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我國(guó)突破12英寸二維半導(dǎo)體晶圓批量制備技術(shù)

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 ? 2023-07-10 18:20 ? 次閱讀
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如何實(shí)現(xiàn)批量化、大尺寸、低成本制備二維半導(dǎo)體晶圓是亟待解決的科學(xué)問(wèn)題。

近日,《科學(xué)通報(bào)》以《模塊化局域元素供應(yīng)技術(shù)批量制備12英寸過(guò)渡金屬硫族化合物》為題,在線發(fā)表了松山湖材料實(shí)驗(yàn)室/北京大學(xué)教授劉開輝、中國(guó)科學(xué)院院士王恩哥團(tuán)隊(duì),松山湖材料實(shí)驗(yàn)室/中國(guó)科學(xué)院物理研究所研究員張廣宇團(tuán)隊(duì)及合作者最新研究成果。

該研究提出模塊化局域元素供應(yīng)生長(zhǎng)技術(shù),成功實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體性二維過(guò)渡金屬硫族化合物晶圓批量化高效制備,晶圓尺寸可從2英寸擴(kuò)展至與現(xiàn)代半導(dǎo)體工藝兼容的12英寸,有望推動(dòng)二維半導(dǎo)體材料由實(shí)驗(yàn)研究向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用過(guò)渡,為新一代高性能半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展奠定了材料基礎(chǔ)。

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a. 過(guò)渡金屬硫族化合物晶圓批量化制備裝置及示意圖;b. 單批次制備15片2英寸MoS2晶圓;c. 350-mm管徑自動(dòng)控制化學(xué)氣相沉積管式爐;d. 2-12英寸MoS2晶圓照片;e. 單批次制備3片12英寸MoS2晶圓。

近年來(lái),二維過(guò)渡金屬硫族化合物是最具應(yīng)用前景的二維半導(dǎo)體材料體系之一,具備層數(shù)依賴的可調(diào)帶隙、自旋-谷鎖定特性、超快響應(yīng)速度、高載流子遷移率、高比表面積等優(yōu)異的物理性質(zhì),有望推動(dòng)新一代高性能電子、光電子器件變革性技術(shù)應(yīng)用。與傳統(tǒng)半導(dǎo)體發(fā)展路線類似,晶圓材料是推動(dòng)二維半導(dǎo)體技術(shù)邁向產(chǎn)業(yè)化的根基。如何實(shí)現(xiàn)批量化、大尺寸、低成本制備二維半導(dǎo)體晶圓是亟待解決的科學(xué)問(wèn)題。

自2016年以來(lái),北京大學(xué)物理學(xué)院劉開輝教授、俞大鵬院士、王恩哥院士等針對(duì)二維材料生長(zhǎng)問(wèn)題開展了系統(tǒng)研究,逐步發(fā)展出一套大尺寸二維材料的原子制造通用技術(shù)。實(shí)現(xiàn)了以米級(jí)石墨烯(Science Bulletin 2017, 62, 1074)、分米級(jí)六方氮化硼(Nature 2019, 570, 91)、晶圓級(jí)過(guò)渡金屬硫族化合物(Nature Nanotechnology 2022, 17, 33;Nature Communications 2022, 13, 1007)為代表的大尺寸二維單晶材料調(diào)控生長(zhǎng)及30余種A4尺寸高指數(shù)單晶銅箔庫(kù)的制備(Nature 2020, 581, 406)。然而,相比于單個(gè)晶圓的過(guò)渡金屬硫族化合物薄膜,大尺寸、批量化晶圓薄膜的制備仍極具挑戰(zhàn)性。目前,基于化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備的二維半導(dǎo)體晶圓尺寸主要集中在2-4英寸,生產(chǎn)效率通常限制于每批次一片,難以滿足逐漸增長(zhǎng)的二維半導(dǎo)體在基礎(chǔ)研究、產(chǎn)業(yè)化制造等方面的材料需求。

