91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

GaN射頻技術(shù)將如何發(fā)展

iIeQ_mwrfnet ? 來源:微波射頻網(wǎng) ? 作者:微波射頻網(wǎng) ? 2020-10-26 10:06 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

5G為代表的Sub 6G通信射頻系統(tǒng)非常復(fù)雜,尤其是那些需要使用高載波頻率和寬頻帶的新技術(shù),包括載波聚合、Massive MIMO等。為此,很多半導(dǎo)體公司在技術(shù)上全面開花希望利用先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝技術(shù)應(yīng)對甚至引領(lǐng)新一代的通信技術(shù)需求。以ADI為例,該公司全面擁有GaN、GaAs和SiGe以及28納米CMOS等完整工藝,努力打造更具高集成度、低功耗和低成本的整合系統(tǒng)解決方案。

然而,在下一步的5G系統(tǒng)部署以及高端測試應(yīng)用和衛(wèi)星及航天應(yīng)用中,無疑以高帶寬和大功率為優(yōu)勢的GaN是其中的佼佼者,正在進(jìn)入許多應(yīng)用領(lǐng)域。那么,GaN射頻技術(shù)將如何發(fā)展?

1.襯底技術(shù)以SiC為主,襯底外延向大尺寸、低缺陷方向提升

高質(zhì)量的襯底和外延材料決定著器件的性能,而大尺寸的材料決定著器件的成本。未來5-10年,預(yù)計(jì)主流SiC、Si襯底將突破到6-8英寸。

(1)SiC襯底技術(shù)仍是主流,Si襯底有小部分應(yīng)用

目前90%以上GaN射頻器件采用高純半絕緣SiC襯底技術(shù),少部分采用Si襯底技術(shù)。

▲SiC/Si基GaN技術(shù)市場占有率預(yù)測

數(shù)據(jù)來源:Yole,CSA Research

SiC襯底的優(yōu)勢在于:散熱性能好,可以滿足大功率器件的散熱要求、外延工藝較為成熟,外延片缺陷密度較低、供應(yīng)鏈體系較為完善;但缺點(diǎn)在于襯底尺寸相對較小。SiC基GaN射頻器件適用于受性能驅(qū)動較大的應(yīng)用領(lǐng)域,其射頻器件的優(yōu)勢在于優(yōu)異的器件性能,能同時實(shí)現(xiàn)高頻高增益,適用于性能驅(qū)動的領(lǐng)域,如國防、宏基站等。

Si襯底的優(yōu)點(diǎn)在于:生長工藝成熟,可擴(kuò)展的晶圓尺寸較大,襯底價格較便宜,且基于成熟大尺寸Si襯底加工和與CMOS工藝兼容的器件加工工藝,規(guī)模量產(chǎn)后可以實(shí)現(xiàn)低成本;但是缺點(diǎn)在于Si襯底與GaN外延層晶格適配較大,外延片存在較高缺陷密度,且由于Si襯底散熱性能較差,主要適用于中小功率器件(因?yàn)橥ǔG闆r下,工作頻率越高,對器件的輸出功率要求會降低,因而對散熱要求也會同步降低)。因此Si基器件適用于受成本驅(qū)動較大以及對輸出功率要求相對較低的應(yīng)用領(lǐng)域,如無線回傳以及小基站、射頻能量(例如微波爐加熱功能)、有線電視(CATV)、衛(wèi)星通信系統(tǒng)(VSAT)等領(lǐng)域。

