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光刻法是微電子工藝中的核心技術(shù)之一,常用于形成半導(dǎo)體設(shè)備上的微小圖案。過程開始于在硅片上涂布光刻膠,隨后對(duì)其進(jìn)行預(yù)熱。接著,選擇一種光源(如深紫外光或X...
但隨著技術(shù)迭代,晶體管尺寸持續(xù)縮減,電阻電容(RC)延遲已成為制約集成電路性能的關(guān)鍵因素。在90納米及以下工藝節(jié)點(diǎn),銅開始作為金屬互聯(lián)材料取代鋁,同時(shí)采...
設(shè)計(jì)圖樣上所采用的基準(zhǔn)稱為設(shè)計(jì)基準(zhǔn)。如圖下圖所示的箱體,A、B為孔中心位置的尺寸,其設(shè)計(jì)基準(zhǔn)為①、②面,它們?cè)趫D上反映出來的是線??讖紻的設(shè)計(jì)基準(zhǔn)為軸線...
半導(dǎo)體薄膜沉積工藝是現(xiàn)代微電子技術(shù)的重要組成部分。這些薄膜可以是金屬、絕緣體或半導(dǎo)體材料,它們?cè)谛酒母鱾€(gè)層次中發(fā)揮著不同的作用,如導(dǎo)電、絕緣、保護(hù)等。...
生產(chǎn)中需保證鎳缸每缸板的負(fù)載應(yīng)為0.2-1.0dm2/L,針對(duì)邦定板或IC、pad間距<5mil之生產(chǎn)板,負(fù)載量控制在0.2-0.5dm2/L?;?..
使用化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)方法對(duì)碳化硅晶片進(jìn)行了超精密拋光試驗(yàn),探究了滴液速率、拋光頭轉(zhuǎn) 速、拋光壓力、拋光時(shí)長(zhǎng)及晶片吸附方式等工藝參數(shù)對(duì)晶片表面粗糙度...
晶圓制造recipe(工藝配方)的定義、重要性、種類及構(gòu)建和驗(yàn)證方式
本文介紹了在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,recipe(工藝配方)的定義、重要性、種類,以及構(gòu)建和驗(yàn)證方式,并介紹了優(yōu)化方向。 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,recipe(工藝配...
激光微加工領(lǐng)域六大工藝和應(yīng)用發(fā)展
隨著全球制造業(yè)向精細(xì)化、智能化、定制化方向發(fā)展,激光憑借其良好的單色性、方向性、亮度等特質(zhì)被廣泛應(yīng)用于工業(yè)制造、生物醫(yī)療、軍事等領(lǐng)域,已形成了遍布全球的...
等離子體工藝廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中。比如,IC制造中的所有圖形化刻蝕均為等離子體刻蝕或干法刻蝕,等離子體增強(qiáng)式化學(xué)氣相沉積(PECVD)和高密度等離子體...
裝片又稱黏片。廣義的裝片是指通過精密機(jī)械設(shè)備將芯片或其他載體,利用粘貼介質(zhì)將其固定在為達(dá)成某種功能而構(gòu)建的平臺(tái)、腔體或任意材料組成的器件內(nèi)。狹義的裝片是...
直接覆銅技術(shù)(DBC)是一種基于氧化鋁陶瓷基板金屬化的技術(shù),最早出現(xiàn)于20世紀(jì)70年代。DBC技術(shù)是利用銅的含氧共晶液將銅直接與陶瓷進(jìn)行敷接的一項(xiàng)技術(shù),...
模具溫度40~50℃,注射壓力:200~600bar,注射速度建議使用快速的注射速度,流道和澆口可以使用所有常規(guī)類型的澆口。PS料在加工前,除非儲(chǔ)存不當(dāng)...
液態(tài)金屬澆注到與零件形狀、尺寸相適應(yīng)的鑄型型腔中,待其冷卻凝固,以獲得毛坯或零件的生產(chǎn)方法,通常稱為金屬液態(tài)成形或鑄造。
PCB拼版是將多個(gè)小尺寸的PCB板通過一定方式連接在一起,形成一個(gè)大尺寸的板塊;通過拼版,可以在一次生產(chǎn)過程中同時(shí)加工多個(gè)PCB,減少機(jī)器換料和調(diào)整時(shí)間...
PCB的保存和烘烤時(shí)間跟地區(qū)有很大的關(guān)系,在南方濕氣一般比較重,特別是在廣東和廣西這些地區(qū),在每年的三四月份會(huì)出現(xiàn)有“回南天”的天氣,每天陰雨連綿,這時(shí)...
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