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Intel首次談及5nm工藝進(jìn)展良好 預(yù)計(jì)2023年問世

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來源:wv ? 作者:快科技 ? 2019-10-26 10:59 ? 次閱讀
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10月25日凌晨,Intel發(fā)表了Q3季度財(cái)報(bào),營收持平但盈利下滑了6%。對(duì)Intel來說,最大的挑戰(zhàn)還是他們的芯片工藝,在這次財(cái)報(bào)會(huì)議,Intel CEO司睿博也談到了工藝進(jìn)展,10nm工藝開始量產(chǎn),并首次談到5nm工藝進(jìn)展良好。

對(duì)于10nm工藝,Intel表示他們?cè)诿绹就炼砝諏菁耙陨械木A廠已經(jīng)開始量產(chǎn)10nm工藝,亞利桑那州的晶圓廠很快也會(huì)跟進(jìn)。

面向移動(dòng)市場(chǎng)的IceLake-U處理器6月份開始出貨,今年已經(jīng)有50多個(gè)客戶產(chǎn)品,其中30多個(gè)已經(jīng)開始出貨。

除了10nm筆記本處理器之外,10nm工藝還會(huì)有FPGA產(chǎn)品AGILEX,今年Q3季度已經(jīng)開始出貨。

再往后就是明年的AI加速芯片Spring Hill、5G基站芯片Snow Ridge及服務(wù)器芯片IceLake-SP,它們會(huì)在明年陸續(xù)出貨。

值得注意的是,Intel還首次提到了10nm工藝的獨(dú)顯,首發(fā)的是GPU DG1,也就是Gen12 LP架構(gòu)的,后者也會(huì)用于10nm Tiger Lake處理器,傳聞性能是GTX 1050級(jí)別的。

雖然10nm工藝延遲多年,但是今年開始步入正軌,司睿博也表示Intel“10nm工藝時(shí)代正式開始了。”

在10nm之后,Intel會(huì)在2021年推出7nm工藝,這是Intel首個(gè)應(yīng)用EUV光刻技術(shù)的工藝,首發(fā)產(chǎn)品是數(shù)據(jù)中心GPU,不過目前沒有具體詳情,Intel只是重申了進(jìn)度。

7nm工藝對(duì)Intel也非常重要,因?yàn)檫@代工藝吸取了10nm工藝指標(biāo)定的太高的教訓(xùn),從這一代開始Intel將恢復(fù)正常的工藝升級(jí)間隔,大約是2-2.5年升級(jí)一代,跟以往的Tick-Tock戰(zhàn)略差不多,要知道14到10nm期間Intel的工藝拖延了4年,拖累了整體表現(xiàn)。

在7nm之后,Intel將會(huì)進(jìn)入5nm節(jié)點(diǎn),司睿博表示Intel的5nm工藝進(jìn)度良好,但同樣沒有提及具體信息,這是Intel首次在官方場(chǎng)合提及5nm工藝。

結(jié)合2-2.5年升級(jí)的周期,Intel的5nm應(yīng)該是在2023年問世,如果不延期的話。

總之,在半導(dǎo)體制程工藝上,Intel的態(tài)度就是“我們將繼續(xù)保持制程優(yōu)勢(shì)?!?/p>

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