▲SiC基、Si基GaN技術(shù)適用領(lǐng)域?qū)Ρ?/p>

資料來源:Yole,CSA Research

(2)襯底及外延材料向更大尺寸和更低缺陷發(fā)展

襯底和外延材料將繼續(xù)沿著大尺寸、低缺陷、高均勻性生長方向發(fā)展。SiC基和Si基GaN異質(zhì)外延片作為目前應(yīng)用廣泛的兩種襯底材料,最大商用尺寸為6英寸。SiC襯底技術(shù)在從4英寸向6英寸過渡,為進(jìn)一步降低器件成本,業(yè)界已經(jīng)研發(fā)出8英寸SiC襯底。目前6英寸襯底的位錯密度在100/cm2量級,隨著單晶生長技術(shù)的發(fā)展,SiC襯底缺陷密度將快速下降,預(yù)計(jì)未來5年左右,穿透型螺位錯和及平面位錯密度將下降到200/cm2。Si基GaN外延片的技術(shù)研發(fā)在近幾年尤其活躍,6英寸Si基GaN技術(shù)已經(jīng)成熟,并且也成功研發(fā)出8英寸Si基GaN外延片,在不斷降低缺陷密度、提升外延均勻性生長度的前提下,未來將逐步實(shí)現(xiàn)商用。2.器件與模塊向高效率、高線性度和多功能集成整體而言,GaN射頻器件將向著高效率、高線性度和多功能集成方向發(fā)展。GaN HEMT射頻器件的制程在百納米量級左右,且在不斷微縮。現(xiàn)在GaN工藝尺寸正在從0.25μm至0.5μm向0.15μm轉(zhuǎn)換,一些領(lǐng)導(dǎo)廠商(例如,Qorvo)甚至在嘗試60nm。一般來說,大多數(shù)制造廠提供兩個或三個標(biāo)準(zhǔn)工藝:0.5μm高壓(40至50V)工藝主要處理頻率低于約8GHz的高功率器件,0.25μm中壓(28至40V)工藝處理更高頻率的應(yīng)用(高達(dá)約18GHz)。有的制造廠提供第三個選項(xiàng),即更小的柵極長度(通常約0.15μm)用于毫米波應(yīng)用(高達(dá)40GHz)。

▲主流廠商的GaN HEMT射頻器件工藝制程節(jié)點(diǎn)

資料來源:Yole,CSA Research

(1)高效率、高線性度

在性能指標(biāo)方面,效率和線性度是GaN功率放大器的核心指標(biāo),高效率和高線性度的功率放大器是未來發(fā)展趨勢。Doherty技術(shù)和包絡(luò)跟蹤技術(shù)可以有效地提高功放的平均效率和線性度,是目前國內(nèi)外研究的熱門功放效率和線性度提升技術(shù)。將這兩種技術(shù)結(jié)合,可以使得功放更高效地放大高峰均比信號。在架構(gòu)層面,Doherty和包絡(luò)跟蹤(ET)等將是主流結(jié)構(gòu)。在現(xiàn)代通信系統(tǒng)中,Doherty已經(jīng)獲得廣泛應(yīng)用。Doherty功放通過與輸入信號成反比地調(diào)整負(fù)載阻抗,從而實(shí)現(xiàn)高效率的放大。而ET功放通過動態(tài)調(diào)節(jié)偏置電壓,使之隨著信號包絡(luò)而變化,從而使得功放一直工作于高效率情況下,且ET功放在提高效率的同時不受射頻頻率的限制。與Doherty功放僅在射頻域上做處理不一樣,ET功放還包含一部分基帶信號的處理。典型的ET功放至少應(yīng)包含包絡(luò)調(diào)制器、包絡(luò)成形、延遲對齊、射頻放大鏈路。

▲ET功放框架圖

資料來源:網(wǎng)絡(luò)資料,CSA Research

(2)多功能集成

全GaN射頻模塊的集成是重要的發(fā)展趨勢。除分立的功率模塊外,GaN也已經(jīng)應(yīng)用于單片微波集成電路(MMIC)。MMIC是采用平面技術(shù),將元器件、傳輸線、互連線直接制做在半導(dǎo)體基片上的功能塊。單片微波集成電路包括多種功能電路,如低噪聲放大器(LNA)、功率放大器(PA)、混頻器、上變頻器、檢波器、調(diào)制器、壓控振蕩器(VCO)、移相器、開關(guān)、MMIC收發(fā)前端,甚至整個發(fā)射/接收(T/R)組件(收發(fā)系統(tǒng))。目前國際上主流企業(yè)已經(jīng)推出GaN MMIC PA和MMIC LNA等GaN射頻集成模塊,且正在研發(fā)集成多種功能的GaN MMIC射頻前端(FEM)。

▲MMIC示意圖

資料來源:網(wǎng)絡(luò)資料,CSA Research

▲不同材料體系的MMIC的工藝及應(yīng)用

資料來源:Yole,CSA Research

為了提升性能,減小器件尺寸,GaN射頻芯片集成度將不斷提高,并向多功能集成和天線集成方向發(fā)展。

1)單一功能芯片集成

功率放大器、低噪聲放大器等單一功能射頻芯片將集成電阻、電容等被動元件。集成方式包括封裝集成和單片集成。封裝集成器件如多芯片組件功率放大器(MCM PA)。單片集成器件如單片微波集成電路功率放大器(MMIC PA)和單片微波集成電路低噪聲放大器(MMIC LNA)等。

