奈米圖案成形系統(tǒng)與解決方案的市場與技術(shù)廠商Molecular Imprints， Inc. （MII） 宣佈，該公司已經(jīng)獲得一份包含多個壓印範本的採購訂單。這些範本將被整合進某半導(dǎo)體設(shè)備公司的光刻機中
2012-09-26 10:18:01
1467 記者２３日從中科院光電技術(shù)研究所獲悉，該所微電子專用設(shè)備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。
2016-03-24 08:28:5114774 在過去的幾年中，納米壓印光刻引起了越來越多的興趣。事實上，似乎有越來越多的潛在納米壓印應(yīng)用和基本納米壓印光刻概念的變化。不同的納米壓印變體對于特定的最終用途應(yīng)用各有優(yōu)缺點，總體贏家和輸家仍有待分選
2022-03-30 14:30:228540 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
關(guān)于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復(fù)制到光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上。 當然
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。在微流控芯片加工中，SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運用
2018-07-12 11:57:08
（電子科技大學(xué) 微電子與固體電子學(xué)院，成都 610054）摘 要：光刻膠技術(shù)是曝光技術(shù)中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
Futurrex,成立于1985年，位總部設(shè)在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
什么是備用電源？它是如何進行工作的？備用電源的作用是什么？有哪些分類？
2021-10-21 08:07:12
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認知無線電（名詞解釋） 4半導(dǎo)體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù)： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
打印機的原理是什么？它是如何工作的？
2021-11-11 06:30:56
`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場的持續(xù)增長，LED制造業(yè)對于產(chǎn)能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術(shù)迅速成為LED制造業(yè)普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業(yè)標準?！ 〖?b class="flag-6" style="color: red">光刻
2011-12-01 11:48:46
虛擬儀器是什么？它是怎樣工作的？虛擬儀器的優(yōu)勢有哪些？與傳統(tǒng)儀器相比，虛擬儀器有哪些不足？虛擬儀器能解決什么問題和達到什么效果？
2021-04-15 06:30:36
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 擺脫光刻技術(shù)的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸入式光刻技術(shù)仍然遠遠領(lǐng)先。業(yè)界一度認為193nm浸入式光刻會在32nm遭遇極限
2011-03-21 10:00:333279 
隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小，光刻技術(shù)和光刻設(shè)備發(fā)生著顯著變化。通過對目前國內(nèi)外光刻設(shè)備生產(chǎn)廠商對下一代光刻技術(shù)的開發(fā)及目前已經(jīng)應(yīng)用到先進生產(chǎn)線上
2011-10-31 16:38:1770 對先進光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:418137 
本文提到MEMS技術(shù)中所應(yīng)有的光刻技術(shù)，幫助讀者了解光刻技術(shù)的原理，應(yīng)用。
2016-04-28 11:35:320 本文以光刻機為中心，主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結(jié)構(gòu)組成、光刻機的性能指標、光刻機的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01166595 
在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中，投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光刻技術(shù)相比，具有生產(chǎn)率高、成本低、易實現(xiàn)高的對準和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點，一直是半導(dǎo)體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術(shù)。
2018-04-10 11:26:34217055 
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4135720 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:004076 ”的同時，NGL正在研究，包括極紫外線光刻技術(shù)，電子束光刻技術(shù)，X射線光刻技術(shù)，納米壓印技術(shù)等。
光學(xué)光刻技術(shù)
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件
2018-06-27 15:43:5013171 西村涼博士表示，液晶聚合物相位差膜的價格原來比較高，10年以來一直在降低成本，JXTG也通過很多其他材料特性來做驗證，而最終成功研發(fā)出納米壓印技術(shù)來實現(xiàn)更簡單的工藝和制造成本。JXTG的納米壓印技術(shù)，可通過周期性的納米尺寸凹凸構(gòu)造從而實現(xiàn)相位延遲。
2018-07-13 10:51:346642 。
01光刻技術(shù)的基本原理
光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑（或稱光刻膠）感光后因光化學(xué)反應(yīng)而形成耐蝕性的特點，將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。
光刻半導(dǎo)體芯片二氧化硅的主要步驟
2019-01-02 16:32:2329613 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:536886 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2912772 ;極限”的同時，NGL正在研究，包括極紫外線光刻技術(shù)，電子束光刻技術(shù)，X射線光刻技術(shù)，納米壓印技術(shù)等。
光學(xué)光刻技術(shù)
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路
2019-05-08 10:58:4711732 聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時也是全球唯一可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線 2019年8月28日，奧地利
