材料是半導(dǎo)體大廈的地基，不過(guò)，目前中國(guó)的這一地基對(duì)國(guó)外依存度還很高。

2019年，日韓發(fā)生沖突，日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和光刻膠。這三種材料韓國(guó)，中國(guó)都可以制造，但關(guān)鍵在于能造是一回事，能用是另一回事，這其實(shí)也是半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)的核心問(wèn)題所在。

01純度

無(wú)論是氟化氫、聚酰亞胺、光刻膠還是硅片，純度是其最核心的標(biāo)準(zhǔn)之一。比如對(duì)于光刻膠來(lái)說(shuō)，目前國(guó)外的光刻膠阻抗可以做到10^15，國(guó)內(nèi)基本上停留在10^10。阻抗越高純度越高，光刻膠純度不足會(huì)造成芯片良率下降，甚至污染事故。2019年臺(tái)積電就因?yàn)楣庾柙衔廴緦?dǎo)致上萬(wàn)片12寸晶圓報(bào)廢，直接損失達(dá)5.5億美元。

氟化氫也是同樣的問(wèn)題。氟化氫是一種無(wú)機(jī)酸，是半導(dǎo)體制造過(guò)程中必要材料，常被用來(lái)清洗和蝕刻晶圓，這種材料的難點(diǎn)也在于其對(duì)純度要求特別高。

根據(jù)其純度不同，分為EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS級(jí)別，其中UPSS、UPSSS是高端半導(dǎo)體級(jí)別，而這個(gè)級(jí)別的氫氟酸僅僅檢測(cè)步驟就需要用到頂級(jí)的質(zhì)譜儀、掃描電鏡、原子力顯微鏡等。其存儲(chǔ)設(shè)備的內(nèi)襯、管道閥門等都是世界級(jí)難題，目前也只有日本企業(yè)能大規(guī)模生產(chǎn)，國(guó)內(nèi)有幾家企業(yè)能做到電子級(jí)氫氟酸，但產(chǎn)能不高。

02原材料壁壘

影響光刻膠純度的原因多種多樣，但原材料一定占據(jù)核心位置。

就拿光刻膠的溶劑來(lái)說(shuō)，一款光刻膠，溶劑的含量占據(jù)光刻膠總質(zhì)量的80%~90%，光刻膠最常使用的溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），它具有很好的溶解性，性狀穩(wěn)定，適合將成膜樹(shù)脂和光引光劑液化以便于旋轉(zhuǎn)涂敷。

目前，世界丙二醇醚及酯類產(chǎn)品的生產(chǎn)主要集中在美國(guó)、西歐及中國(guó)等國(guó)家和地區(qū)，主要是美國(guó)陶氏化學(xué)、伊士曼化學(xué)，荷蘭利安德巴塞爾，德國(guó)巴斯夫，這些國(guó)外企業(yè)從事丙二醇醚及其酯的工業(yè)化生產(chǎn)，這些企業(yè)深耕這一領(lǐng)域已有30多年的歷史，擁有豐厚的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，并不是國(guó)產(chǎn)企業(yè)可以一朝一夕能夠拿下的。

而聚酰亞胺領(lǐng)域也是一樣。

在液晶顯示的應(yīng)用上，CPI薄膜則代表了聚酰亞胺的最高研究和發(fā)展水平，但是這一領(lǐng)域一直以來(lái)都是美國(guó)的杜邦、日本的住友化學(xué)以及三井化學(xué)等企業(yè)的天下，三星的柔性顯示用CPI透明薄膜的配方就來(lái)自住友化學(xué)。

均苯四甲酸二酐是制備聚酰亞胺的重要原材料，目前這種原材料主要掌握在國(guó)外企業(yè)手中，全球的年產(chǎn)量為6萬(wàn)噸，國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)約為5000噸。而且，均苯四甲酸二酐的純度關(guān)乎于聚酰亞胺的成敗，如果純度不夠，更容易產(chǎn)生副反應(yīng)，導(dǎo)致生產(chǎn)的聚酰亞胺純度不達(dá)標(biāo)。

03專利壁壘

如今的光刻技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入EUV時(shí)代，臺(tái)積電、英特爾和三星紛紛積極導(dǎo)入EUV技術(shù)，與之對(duì)應(yīng)的是EUV光刻膠的需求上升，與ArF浸沒(méi)式光刻相比，EUV光刻技術(shù)有很高的圖形保真度和設(shè)計(jì)靈活性，所需的光掩模數(shù)量很少，顯示出明顯的優(yōu)勢(shì)。

但國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)想要突破它，不僅面臨原材料、純度等難題，還面臨強(qiáng)大的專利壁壘。

