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      asml

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      asml資訊

      ASML創(chuàng)始人逝世...

      當(dāng)?shù)貢r間6月11日，光刻機巨頭ASML在 領(lǐng)英 平臺發(fā)文悼念公司創(chuàng)始人之一Wim Troost（維姆·特羅斯）離世。 據(jù)百能云芯電.子元器.件商.城了解...

      2024-06-14 標(biāo)簽：ASML 1.7k 0

      光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世

      圈內(nèi)突發(fā)噩耗，光刻巨人去世； 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報道，在當(dāng)?shù)貢r間11日晚，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML...

      2024-06-13 標(biāo)簽：光刻機ASML 8.1k 0

      ASML創(chuàng)始人離世！

      來源：EETOP，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 從ASML社交帳號得知，ASML創(chuàng)始人之一維姆·特羅斯（Wim Troost） 離世。 ASML 在...

      2024-06-13 標(biāo)簽：ASML 823 0

      阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯(lián)合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用

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      近日，全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布，位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式...

      2024-06-06 標(biāo)簽：光刻IMECASML 1.5k 0

      今日看點丨ASML今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV；理想 L9 出事故司機質(zhì)疑 LCC，產(chǎn)品經(jīng)理回應(yīng)

      1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報道，芯片制造設(shè)備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數(shù)值...

      2024-06-06 標(biāo)簽：英特爾臺積電ASML 2.2k 0

      阿斯麥和IMEC聯(lián)合光刻實驗室啟用

      近日，比利時微電子研究中心（IMEC）與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥（ASML）共同宣布，在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室。

      2024-06-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)ASML 1.5k 0

      ASML創(chuàng)下新的EUV芯片制造密度記錄，提出Hyper-NA的激進方案

      ASML在imec的ITF World 2024大會上宣布，其首臺High-NA（高數(shù)值孔徑）設(shè)備已經(jīng)打破了之前創(chuàng)下的記錄，再次刷新了芯片制造密度的標(biāo)準(zhǔn)。

      2024-05-30 標(biāo)簽：芯片制造EUVASML 1.8k 0

      臺積電魏哲家與ASML高層會面，是否有意購買高數(shù)值孔徑極紫外光機臺？

      此前，該公司首席執(zhí)行官魏哲家曾明確表示，過早引入High-NA EUV并無太大經(jīng)濟效益，直到日前其秘密訪問ASML總部，使市場猜測臺積電是否因此事發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。

      2024-05-29 標(biāo)簽：臺積電EUV半導(dǎo)體行業(yè) 1.3k 0

      臺積電轉(zhuǎn)變態(tài)度？秘密訪問ASML總部引發(fā)行業(yè)關(guān)注

      宿敵英特爾則積極投身于新興高數(shù)值孔徑超紫外光刻領(lǐng)域，已有數(shù)臺設(shè)備投入其芯片制造部門使用。據(jù)透露，英特爾正計劃在即將推出的18A（1.8納米）工藝節(jié)點中試...

      2024-05-28 標(biāo)簽：英特爾臺積電光刻技術(shù) 1.3k 0

      Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意，未采用高NA EUV光刻機

      在全球四大先進制程代工巨頭（包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。

      2024-05-27 標(biāo)簽：EUVASML先進制程 1.4k 0

      后門！ASML可遠程鎖光刻機！

      來源：國芯網(wǎng)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 5月22日消息，據(jù)外媒報道，臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機，暗藏后門，可以在必要的時候執(zhí)行遠程...

      2024-05-24 標(biāo)簽：光刻機EUVASML 1.4k 0

      ASML聯(lián)手荷蘭埃因霍溫理工大學(xué)投入1.8億歐元研發(fā)半導(dǎo)體技術(shù)

      自成立以來，ASML一直在尋求新的發(fā)展機會，并不斷審視荷蘭埃因霍溫總部的人才資源及基礎(chǔ)設(shè)施是否能滿足其擴張需求。因此，ASML與埃因霍溫理工大學(xué)的合作不...

      2024-05-24 標(biāo)簽：半導(dǎo)體人工智能芯片產(chǎn)業(yè) 1.9k 0

      ASML考慮推出通用EUV光刻平臺

      范登布林克指出，更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說，Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產(chǎn)流程，避免因使用 High NA 光刻機進行雙...

      2024-05-23 標(biāo)簽：分辨率光刻機EUV 1.1k 0

      荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機

      阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據(jù)彭博社爆料稱，有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔(dān)憂。對此，光刻機制造商阿斯麥（ASML）向荷蘭官...

      2024-05-22 標(biāo)簽：臺積電光刻機ASML 6.6k 0

      歐洲芯片行業(yè)應(yīng)強化研究與關(guān)鍵設(shè)備制造，避免過度追求尖端芯片制造

      他進一步指出，全球最大設(shè)備制造商ASML的成功離不開德國光學(xué)及imec的研究貢獻。此外，歐洲還擁有諸如ASM International等小型卻重要的設(shè)備企業(yè)。

      2024-05-22 標(biāo)簽：英特爾芯片制造ASML 861 0

      臺積電張曉強：ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵

      據(jù)今年2月份報道，荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價，高達3.5億歐元（約合27.16億元人民幣）...

      2024-05-15 標(biāo)簽：臺積電半導(dǎo)體制造ASML 1.3k 0

      今日看點丨臺積電稱無需ASML新光刻機即可制造下一代A16芯片；傳比亞迪進軍越南受阻

      1. 本田裁減中國員工1700 人 或?qū)p少6 月工廠運營天數(shù) ? 由于銷量下滑，本田汽車正在縮減其在中國的全職生產(chǎn)員工隊伍，目前已有約1700名員工同...

      2024-05-15 標(biāo)簽：比亞迪臺積電光刻機 1.5k 0

      臺積電未確定是否采購阿斯麥高數(shù)值孔徑極紫外光刻機

      盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設(shè)計尺寸縮減達三分之二，但芯片制造商需要權(quán)衡利弊，考慮其高昂的成本及ASML老款設(shè)備的可靠性問題。

      2024-05-15 標(biāo)簽：臺積電EUVASML 1k 0

      ASML EUV設(shè)備訂單全歸英特爾，三星、SK海力士需等到下半年

      消息人士透露，ASML此類設(shè)備年產(chǎn)量大約在五至六臺之間，意即英特爾全數(shù)預(yù)定了初期產(chǎn)能。他們進一步指出，由于英特爾迅速報出重返芯片代工市場，從而迅速購得這些設(shè)備。

      2024-05-08 標(biāo)簽：英特爾芯片代工ASML 1.2k 0

      英特爾完成首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機安裝，助力代工業(yè)務(wù)發(fā)展

      　知情人士透露，由于ASML高數(shù)值孔徑EUV設(shè)備產(chǎn)能有限，每年僅能產(chǎn)出5至6臺，因此英特爾將獨享初始庫存，而競爭對手三星和SK海力士預(yù)計需等到明年下半年...

      2024-05-08 標(biāo)簽：英特爾EUVASML 1.5k 0

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