2)收發(fā)一體多功能芯片集成

GaN射頻芯片將由單一功能芯片向收發(fā)一體等多功能芯片發(fā)展,在射頻前端模組(FEM)層面實(shí)現(xiàn)集成。其中MMIC FEM是重要的發(fā)展方向。MMIC FEM將在MMIC中集成功率放大器、低噪聲放大器和射頻開關(guān)等器件,在縮小系統(tǒng)體積的同時,使得系統(tǒng)功能更加強(qiáng)大和高效。

▲GaN毫米波MMIC FEM

資料來源:網(wǎng)絡(luò)資料,CSA Research

3)天線集成

GaN射頻芯片與天線集成在一起將為系統(tǒng)級無線芯片提供一種良好的天線解決方案,正在受到芯片制造商的青睞。天線是無線系統(tǒng)中的重要部件,同其它射頻器件一樣,集成天線是未來發(fā)展趨勢。集成天線包括片上天線(AoC)和封裝天線(AiP)兩種類型。AoC技術(shù)是單片集成技術(shù),通過系統(tǒng)級芯片(SoC)方式實(shí)現(xiàn)。考慮到成本和性能,AoC技術(shù)更適用于太赫茲頻段。而AiP技術(shù)是封裝集成技術(shù),通過系統(tǒng)級封裝(SiP)方式實(shí)現(xiàn)。AiP技術(shù)很好地兼顧了天線性能、成本及體積,在毫米波頻段獲得了廣泛應(yīng)用。毋庸置疑,AiP技術(shù)也將會為5G毫米波移動通信系統(tǒng)提供很好的天線解決方案。3.配套封裝材料及結(jié)構(gòu)不斷演進(jìn)為了充分發(fā)揮GaN的高頻高功率的器件優(yōu)勢,封裝材料及結(jié)構(gòu)在不斷演進(jìn)。GaN射頻器件與模塊的封裝主要涉及基板、貼片材料和封裝外殼三個部分??偟膩砜?,目前GaN射頻封裝基板在轉(zhuǎn)向純銅,貼片材料正在逐步采用納米銀燒結(jié),而封裝外殼也開始采用塑料封裝。

▲射頻器件封裝結(jié)構(gòu)示意圖

資料來源:Yole,CSA Research

▲GaN射頻器件封裝材料演進(jìn)

資料來源:Yole,CSA Research

(1)基板-向純銅演進(jìn)

目前,少數(shù)企業(yè)已經(jīng)開始采用純銅基板,但只限于中等功率的射頻器件,而高功率的器件仍然采用銅合金或疊層材料。封裝過程中基板主要起導(dǎo)熱、機(jī)械支撐作用,部分器件還通過基板來導(dǎo)電。其中,最主要的作用是導(dǎo)熱。封裝基板通常采用高熱導(dǎo)率的材料來減小器件產(chǎn)生的熱量。同時,為了減少溫度變化導(dǎo)致的應(yīng)變,基板與貼片材料、器件之間的熱膨脹系數(shù)(CTE)要盡量匹配。現(xiàn)階段常用的基板材料是銅合金(銅鎢CuW、銅鉬CuMo)或疊層材料,而純銅材料是未來的主流發(fā)展方向之一。CuW合金技術(shù)比較成熟,可靠性獲得驗(yàn)證,但是成本比較高;CuMo疊層材料具備更高的熱導(dǎo)率,更加適合高功率器件封裝,并且采用了較少的貴金屬,成本較低;純銅具備比銅合金或疊層材料更高的熱導(dǎo)率,并且沒有使用貴金屬從而降低了成本,而其他具備更高熱導(dǎo)率的材料要比純銅貴得多。然而,純銅與Si或SiC的熱膨脹系數(shù)差距較大,帶來較大的技術(shù)挑戰(zhàn),可靠性有待驗(yàn)證。

▲射頻封裝基板常用材料的熱導(dǎo)率和熱膨脹系數(shù)

