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格芯臺積電撤銷訴訟后互相給10年專利交叉許可 臺積電又啟動3nm研發(fā)大潮

電子工程師 ? 來源:網(wǎng)絡整理 ? 2019-11-02 11:14 ? 次閱讀
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日前,格芯和臺積電宣布,將撤銷兩家公司相互之間的以及涉及任何客戶的全部訴訟。兩家公司已經(jīng)同意,就各自在全球范圍內的現(xiàn)有半導體專利以及未來十年內將要申請的專利,互相給予對方寬泛的專利有效期交叉許可。兩家公司均將持續(xù)并大量投入半導體技術的研發(fā)。

這一決定確保了格芯和臺積電可以自由地從事各自的經(jīng)營活動,同時保證了其各自的客戶可以持續(xù)地獲得晶圓廠的完整的技術和服務。

今年8月26日,格芯在德國、美國得克薩斯州和特拉華州,以及美國國際貿(mào)易委員會共提起了25項訴訟,指控臺積電違反了十多項專利,涉及芯片和制造芯片的方法。

隨后,臺積電發(fā)布聲明稱,目前正在審視格芯于8月26日所提的訴訟內容,深信其侵權指控并無根據(jù),公司以一切可能的方法來反擊,以保護自主研發(fā)的專有技術。

雙方短暫”交火“了兩個月后,宣布和解。

格芯的首席執(zhí)行官Thomas Caulfield在聲明中稱:“我們很高興能夠迅速達成和解,這一和解方案也表明了我們各自的知識產(chǎn)權的優(yōu)勢。今天宣布這一決定可以使得我們兩家公司都能專注于技術創(chuàng)新,以及為全世界的客戶提供更優(yōu)質的服務?!彼€補充道:“格芯和臺積電之間的協(xié)議保護了格芯的增長能力,對于構成今天全球經(jīng)濟核心的半導體行業(yè)而言,這是整個行業(yè)的勝利?!?/p>

“半導體行業(yè)競爭總是相當激烈,驅動參與者去創(chuàng)新,而這些創(chuàng)新活動豐富了全球成百上千萬人們的生活。臺積電投入了數(shù)百億美元進行創(chuàng)新方能達到今日的領導地位”,臺積電的總法務長方淑華在聲明中稱,這一決定是積極的,使臺積電能專注于提升公司客戶對技術的需求,從而不斷引入創(chuàng)新,賦能整個半導體行業(yè)的繁榮和興盛?!?/p>

格芯是全球領先的特殊工藝半導體代工廠,格芯總部位于美國加利福尼亞州,但實際上,該公司由阿聯(lián)酋政府的投資部門Mubadala投資公司所有。

臺積公司成立于1987年,率先開創(chuàng)了專業(yè)積體電路制造服務之商業(yè)模式,并一直是全球最大的專業(yè)集成電路制造服務公司。臺積公司是首家提供7納米制程技術為客戶生產(chǎn)芯片的專業(yè)集成電路制造服務公司,其企業(yè)總部位于***新竹。

臺積電投入近萬人作戰(zhàn)

臺積電董事長劉德音昨(31)日主持***半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(TSIA)年度論壇結語時透露,臺積電會加大研發(fā)能量,將于竹科新建研發(fā)中心,打造成***的貝爾實驗室,預計再擴增8,000名研發(fā)大軍,投入未來二、三十年科技和材料研發(fā)及半導體產(chǎn)業(yè)的基礎研究。

臺積電目前在晶圓代工先進制程領先全球,這是劉德音首次針對臺積電即將打造的全新研發(fā)中心,提出未來研發(fā)方針及定位。業(yè)界解讀,臺積電此舉將可更進一步鞏固領先地位,狠甩英特爾、三星等勁敵。

臺積電過去五年已投資逾500億美元在技術研發(fā),以臺積電打算打造***貝爾實驗室的計劃,預定未來幾年仍會投入數(shù)百億美元在新科技和新材料的研發(fā),持續(xù)扮演***半導體業(yè)領頭羊。

臺積規(guī)劃新研發(fā)中心,基地位于新竹縣寶山鄉(xiāng),面積約32.7公頃,已向竹科管理局提出擴建計劃,目前全案已進入環(huán)評補件階段,根據(jù)臺積電之前的資料,整個3nm晶圓廠預計會在2020年正式動工建設,耗資超過4000億新臺幣,折合879億人民幣或者130億美元。。臺積電幕僚表示,未來臺積電3納米以下的研發(fā)都會在此研發(fā)中心進行。

由于摩爾定律逐漸到了物理極限,3nm被認為是最后的一代硅基半導體工藝,因為1nm節(jié)點會遭遇嚴重的干擾。為了解決這個問題,三星宣布在3nm節(jié)點使用GAA環(huán)繞柵極晶體管工藝,通過使用納米片設備制造出了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,多橋-通道場效應管),該技術可以顯著增強晶體管性能,主要取代FinFET晶體管技術。

與三星相比,臺積電并沒有公布過3nm工藝的具體技術細節(jié),預計也會改用全新結構的晶體管工藝,只不過目前尚無明確消息。

但臺積電方面表示,他們 3nm工藝技術研發(fā)非常順利,已經(jīng)有早期客戶參與進來,與臺積電一起進行技術定義,3nm將在未來進一步深化臺積電的領導地位。

目前,3nm工藝仍在早期研發(fā)階段,臺積電也沒有給出任何技術細節(jié),以及性能、功耗指標,比如相比5nm工藝能提升多少,只是說3nm將是一個全新的工藝節(jié)點,而不是5nm的改進版。

臺積電只是說,已經(jīng)評估了3nm工藝所有可能的晶體管結構設計,并與客戶一起得到了非常好的解決方案,具體規(guī)范正在進一步開發(fā)中,公司有信心滿足大客戶們的所有要求。

臺積電此前曾披露,計劃在2022年就量產(chǎn)3nm工藝。

臺積電追求技術自主,這幾年持續(xù)擴大研發(fā)規(guī)模,經(jīng)費逐年提高,去年研發(fā)經(jīng)費已占營收的8%,約達858.95億元新高,較前年的807.32億元增加,也超越***半導體業(yè)界,今年占比估為8.6%,金額站上千億元,再寫新猷。(綜合自經(jīng)濟日報等)

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