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全面分析MOSFET狀況

0GkM_KIA ? 來源:djl ? 作者:KIA半導(dǎo)體 ? 2019-08-12 09:34 ? 次閱讀
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MOSFET,金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管,簡稱金氧半場效晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)是一種可以廣泛使用在模擬電路與數(shù)字電路的場效晶體管(field-effect transistor)。

MOSFET依照其“通道”(工作載流子)的極性不同,可分為“N型”與“P型” 的兩種類型,通常又稱為NMOSFET與PMOSFET,其他簡稱尚包括NMOS、PMOS等。

本文主要涉及到的內(nèi)容有:

(1)半導(dǎo)體物理最基本的概念:載流子、溝道、耗盡層、反型層;

(2)MOSFET核心部分;

(3)MOSFET工作基本原理;

(4)MOSFET工作特性分析;

(5)MOSFET命名與符號理解;

(6)MOSFET主要參數(shù)。

(一)基本概念-半導(dǎo)體

金屬材料可以導(dǎo)電,絕緣材料不導(dǎo)電,那怎么樣實現(xiàn)一個東西既能夠?qū)щ娪帜軌虿粚?dǎo)電?那就是半導(dǎo)體。MOSFET作為一種半導(dǎo)體器件,我們需要它實現(xiàn)的功能按最簡單話來說就是既能夠?qū)崿F(xiàn)電路的通,又能夠?qū)崿F(xiàn)電路的斷。

放在數(shù)字電路里,這就是實現(xiàn)0和1的方式,在功率電路里,這就是實現(xiàn)PWM轉(zhuǎn)換器工作的基本手段,這都是后話。

如何實現(xiàn)通?當材料內(nèi)部具有自由移動的電子(負電荷)或者空穴(正電荷)的時候就是導(dǎo)通的(假如說電子或空穴被晶格束縛,那么同樣無法導(dǎo)電),存在載流子的時候材料是導(dǎo)通的。如何實現(xiàn)斷?那就是將一定區(qū)域內(nèi)的自由載流子去除,材料就不能夠?qū)щ娏?,從而達到阻斷電流的作用。

我們目前用得最多的半導(dǎo)體材料,比如硅(Si),是Ⅳ族元素,本身最外層電子為4,可以形成穩(wěn)定的晶格結(jié)構(gòu),因此它本身是無法導(dǎo)電的,如下圖所示,所有電子和原子核都被牢牢束縛在穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)中出不來,所以沒有自由移動的電荷。

全面分析MOSFET狀況

而當材料中摻雜了其他元素,比如說Ⅲ族或者Ⅴ族元素,甚至其他元素,取代了晶格中的位置。摻雜Ⅴ族元素,結(jié)構(gòu)中就有了除了最外層4個以外的一個電子(即多數(shù)載流子為電子),摻雜了Ⅲ族元素,結(jié)構(gòu)中就缺了一個電子構(gòu)成穩(wěn)定結(jié)構(gòu),即形成一個空穴(即多數(shù)載流子為空穴)。

如下圖所示,左圖為摻雜Ⅴ族元素的示意圖,Ⅴ族元素最外層有五個電子,四個電子參與形成共價鍵,因此還剩余一個電子;右圖為摻雜Ⅲ族元素的示意圖,Ⅲ族元素最外層有三個電子,只有三個電子用于形成共價鍵,因此留下一個空穴。為了方便,可以直接將電子和空穴理解成負電荷和正電荷。

全面分析MOSFET狀況

由于帶電粒子在電場中會發(fā)生移動,假如在電場的作用下,使得結(jié)構(gòu)中的電子和空穴都跑掉了,那么這個區(qū)域不存在自由移動的載流子,因此區(qū)域就不再導(dǎo)電,這樣的區(qū)域稱為耗盡區(qū)(載流子被電場耗盡)。

牢牢記住,耗盡區(qū)內(nèi)不存在自由移動的載流子,因此是斷開狀態(tài)。MOS的核心原理就是利用電場的作用,使得一定區(qū)域時而導(dǎo)電時而斷開。

(二)MOSFET 核心部分

1、MOSFET是什么?為什么叫MOSFET?

MOSFET全稱Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor。即金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管。名字一長串,一看就記不住。相信大家跟我應(yīng)該是一樣的感覺。

但這個名字實際上是跟其結(jié)構(gòu)息息相關(guān),只要理解它,記住并不是難事。為什么這么說,我們看下圖中的核心結(jié)構(gòu)(這不是MOSFET,僅僅是取其中局部進行講解)。從上往下依次是金屬、氧化層、摻雜的半導(dǎo)體材料,連起來不就是Metal-Oxide-Semiconductor了嗎,有其名必有其因。

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2、那何為Field-Effect Transistor?

這里的Field自然指電場,所以FET實際上就是指這種器件是電場驅(qū)動的晶體管。如果在上下極板加上正電壓,就會在材料中建立電場,如下圖所示,其中綠色的線為電場線。

全面分析MOSFET狀況

由于圖中這里所示為P摻雜(Ⅲ族元素摻雜),紅色區(qū)域中存在空穴(也就是正電荷),在外加電場的作用下,正電荷就會往下離開,從而在上表面形成不含有自由載流子的區(qū)域,也就是耗盡區(qū)(depletion region)。

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而施加的電壓足夠高時,將把耗盡層內(nèi)的空穴進一步驅(qū)趕,并吸引電子往上表面運動,在上表面堆積可以導(dǎo)電的電子,從而形成N型半導(dǎo)體,從而形成反型層(之所以叫反型層是指在電場作用下,該區(qū)域內(nèi)的自由載流子與摻雜形成的半導(dǎo)體載流子相反)。

一般我們將開始形成反型層時施加的電壓稱為 ,即門檻電壓。反型層也就是我們后面要提到的導(dǎo)電溝道(沿水平方向形成導(dǎo)電溝道)。這到底和MOSFET工作有什么關(guān)系?

