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臺積電5納米制程良率達到50% 將成為2020年重要的成長動能之一

半導體動態(tài) ? 來源:wv ? 作者:TechNews科技新報 ? 2019-10-28 16:32 ? 次閱讀
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根據(jù)臺積電總裁魏哲家日前在法人說明會中的說法指出,臺積電的5納米制程(N5)已進入風險試產階段,并有不錯的良率表現(xiàn)。對此,根據(jù)供應鏈的消息指出,目前已經進入風險試產階段的5納米制程其良率達到了50%,而且月產能可上看8萬片的規(guī)模。

此外,由于先前已經有消息指出,蘋果預計采用5納米制程,并將在2020年推出的A14處理器,臺積電方面也已經完成送樣,這也將使得5納米制程將會成為臺積電2020年重要的成長動能之一。

根據(jù)之前臺積電的說法,目前5納米制程已經完成研發(fā),并進入風險試產的階段,最快的量產時間將會落在2020年第1季,較之前預訂的2020年年中有所提前。至于在良率方面,目前根據(jù)供應鏈的消息表示,5納米良率已經達到50%的階段。而由于客戶的反應熱烈,臺積電5納米的制程自2019年下半年以來,也連續(xù)上調產能規(guī)劃,自每月約4.5萬片到5萬片,再到7萬片,未來甚至上看8萬片的產能。

而根據(jù)臺積電官方所公布的數(shù)據(jù)分析,相較于首代7納米(N7)制程,采用Cortex A72核心的全新5納米制程芯片,將能夠提升1.8倍的邏輯密度,運算速度提升15%,或者在相同邏輯密度下,降低功耗30%的表現(xiàn)。

除此之外,臺積電在7月份又發(fā)表了加強版的5納米+(N5P)制程,采用FEOL和MOL優(yōu)化功能,以便在相同功率下使芯片運行速度較N5提高7%,或在相同頻率下將功耗再降低15%。未來,臺積電的5納米制程還將全面采用EUV技術,相比7納米EUV只使用4層EUV光罩,5納米EUV的光罩層數(shù)將提升到14到15層,對EUV技術的利用更加充分。

至于,在客戶方面,目前臺積電的前5大客戶包括蘋果、海思、AMD、比特大陸和賽靈思積極搶產能的情況。其中,蘋果及華為的5納米芯片已經Tape out成功,預計A14及華為麒麟新處理器都會最先使用上5納米制程,而高通預定之后的驍龍875處理器也將會由三星轉回臺積電的5納米生產,但進度要比蘋果與華為晚。

另外,在PC處理器上,AMD也幾乎確定會使用臺積電的5納米在預計2021年首發(fā)Zen4架構處理器。而針對5納米的詳細細節(jié),臺積電日前表示,將在12月初的IEDM 2019大會上公布其具體情況,屆時將可更加深入了解臺積電在下一個先進制程上發(fā)展的狀況。

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