資料來源:Yole,CSA Research

(2)貼片材料-銀燒結(jié)是未來的發(fā)展方向

在貼片材料方面,銀燒結(jié)是未來的發(fā)展方向。目前,GaN射頻器件主要使用的貼片材料包括AuSn(金錫)、AuSi(金硅)。AuSi只適用于Si基GaN器件的封裝,對于SiC基GaN則不適用。得益于物理性能的匹配,AuSi非常適用于Si基器件的封裝。然而,因?yàn)楹械腁u成分比例較高,AuSi材料的成本較高。封裝過程中,AuSi材料通常采用共晶焊接,加工溫度較高(350-420℃),因而不能用于塑料基板的封裝。目前,AuSn是使用最廣泛的貼片材料。由于含有的Au的比例較低,AuSn的成本低于AuSi,并且AuSn既適用于SiC基器件也適用于Si基器件的封裝。AuSn材料也采用共晶焊接技術(shù),加工溫度較高(270-320℃),同樣不能用于塑料基板的封裝。

▲GaN射頻器件貼片材料

資料來源:Yole,CSA Research

銀燒結(jié)是最新發(fā)展起來的一種封裝貼片材料。銀的成本要比金低得多。銀的燒結(jié)過程有兩種類型:加壓或不加壓。對于較小的芯片,通常采用納米銀粉末,且無需加壓。而對于較大的芯片,通常采用微米銀粉末,并且需要施加壓力,確保鍵合牢固。銀燒結(jié)的加工溫度較低(200-280℃),加工時間短,適用于大多數(shù)封裝基板材料。 ▼GaN射頻封裝貼片材料簡介

貼片材料 成分 技術(shù)類型 加工溫度 加工時長 適用領(lǐng)域
AuSi Au96.8-Si3.2 共晶焊接 350-420℃ 30分鐘以內(nèi) 塑料基板除外
AuSn Au80-Sn20 共晶焊接 270-320℃ 30分鐘以內(nèi) 塑料基板除外
銀燒結(jié) 納米銀粉末 燒結(jié) 200-280℃ 100秒左右 適用于多數(shù)情況

資料來源:Yole,CSA Research

(3)封裝外殼--塑料封裝代替陶瓷封裝

按照封裝密封程度,可以分為氣密性封裝和非氣密性封裝。氣密性封裝可以有效隔絕濕氣或有害氣體,避免造成器件內(nèi)部結(jié)構(gòu)的腐蝕,增加產(chǎn)品使用壽命。金屬、陶瓷和玻璃是常用的氣密性封裝外殼,而非氣密性封裝外殼通常采用聚合物材料,例如塑料。塑料外殼的優(yōu)點(diǎn)在于可以降低成本,減輕器件重量,而且如果制作得當(dāng),仍然可以實(shí)現(xiàn)接近于密封的效果。

▲常用封裝外殼材料

資料來源:Yole,CSA Research

業(yè)界正在轉(zhuǎn)向采用塑料封裝代替陶瓷封裝。GaN封裝最早開始采用的外殼是陶瓷外殼,它們被通常被做成非氣密性封裝的形式,因?yàn)橥ㄐ艖?yīng)用中無需高度的氣密性封裝?,F(xiàn)在,越來越多的企業(yè)開始采用塑料外殼封裝。塑封的優(yōu)勢體現(xiàn)在:成本較低;可降低體積和重量,便于集成;具備成熟的制造標(biāo)準(zhǔn);具有較低的介電常數(shù),電磁信號損耗小,適用于高頻應(yīng)用;此外,塑料具備和純銅接近的熱膨脹系數(shù),與陶瓷封裝相比,塑封搭配純銅基板可以顯著改善熱傳導(dǎo)效果。其中,成本是最主要的影響因素。在大規(guī)模生產(chǎn)的情況下,芯片制造和封裝構(gòu)成最主要的成本,而檢測占成本的比例較低。同時,采用塑料封裝可顯著降低成本。在規(guī)模量產(chǎn)的情況下,塑料封裝的成本大約只有陶瓷封裝的一半。