從全球EUV光刻膠專利的申請(qǐng)量上來(lái)看，1998年EUV光刻膠專利的申請(qǐng)量只有6件，此后十年間，大多數(shù)時(shí)候都是年平均兩位數(shù)的申請(qǐng)量。從2010年開(kāi)始的四年間，申請(qǐng)數(shù)量破百，并且持續(xù)增長(zhǎng)，到2013年到達(dá)頂峰。當(dāng)年的申請(qǐng)量有164件，此后又逐步回落至兩位數(shù)，到2017年，EUV光刻膠專利的申請(qǐng)量只有15件。

這一趨勢(shì)說(shuō)明，在本世紀(jì)前13年里，EUV光刻膠的技術(shù)在不斷的進(jìn)步，各大廠商都在積極探索EUV光刻膠技術(shù)，所以專利數(shù)才會(huì)不斷上升，而在2013年之后，該項(xiàng)技術(shù)走向成熟，由此專利數(shù)量開(kāi)始急劇減少。

（圖片來(lái)源：現(xiàn)代化工第39卷第7期）

此外，從專利申請(qǐng)量的前十名來(lái)看，日本就占據(jù)了七席，專利申請(qǐng)數(shù)量占比高達(dá)90%，富士膠片以422件的絕對(duì)優(yōu)勢(shì)排在第一，在前十名中，只有美國(guó)的羅姆哈斯和陶氏化學(xué)，以及韓國(guó)的三星電子3家非日本企業(yè)。

（圖片來(lái)源：現(xiàn)代化工第39卷第7期）

04規(guī)模壁壘

與半導(dǎo)體設(shè)計(jì)、半導(dǎo)體封測(cè)甚至晶圓產(chǎn)業(yè)相比，光刻膠是一個(gè)“小眾”產(chǎn)業(yè)，而且光刻膠還分為顯示面板用光刻膠和半導(dǎo)體用光刻膠，半導(dǎo)體用光刻膠的規(guī)模遠(yuǎn)小于面板用光刻膠。

根據(jù)TECHCET的一份預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，2021年整個(gè)半導(dǎo)體用光刻膠的市場(chǎng)只有19億美元的規(guī)模。而這一市場(chǎng)又是高度集中，拿ArF光刻膠舉例，日本的JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)四家企業(yè)就占據(jù)了82%的市場(chǎng)份額，KrF光刻膠市場(chǎng)中，東京應(yīng)化、信越化學(xué)、JSR和杜邦占據(jù)了85%的市場(chǎng)份額。

并且從公司規(guī)模來(lái)看，光刻膠并不是這些的主營(yíng)業(yè)務(wù)，光刻膠只是占據(jù)了其營(yíng)收中極小的一部分。

以信越化學(xué)為例，其2019年的營(yíng)收大約為147億美元左右，而當(dāng)年的全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模也才13億美元左右，所以相比較之下，光刻膠并不是巨頭們的最核心業(yè)務(wù)。

與之相比的是，國(guó)內(nèi)的光刻膠企業(yè)無(wú)論從技術(shù)還是規(guī)模上，都與巨頭們有比較大的差距。南大光電和晶瑞股份是國(guó)內(nèi)的光刻膠龍頭企業(yè)，2019年，南大光電的營(yíng)收為3.21億元，凈利潤(rùn)0.55億元，同年晶瑞股份的營(yíng)收為7.6億元，凈利潤(rùn)為0.31億元，由此可見(jiàn)一斑。

并且由于需要加速追趕，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)近年來(lái)相繼斥資購(gòu)買光刻機(jī)來(lái)驗(yàn)證產(chǎn)品性能，因?yàn)楣饪虣C(jī)價(jià)格昂貴，買了一臺(tái)光刻機(jī)相當(dāng)于請(qǐng)了一個(gè)吞金獸，對(duì)于國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)來(lái)說(shuō)，壓力倍增。

再者，由于光刻膠的應(yīng)用環(huán)境復(fù)雜且多樣，有時(shí)甚至需要針對(duì)每個(gè)工廠進(jìn)行特別定制，很難標(biāo)準(zhǔn)化和模塊化，光刻膠從研發(fā)成功到進(jìn)入客戶驗(yàn)證階段，并被大規(guī)模使用，中間所需要的時(shí)間都是按照年為單位計(jì)算。一般情況下客戶并不愿意輕易的更換光刻膠供應(yīng)商。

