(shí)現(xiàn)這個(gè)目的,IC尺寸越來越大...
2018-03-29 標(biāo)簽:ic設(shè)計(jì)工程師光刻 6.7k 0
ASML脫胎于飛利浦、成立于1984年,其唯一產(chǎn)品類型就是集成電路制造環(huán)節(jié)中最核心的設(shè)備——光刻機(jī)。光刻機(jī)設(shè)備通過光源將掩模上的電路圖曝光至涂滿光刻膠的...
EV集團(tuán)推出針對(duì)大容量封裝應(yīng)用的自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)以及半導(dǎo)體市場晶圓鍵合和光刻設(shè)備領(lǐng)先供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT,旨針對(duì)大容量先進(jìn)封裝...
開啟新時(shí)代,臺(tái)積電將打造“系統(tǒng)超級(jí)芯片”
世界領(lǐng)先半導(dǎo)體廠商臺(tái)積電首席技術(shù)官兼研發(fā)副總裁孫元成透露了未來臺(tái)積電主導(dǎo)“系統(tǒng)超級(jí)芯片”市場的詳細(xì)計(jì)劃。
京瓷成功研發(fā)出利用光刻加工技術(shù)的AT切割水晶振動(dòng)子
京瓷株式會(huì)社的全資子公司——京瓷金石株式會(huì)社(以下簡稱“京瓷金石”)是專門從事水晶元器件開發(fā)生產(chǎn)的公司。該公司運(yùn)用光刻加工技術(shù)成功研發(fā)出AT切割水晶振動(dòng)...
2012-04-12 標(biāo)簽:光刻京瓷水晶振動(dòng)子 1.5k 0
MIT實(shí)現(xiàn)9納米工藝電子束光刻技術(shù)
麻省理工學(xué)院 (MIT)的研究人員表示,已經(jīng)開發(fā)出一種技術(shù),可望提升在芯片上寫入圖案的高速電子束光刻解析度,甚至可達(dá)9nm,遠(yuǎn)小于原先所預(yù)期的尺寸
擺脫光刻技術(shù)的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸入式光刻技術(shù)仍然遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先。業(yè)界一度認(rèn)為193nm浸入式光刻會(huì)在32nm遭遇極限
2011-03-21 標(biāo)簽:光刻 3.4k 0
光刻14nm、5nm節(jié)點(diǎn)的技術(shù)挑戰(zhàn)
在SEMICON West上另一個(gè)熱點(diǎn)是光刻技術(shù)能否達(dá)到15nm的經(jīng)濟(jì)制造?半導(dǎo)體業(yè)是有希望未來采用EUV技術(shù)。
2011-03-08 標(biāo)簽:節(jié)點(diǎn)光刻14nm 3.2k 0
分析:450mm,EUV,TSV都將延遲 現(xiàn)在不用再期待了,根據(jù)IC insights公司的數(shù)據(jù),看起來兩個(gè)兩個(gè)正在顯現(xiàn)的重要的IC制造技術(shù)都將延遲,...
2010-01-26 標(biāo)簽:光刻 936 0
Pixelligent新型納米晶材料可擴(kuò)展光刻技術(shù)
據(jù)Pixelligent Technologies LLC表示,該公司開發(fā)出一種據(jù)稱可提高現(xiàn)有光刻設(shè)備分辨率的納米晶(nanocrystalline)材...
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