2019-08-29 22:48:032854 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-11-23 10:45:54168874 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4023322 近日，埃眸科技與常熟高新區(qū)正式簽署項目協(xié)議，打造納米壓印光刻機生產(chǎn)線。
2020-04-13 16:18:059002 納米壓印光刻技術(shù)及其應(yīng)用的需求正在不斷變化。因此，此次合作的基本目標是了解市場最新需求，進而通過雙方在工藝和材料方面的優(yōu)勢，合力開發(fā)出相應(yīng)的解決方案，從而應(yīng)對該行業(yè)不斷出現(xiàn)的嚴峻挑戰(zhàn)。
2020-06-17 14:27:425742 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:3611493 
EVG技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)Markus Wimplinger表示：“為推動納米壓印技術(shù)的發(fā)展，我們成立了NILPhotonics Competence Center。EVG與納米壓印產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)合作，如Inkron等
2020-10-13 14:43:543237 導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:5410099 近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點。芯片制造離不開光刻機，而光刻技術(shù)則是光刻機發(fā)展的重要推動力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個分支，除了光刻機外，還包括光源、光學(xué)元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3621975 產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)技術(shù)。目前，納米壓印技術(shù)在國際半導(dǎo)體藍圖（ITRS）中被列為下一代32nm、22nm和16nm節(jié)點光刻技術(shù)的代表之一。國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備制造商、材料商以及工藝商紛紛開始涉足這一領(lǐng)域，短短25年，已經(jīng)取得很大進展。 ? 納米壓印技術(shù)首先通過接觸式壓印
2021-01-03 09:36:0028855 
5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別？ EUV光刻機產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3025243 經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2021-03-30 09:19:413514 
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什么是能量跟蹤，它是如何工作的？
產(chǎn)品開發(fā)過程中分析和記錄系統(tǒng)功耗是非常重要的，特別是對于電池供電類產(chǎn)品，而另一方面，精確測量功耗的設(shè)備又非常的昂貴并且不容易掌握。用于
2022-01-20 15:13:531980 所需的特征。因為用于器件制造的光刻涉及使用光學(xué)曝光來創(chuàng)建圖案，所以半導(dǎo)體光刻通常被稱為“光刻”。與已經(jīng)討論的檢查和計量技術(shù)一樣，光刻是圖案化的選擇技術(shù)，因為它是光學(xué)的，因此能夠?qū)崿F(xiàn)小特征和高晶片產(chǎn)量。這與直
2022-03-14 15:20:533396 
壓印技術(shù)是指將“模具”壓在柔軟的樹脂等，將形狀轉(zhuǎn)印的技術(shù)。如下示意圖，可將樹脂壓在模具（mold）上轉(zhuǎn)印形狀，同理也可將形狀從金屬或玻璃制圓筒形模具上將形狀轉(zhuǎn)印到薄膜等。
2022-06-30 10:48:174547 機是哪個國家的呢？ euv光刻機許多國家都有，理論上來說，芯片強國的光刻機也應(yīng)該很強，但是最強的光刻機制造強國，不是美國、韓國等芯片強國，而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:278556 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087066 光刻機的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上，通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù)，具有效率高、無損傷等優(yōu)點。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:1018347 根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:534814 
沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣，而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實際上，浸入式技術(shù)利用光通過液體介質(zhì)后光源波長縮短來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。
2022-10-13 16:51:385293 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:056458 計算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計算機輔助技術(shù)來增強光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法，它是分辦率增強技術(shù)(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:224102 光刻是半導(dǎo)體工業(yè)的核心技術(shù)。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發(fā)明單片集成電路以來，光刻一直是主要的光刻技術(shù)。
2022-11-14 11:36:464275 ROG幻16 經(jīng)典版2023吸納宇宙炫彩射線靈感，新創(chuàng)時尚星際黑配色。A面除了更加精密的CNC開孔打造幻彩棱鏡光效，還搭配納米壓印光刻炫彩銘牌，輕薄且高顏值。
2023-02-19 10:02:435889 .什么是納米壓印**
納米壓印技術(shù)，從字面的意思剖析。納米代表了這個技術(shù)加工的尺度是（納米：Nanometer，符號:nm，即為毫微米，是長度的度量單位。1納米=10的負9次方米。）。壓印則是代表
2023-02-20 15:20:1222982 
日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，鎧俠 (KIOXIA）、佳能和大日本印刷等公司則規(guī)劃在2025年將該技術(shù)實用化。
2023-03-22 10:20:393972 為2nm及更先進芯片的生產(chǎn)提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設(shè)計和制造領(lǐng)域中最大的計算工作負載，每年消耗數(shù)百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術(shù)實現(xiàn)計算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:378958 
光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:132814 
光刻技術(shù)簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:324853 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:032240 EUV光刻技術(shù)仍被認為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:044249 