以上種種難點(diǎn)，每一項(xiàng)都是國(guó)產(chǎn)光刻膠前進(jìn)的阻力，不過(guò)困難還遠(yuǎn)不止這些。

05聯(lián)盟壁壘

IMEC全名為比利時(shí)微電子研究中心，是全球半導(dǎo)體的指標(biāo)性研發(fā)機(jī)構(gòu)，很多半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的最新技術(shù)路線和標(biāo)準(zhǔn)都出自這里，所以這里也是光刻膠巨頭們的必爭(zhēng)之地。

2013年，富士膠片就與IMEC合作，為有機(jī)半導(dǎo)體亞微米技術(shù)開(kāi)發(fā)一種新的光刻膠技術(shù)。2017年，JSR與IEMC在比利時(shí)共同成立了EUV光刻膠制備和認(rèn)證中心，目的是確保EUV光刻膠的認(rèn)證和半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用的質(zhì)量控制。JSR與IMEC結(jié)盟這一步棋，讓自己既當(dāng)選手，又當(dāng)了裁判，牢牢抓住主動(dòng)權(quán)。

此外，去年2月，在JSR的主導(dǎo)下，EUV光刻膠先驅(qū)Inpria完成了C輪3100萬(wàn)美元的融資，參投方包括SK海力士、三星、英特爾、臺(tái)積電。

Inpria是一家美國(guó)材料商，2007年從俄勒岡州立大學(xué)化學(xué)研究所獨(dú)立出來(lái)，其研發(fā)負(fù)性光刻膠，分子大小是CAR有機(jī)光刻膠的五分之一，重點(diǎn)是光吸收率可達(dá)CAR的4?5 倍，因此能更精密，更準(zhǔn)確地讓電路圖形成形。

由于光刻膠巨頭們有市場(chǎng)優(yōu)勢(shì)和技術(shù)優(yōu)勢(shì)，所以也意味著它們有更多的話語(yǔ)權(quán)，與此同時(shí)，他們也在積極的在前沿技術(shù)上布局，與上下游企業(yè)結(jié)盟，形成一道幾乎牢不可破的防線。

06其他壁壘

除了以上的技術(shù)、市場(chǎng)及原材料等諸多核心因素因素之外，制約國(guó)產(chǎn)光刻膠發(fā)展的還有許多非核心因素。

比如除了光刻膠以外，光刻膠輔助材料、光刻膠專用試劑也具有較高的技術(shù)壁壘，例如抗反射涂層的配方主要掌握在JSＲ、信越化學(xué)、陶氏化學(xué)、Merck 等國(guó)際光刻膠巨頭手里。

在采訪國(guó)內(nèi)幾家光刻膠上市企業(yè)時(shí)，其相關(guān)負(fù)責(zé)人都不約而同的提到了“瓶子”這個(gè)關(guān)鍵詞，他們表示，裝光刻膠所需要用到的瓶子目前國(guó)內(nèi)企業(yè)還無(wú)法生產(chǎn)，需要進(jìn)口。

國(guó)產(chǎn)企業(yè)的瓶子有的是性能不達(dá)標(biāo)，有的是純度不夠有雜質(zhì)。當(dāng)然，國(guó)內(nèi)也不是完全造不出瓶子，問(wèn)題在于光刻膠企業(yè)所需要的瓶子數(shù)量太少，一些大的公司不愿意為這樣小的一個(gè)產(chǎn)品去專門研發(fā)和開(kāi)辟一條產(chǎn)線，因?yàn)榻?jīng)濟(jì)效益不高。

此外，光刻膠的保質(zhì)期也比較短，大概在3~6個(gè)月左右，在運(yùn)輸過(guò)程中又需要冷鏈運(yùn)輸，而冷鏈運(yùn)輸會(huì)提高整體成本，所以最后導(dǎo)致光刻膠價(jià)格上去，這嚴(yán)重不利于光刻膠的推廣使用。

07材料之殤

其實(shí)，光刻膠面臨的上述6個(gè)方面的困境也是國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料共同的困境。

全球硅片市場(chǎng)中，信越化學(xué)、住友勝高、世創(chuàng)、環(huán)球晶圓四家企業(yè)占據(jù)了80%以上的市場(chǎng)份額，而且在硅片的生產(chǎn)過(guò)程中，也遇到了“盒子”問(wèn)題，裝硅片所需要用到的“盒子”也需要進(jìn)口，其中原因幾乎與光刻膠一樣。

在半導(dǎo)體拋光中，拋光墊面臨也面臨與光刻膠同樣的困境，市場(chǎng)規(guī)模小，驗(yàn)證周期長(zhǎng)，技術(shù)難度又高，還被高度壟斷。目前的拋光墊幾乎完全依賴進(jìn)口，市場(chǎng)由美國(guó)陶氏化學(xué)（約80%市場(chǎng)份額）、美國(guó)卡博特、日本東麗等公司壟斷，產(chǎn)品毛利率在50%以上。