▲注塑封裝示意圖

資料來源:Yole,CSA Research

根據(jù)封裝形式,GaN射頻器件的封裝分為多層封裝(Multi-level package)和共平面封裝(表面貼裝)。依據(jù)經(jīng)驗(yàn),如果器件的耗散功率低于50W、PCB的厚度小于2mm,就可以采用表面貼裝的封裝形式。按是否填充材料,塑料封裝分為注塑封裝和空氣腔(air cavity)封裝。目前,采用多層封裝和表面貼裝的GaN射頻器件均采用注塑封裝。2017年,GaN射頻器件采用注塑封裝實(shí)現(xiàn)的最高頻率達(dá)到3.2GHz(功率為100W)和6GHz(功率為5W)。 來源:第三代半導(dǎo)體聯(lián)合創(chuàng)新孵化中心

責(zé)任編輯:xj

原文標(biāo)題:GaN射頻技術(shù)發(fā)展趨勢

文章出處:【微信公眾號:微波射頻網(wǎng)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 射頻
    +關(guān)注

    關(guān)注

    106

    文章

    6011

    瀏覽量

    173568
  • SiC
    SiC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    32

    文章

    3742

    瀏覽量

    69527
  • GaN
    GaN
    +關(guān)注

    關(guān)注

    21

    文章

    2370

    瀏覽量

    82819
  • 5G
    5G
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1368

    文章

    49177

    瀏覽量

    619970

原文標(biāo)題:GaN射頻技術(shù)發(fā)展趨勢

文章出處:【微信號:mwrfnet,微信公眾號:微波射頻網(wǎng)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    90W 28V 2000-4000MHz ALGH42S090CE(S) 氮化鎵射頻功放管

    (HEMT)。ALGH42S090CE(S)工作電壓是28V,為各種射頻和微波應(yīng)用提供通用寬帶解決方案,具有高效率、高增益和寬帶寬能力,成為線性和飽和放大器電路的,理想選擇。 特性 GaN
    發(fā)表于 03-03 10:58

    50W 28V 0.3-6GHz ALGH60S050CFPS 氮化鎵射頻功放管

    GaN-on-SiC HEMT技術(shù) DC-6 GHz工作頻率范圍 輸入預(yù)匹配 測試頻率為4.6GHz 時典型值 28V直流供電 10.3dB 功率增益 64.6W典型輸出功率 Psat 效率為 54.5
    發(fā)表于 02-24 16:11

    CGH40006P射頻晶體管

    CGH40006P射頻晶體管CGH40006P是Wolfspeed(原CREE)推出的一款 6W 射頻功率氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT),采用 28V 電源軌設(shè)計(jì),具備 DC 至
    發(fā)表于 02-03 10:00

    Neway第三代GaN系列模塊的生產(chǎn)成本

    %。研發(fā)與認(rèn)證成本技術(shù)迭代:GaN技術(shù)處于快速發(fā)展期,Neway需持續(xù)投入研發(fā)(如第三代模塊研發(fā)費(fèi)用占比超15%)以保持技術(shù)領(lǐng)先。行業(yè)認(rèn)證:
    發(fā)表于 12-25 09:12

    小米公布射頻器件研發(fā)成果:低壓硅基GaN PA首次實(shí)現(xiàn)移動端驗(yàn)證

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 小米公布GaN射頻器件研發(fā)新進(jìn)展!在近期舉行的第 71 屆國際電子器件大會(IEDM 2025)上,小米集團(tuán)手機(jī)部與蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司、香港科技大學(xué)合作的論文
    的頭像 發(fā)表于 12-18 10:08 ?2220次閱讀
    小米公布<b class='flag-5'>射頻</b>器件研發(fā)成果:低壓硅基<b class='flag-5'>GaN</b> PA首次實(shí)現(xiàn)移動端驗(yàn)證

    芯干線斬獲2025電源行業(yè)GaN技術(shù)突破獎

    2025年12月6日,芯干線攜自主研發(fā)的 GaN(氮化鎵)核心技術(shù)及產(chǎn)品參展世紀(jì)電源網(wǎng)主辦的亞洲電源展,憑借突破性技術(shù)成果與高競爭力產(chǎn)品,成功斬獲 “GaN行業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 12-13 10:58 ?975次閱讀
    芯干線斬獲2025電源行業(yè)<b class='flag-5'>GaN</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>突破獎

    CHA8107-QCB兩級氮化鎵(GaN)高功率放大器

    )兼容性。技術(shù)優(yōu)勢GaN 材料特性:高功率密度:GaN 的寬帶隙特性使其在相同尺寸下輸出功率遠(yuǎn)高于 GaAs 或硅基器件。高頻性能優(yōu)異:在 6GHz 頻段仍能保持高效率與線性度,適合寬帶線性放大應(yīng)用。高
    發(fā)表于 12-12 09:40