全面分析MOSFET狀況

在維基百科上看到的導(dǎo)電溝道形成的圖很有意思,分享給大家:

全面分析MOSFET狀況

(三)MOSFET 工作原理

以平面耗盡型N溝道MOSFET為例,基本結(jié)構(gòu)如下圖所示。可以看到,從左到右為NPN的摻雜,在擴散作用下,會自然形成像圖中所示的深紅色的耗盡區(qū)(depletion region),根據(jù)前面所述,耗盡區(qū)是不能導(dǎo)電的,因此漏極(Drain)到源極(Source)在未加外加電場的時是斷開的,因此該結(jié)構(gòu)是Normal off的結(jié)構(gòu)。

全面分析MOSFET狀況

注意到,圖中正中心區(qū)域就是之前講的核心部分,從上往下,橘黃色,黃色,淺紅色依次為金屬、氧化物、P摻雜。當VGS>0,會開始在氧化層下面首先形成新的耗盡層,如下如所示。

全面分析MOSFET狀況

當VGS大于VTH,形成反型層,如下圖所示。

全面分析MOSFET狀況

由于反型層相當于N摻雜的半導(dǎo)體,因此D和S直接直接連通,因此MOSFET導(dǎo)電溝道形成,進入導(dǎo)通狀態(tài)。

(四)MOSFET 輸出特性

如下圖所示為增強型N溝道MOS輸出特性。

全面分析MOSFET狀況

對于上圖所示的MOS,有三種工作區(qū)域:

1)夾斷區(qū)(cutoff mode)

當VGS<Vth,時MOS處于此工作區(qū)域,基本處于斷開狀態(tài),但是此時仍存在較微弱的反型層,存在漏電流,其大小電流滿足:

全面分析MOSFET狀況

2)線性區(qū)(linear mode)

當VGS>Vth且VDS<VGS-Vth時為此區(qū)域,電流滿足:

全面分析MOSFET狀況

3)飽和區(qū)(saturation mode)

當VGS>Vth且VDS≥(VGS-Vth)時為飽和區(qū),電流滿足:

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(五)MOSFET 符號與命名

前面僅僅是談到了增強型P溝道的MOSFET,而實際上的MOSFET是一個大家族,還有很多兄弟姐妹,下圖中除了JFET以外都是MOSFET。這么多符號怎么記住呢?有規(guī)律!

全面分析MOSFET狀況

1、門極符號

MOSFET不同于JFET,在Gate是不與導(dǎo)電溝道相連的,是有一層氧化絕緣層的,因此從符號中可以看出,MOSFET中Gate和溝道是由縫隙的,也就是有兩條豎線,或者一條豎線與三段虛線,而JFET則是一條豎線。

另外,細心的你可能還會發(fā)現(xiàn),有的Gate形狀為“L”,有的則是“T”,如果是“L”,意味著Gate和Source在物理結(jié)構(gòu)上靠得更近。

2、溝道形狀

增強型MOSFET在未加外部電壓時為斷開(normal off),而耗盡型MOSFET則在未加外部電壓時為導(dǎo)通(normal on)。所以增強型MOSFET的溝道為三段虛線,意味著還未導(dǎo)通,而耗盡型MOSFET的溝道則是一條直線。

3、箭頭方向

對于含有bulk connection的MOSFET,區(qū)分P溝道與N溝道就是靠箭頭方向。箭頭方向遵循一個準則,P指向N,如果溝道是P,則由溝道指向外,如果溝道是N,則由外指向溝道。

(六)MOSFET主要參數(shù)

MOSFET參數(shù)很多,包括直流參數(shù)、交流參數(shù)和極限參數(shù),但一般使用時關(guān)注以下主要參數(shù):

1、IDSS—飽和漏源電流。是指結(jié)型或耗盡型絕緣柵場效應(yīng)管中,柵極電壓UGS=0時的漏源電流。

2、UP—夾斷電壓。是指結(jié)型或耗盡型絕緣柵場效應(yīng)管中,使漏源間剛截止時的柵極電壓。

3、UT—開啟電壓。是指增強型絕緣柵場效管中,使漏源間剛導(dǎo)通時的柵極電壓。

4、gM—跨導(dǎo)。是表示柵源電壓UGS—對漏極電流ID的控制能力,即漏極電流ID變化量與柵源電壓UGS變化量的比值。gM是衡量場效應(yīng)管放大能力的重要參數(shù)。

5、BUDS—漏源擊穿電壓。是指柵源電壓UGS一定時,場效應(yīng)管正常工作所能承受的最大漏源電壓。這是一項極限參數(shù),加在場效應(yīng)管上的工作電壓必須小于BUDS。

6、PDSM—最大耗散功率。也是一項極限參數(shù),是指場效應(yīng)管性能不變壞時所允許的最大漏源耗散功率。使用時,場效應(yīng)管實際功耗應(yīng)小于PDSM并留有一定余量。

7、IDSM—最大漏源電流。是一項極限參數(shù),是指場效應(yīng)管正常工作時,漏源間所允許通過的最大電流。場效應(yīng)管的工作電流不應(yīng)超過IDSM。

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