在面板產(chǎn)業(yè)中，基板玻璃是LCD的重要原材料之一，在OLED面板制程主要充當(dāng)柔性PI（聚酰亞胺）基板的載板基底，但目前中國(guó)95%的基板玻璃市場(chǎng)都被美國(guó)的康寧和日本的旭硝子，電氣硝子三家所壟斷。

電子特氣是僅次于大硅片的第二大晶圓制造材料。這一行業(yè)也是高度壟斷，空氣化工、普萊克斯、林德集團(tuán)、液化空氣和大陽(yáng)日酸等五大公司控制著全球90%以上的市場(chǎng)份額。

08國(guó)內(nèi)光刻膠最新發(fā)展

雖然實(shí)現(xiàn)光刻膠國(guó)產(chǎn)化阻力重重，但是最近一年時(shí)間，國(guó)產(chǎn)光刻膠也迎來(lái)了黃金期。先是南大光電宣布公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過(guò)了武漢新芯的使用認(rèn)證，各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)，成為通過(guò)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠。

隨后晶瑞股份也宣布公司KrF（248nm深紫外）光刻膠已完成中試，產(chǎn)品分辨率達(dá)到了0.25~0.13μm的技術(shù)要求，建成了中試示范線。上海新陽(yáng)也表示購(gòu)買用于研發(fā)光刻膠的光刻機(jī)即將到位。

此外，在宏觀層面上，去年下半年，發(fā)改委等四部門就宣布擴(kuò)大戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)投資，聚焦“卡脖子”問(wèn)題，其中就包括光刻膠。

在稅收方面，國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路設(shè)計(jì)、裝備、材料、封裝、測(cè)試企業(yè)和軟件企業(yè)，自獲利年度起，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅。

09道阻且長(zhǎng)

面對(duì)如此艱難的一條路，國(guó)產(chǎn)光刻膠能攻下ArF和KrF實(shí)屬不易，但光刻膠國(guó)產(chǎn)化依然長(zhǎng)路漫漫，既要克服國(guó)外的技術(shù)壁壘，又要能夠拿下更多的市場(chǎng)，而這些問(wèn)題并不是單純一兩家企業(yè)能搞定的。

首先光刻膠方面的人才數(shù)量嚴(yán)重不足，這需要教育層面解決。第二點(diǎn)是，國(guó)產(chǎn)光刻膠研發(fā)成功之后，國(guó)內(nèi)的下游企業(yè)是否愿意給國(guó)產(chǎn)光刻膠一個(gè)成長(zhǎng)的機(jī)會(huì)。據(jù)了解，目前國(guó)產(chǎn)光刻膠研發(fā)成功之后，還面臨被壓價(jià)的窘境，沒(méi)有足夠的利潤(rùn)就無(wú)法投入更多的資金去研發(fā)，在高端技術(shù)上，低價(jià)無(wú)疑還會(huì)打擊國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)的積極性。

在采訪過(guò)程中，相關(guān)產(chǎn)業(yè)人士提出了用面板光刻膠養(yǎng)半導(dǎo)體光刻膠的構(gòu)想。該產(chǎn)業(yè)人士認(rèn)為，半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模小，但是技術(shù)壁壘高，而面板光刻膠市場(chǎng)規(guī)模相對(duì)較大，壁壘又相對(duì)較小。所以，面板產(chǎn)業(yè)可以優(yōu)先扶持國(guó)產(chǎn)光刻膠，在這個(gè)過(guò)程中也可以培養(yǎng)更多的技術(shù)性人才，最終實(shí)現(xiàn)“大產(chǎn)業(yè)帶動(dòng)小產(chǎn)業(yè)”。

當(dāng)然這需要面板產(chǎn)業(yè)鏈的支持，以及國(guó)家政策的扶持與具體落實(shí)。

10國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體需要理想主義

面對(duì)重重困難，是什么讓國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)能夠堅(jiān)持下來(lái)呢？理想主義可能是一方面，畢竟光刻膠是一個(gè)吃力不討好的活兒。

一位資深的行業(yè)人士表示，“他自己已經(jīng)在光刻膠產(chǎn)業(yè)干了大半生，最大的心愿就是希望退休前能看到國(guó)產(chǎn)光刻膠實(shí)現(xiàn)完全的自主?！?/p>

也許正是這種信念才能夠讓國(guó)產(chǎn)光刻膠實(shí)現(xiàn)突破。

而國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料，甚至國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)想要實(shí)現(xiàn)突破，也需要理想主義的信念，當(dāng)然也需要錢，堅(jiān)持理想的人不該是窮著的。

編輯：jq