    遠(yuǎn)距離無線通信WiFi技術(shù)技術(shù)發(fā)展、未來趨勢與挑戰(zhàn)

    探討遠(yuǎn)距離無線通信技術(shù)發(fā)展及應(yīng)用,揭示這一領(lǐng)域的前沿突破以及它將如何改變我們的生活與工作方式。
    的頭像 發(fā)表于 12-04 18:17 ?1310次閱讀

    TGS2351-SM單刀雙擲(SPDT)射頻開關(guān)芯片現(xiàn)貨庫存

    TGS2351-SM是Qorvo(原TriQuint)推出的一款采用氮化鎵(GaN技術(shù)制造的單刀雙擲(SPDT)射頻開關(guān)芯片,具備高頻、高功率處理能力及快速切換特性,廣泛應(yīng)用于雷達(dá)、通信系統(tǒng)等
    發(fā)表于 11-28 09:59

    安森美入局垂直GaN,GaN進(jìn)入高壓時代

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日,安森美發(fā)布器垂直GaN功率半導(dǎo)體技術(shù),憑借 GaN-on-GaN 專屬架構(gòu)與多項(xiàng)性能突破,為全球高功率應(yīng)用領(lǐng)域帶來革命性解決方案,重新定義了行業(yè)在能效、緊湊性與耐用性上
    的頭像 發(fā)表于 11-10 03:12 ?7548次閱讀

    Leadway GaN系列模塊的功率密度

    采用諧振電感與變壓器磁集成設(shè)計(jì),配合GaN高頻特性,進(jìn)一步壓縮體積。例如,戴爾130W GaN電源通過類似技術(shù)實(shí)現(xiàn)體積僅120cm3,功率密度突破5W/cm3(約82W/in3),而Leadway
    發(fā)表于 10-22 09:09

    Si、SiC與GaN,誰更適合上場?| GaN芯片PCB嵌埋封裝技術(shù)解析

    以下完整內(nèi)容發(fā)表在「SysPro電力電子技術(shù)」知識星球-《功率GaN芯片PCB嵌埋封裝技術(shù)全維解析》三部曲系列-文字原創(chuàng),素材來源:TMC現(xiàn)場記錄、Horse、Hofer、Vitesco-本篇為節(jié)選
    的頭像 發(fā)表于 08-07 06:53 ?1988次閱讀
    Si、SiC與<b class='flag-5'>GaN</b>,誰更適合上場?| <b class='flag-5'>GaN</b>芯片PCB嵌埋封裝<b class='flag-5'>技術(shù)</b>解析

    AI技術(shù)如何推動我們的商業(yè)和社會發(fā)展

    不斷發(fā)展的AI技術(shù)能否給人類社會帶來類似工業(yè)革命的跨越?它將如何推動我們的商業(yè)和社會發(fā)展?它與人類之間的關(guān)系又將如何演進(jìn)?
    的頭像 發(fā)表于 07-28 09:32 ?841次閱讀

    增強(qiáng)AlN/GaN HEMT

    尺寸小得多、工作頻率高得多的AlN/GaN HEMT。 該團(tuán)隊(duì)的突破涉及原位鈍化和使用選擇性刻蝕工藝添加再生長重?fù)诫sn型接觸。 AlN/GaN HEMT是一類極具前景的晶體管,可用于射頻和功率器件
    的頭像 發(fā)表于 06-12 15:44 ?1022次閱讀
    增強(qiáng)AlN/<b class='flag-5'>GaN</b> HEMT

    如何在開關(guān)模式電源中運(yùn)用氮化鎵技術(shù)

    的關(guān)鍵角色。憑借在效率與功率密度方面的顯著優(yōu)勢,GaN開關(guān)在電壓轉(zhuǎn)換、電機(jī)驅(qū)動、D類音頻放大器等多種應(yīng)用場景中展現(xiàn)出強(qiáng)大吸引力。隨著LT8418等優(yōu)化驅(qū)動模塊相繼問世,控制這項(xiàng)新的電路技術(shù)已變得既簡單又可靠。因此,GaN開關(guān)為電
    發(fā)表于 06-11 10:07