納米壓印技術(shù)，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:472516 
中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:171129 
據(jù)新維度公司總經(jīng)理羅鋼博士介紹，新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術(shù)系統(tǒng)，是世界主要納米壓印技術(shù)路線之一。
2023-07-20 10:58:363042 光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:533939 
璞璘科技成立于2017年，致力于納米壓印設(shè)備及材料的生產(chǎn)和開發(fā)。據(jù)璞璘科技官方消息，公司是目前國內(nèi)市場上唯一一家集納米壓印設(shè)備、材料、技術(shù)于一體的納米壓印尖端微納米制造企業(yè)。
2023-10-13 10:03:234246 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:151810 
納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌?b class="flag-6" style="color: red">光刻工藝，是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機，進行了大規(guī)模生產(chǎn)，并取得了不錯的效果。
2023-11-08 14:34:022455 據(jù)DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引進佳能納米壓印設(shè)備，正在進行測試與研發(fā)，目標在2025年左右將該設(shè)備用于3D NAND量產(chǎn)。有業(yè)內(nèi)人士表示：“與EUV相比，納米壓印技術(shù)形成圖案
2023-11-10 16:25:062347 
今天想來聊一下芯片設(shè)計中的一個重要macro——PLL，全稱Phase lock loop，鎖相環(huán)。我主要就介紹一下它是什么以及它是如何工作的。
2023-12-06 15:21:133126 對于納米壓印技術(shù)，佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)部巖本和德介紹道，它是通過將刻有半導(dǎo)體電路圖的掩膜壓制于晶圓之上完成二維或三維電路成型的過程。巖本進一步補充道，若對掩膜進行改良，將有可能實現(xiàn)2nm級別的電路線條寬度。
2023-12-25 14:51:511654 佳能近日表示，計劃年內(nèi)或明年上市使用納米壓印技術(shù)的光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C。對比已商業(yè)化的EUV光刻技術(shù)，雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢，但由于制程簡化，耗電僅為EUV的十分之一，且投資額也僅為EUV設(shè)備的四成。
2024-01-31 16:51:182045 Takeishi向英國《金融時報》表示，公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C，并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:051616 
在探索微觀世界的奧秘中，納米技術(shù)以其獨特的尺度和潛力，開啟了一扇通往未知領(lǐng)域的大門。納米壓印技術(shù)（Nanoimprint Lithography, NIL），作為納米制造領(lǐng)域的一項高精度的微納加工技術(shù)
2024-08-26 10:05:034644 
其中。 ? 報道援引知情人士的消息稱，蘋果退出了最近一輪的談判，該輪融資預(yù)計將于下周結(jié)束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達也參與了這一輪談判。有消息稱微軟預(yù)計將在此前已向該公司投資130億美元的基礎(chǔ)上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次出貨納米壓印光刻機
2024-09-29 11:24:291303 ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽為芯片制造的核心設(shè)備
2024-11-24 09:16:387674 ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當光刻機的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至65nm
2024-11-24 11:04:144452 
?? 光刻掩膜簡介 ?? ? 光刻掩膜（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常簡稱“mask”，是半導(dǎo)體制造過程中用于圖案轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，對于光刻工藝的重要性不弱于光刻機、光刻
2025-01-02 13:46:225050 
來源：John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會 9月，佳能交付了一種技術(shù)的首個商業(yè)版本，該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)（NIL
2025-01-09 11:31:181280 本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456363 
光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503711 
隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢，在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491374 
在半導(dǎo)體芯片制造、光學(xué)元件加工以及生物醫(yī)療器件研發(fā)等領(lǐng)域，微納結(jié)構(gòu)的加工精度正朝著原子級精度不斷邁進。傳統(tǒng)光刻技術(shù)由于受到波長衍射極限的制約，當加工尺度進入10nm以下時，不僅面臨著成本急劇上升
2025-06-19 10:05:36767 
與成熟制程市場提供更多設(shè)備產(chǎn)能支持。 據(jù)介紹，這座新工廠是佳能在 2023 年開始動工建設(shè)的，并可能使用自家開發(fā)的 Nanoimprint (納米壓印) 技術(shù)，總投資額超過 500 億日元，涵蓋廠房與先進制造設(shè)備。新廠面積達 6.75 萬平方公尺，投產(chǎn)后將使光刻設(shè)備總產(chǎn)能提
2025-08-04 17:39:28712 電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212555 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:154710 
壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注，是最有機會率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時候，根據(jù)英國金融時報的報道，負責監(jiān)督新型光刻機開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱，采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:005545 
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