針對(duì)上述難題,劉開輝團(tuán)隊(duì)與合作者提出了一種全新的模塊化局域元素供應(yīng)生長(zhǎng)策略,實(shí)現(xiàn)了2-12英寸過(guò)渡金屬硫族化合物晶圓的批量化制備。實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)將過(guò)渡金屬硫族化合物制備所需的多種前驅(qū)體與生長(zhǎng)襯底,以“面對(duì)面”模式組裝構(gòu)成單個(gè)生長(zhǎng)模塊。過(guò)渡金屬元素與硫族元素按精確比例局域供應(yīng)至生長(zhǎng)襯底,實(shí)現(xiàn)單層過(guò)渡金屬硫族化合物晶圓的高質(zhì)量制備;多個(gè)生長(zhǎng)模塊可通過(guò)縱向堆疊組成陣列結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)多種尺寸晶圓薄膜的低成本批量化制備(2英寸晶圓15片/批次;12英寸晶圓3片/批次)。此外,這一模塊化策略適用于過(guò)渡金屬硫族化合物薄膜的后處理工藝,可精準(zhǔn)制備“雙面神”(Janus)型MoSSe結(jié)構(gòu),MoS2(1-x)Se2x合金以及MoS2-MoSe2平面異質(zhì)結(jié)等,為后續(xù)二維材料陣列化與功能化設(shè)計(jì)帶來(lái)更多自由度。該研究成果為二維半導(dǎo)體晶圓的大尺寸、規(guī)?;苽涮峁┝艘环N全新的技術(shù)方案,有望推動(dòng)二維材料在高性能電子學(xué)與光電子學(xué)方向等諸多優(yōu)異性能走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用。

該研究成果為二維半導(dǎo)體晶圓的大尺寸、規(guī)?;苽涮峁┝艘环N全新的技術(shù)方案,有望推動(dòng)二維半導(dǎo)體走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用。

值得一提的是,松山湖材料實(shí)驗(yàn)室在前沿科學(xué)研究和創(chuàng)新樣板工廠兩大核心板塊都布局了二維半導(dǎo)體方向的研究。近3年來(lái),該實(shí)驗(yàn)室針對(duì)二維半導(dǎo)體晶圓制備和規(guī)?;骷?gòu)筑取得系列進(jìn)展,在國(guó)際上引起廣泛關(guān)注。

2D半導(dǎo)體材料的未來(lái)路線圖

2D 半導(dǎo)體研究始于 2011 年左右。從首次提出至今,石墨烯和2D材料(2DM)在科學(xué)和工程領(lǐng)域的研究已經(jīng)持續(xù)了15年。

從國(guó)外進(jìn)度來(lái)看,美國(guó)MIT于2019年開發(fā)用碳納米管制造的超大計(jì)算機(jī)芯片,一顆由1.4萬(wàn)余個(gè)碳納米管晶體管(CNFET)組成的16位微處理器,證明可以完全由CNFET打造超越硅的微處理器。

2021年,歐盟“石墨烯旗艦計(jì)劃”,提出了一種將石墨烯和2D材料集成到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的新方法,耗資2000萬(wàn)歐元的“二維實(shí)驗(yàn)試驗(yàn)線(2D-EPL)”,旨在成為首家將石墨烯和層狀材料集成到半導(dǎo)體平臺(tái)的石墨烯晶圓廠,將基于2D材料的創(chuàng)新技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室引向規(guī)模化生產(chǎn)和商業(yè)化落地。

2022年,韓國(guó)科學(xué)技術(shù)研究院宣布,由光電材料與器件中心的 Do Kyung Hwang 博士和物理系的 Kimoon Lee 教授領(lǐng)導(dǎo)的聯(lián)合研究小組在國(guó)立群山大學(xué)通過(guò)開發(fā)新型超薄電極材料(Cl-SnSe2),成功實(shí)現(xiàn)了基于二維半導(dǎo)體的電子和邏輯器件,其電氣性能可以自由控制。

國(guó)內(nèi)方面,對(duì)于2D材料的研究也熱火朝天。

中國(guó)松山湖材料實(shí)驗(yàn)室圍繞2D材料研究的關(guān)鍵問(wèn)題,實(shí)驗(yàn)室布局了四大方向,涵蓋了從基礎(chǔ)科研到應(yīng)用探索的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn),具體是:2D材料的基礎(chǔ)物理、高通量計(jì)算與理性設(shè)計(jì),2D材料規(guī)模化制備與極限表征,二維體系中的奇異量子現(xiàn)象研究,基于2D材料的兼容工藝研發(fā)與原型器件探索。

中國(guó)科學(xué)院金屬研究所于2019年10月制備出“硅-石墨烯-鍺晶體管”,大幅縮短延遲時(shí)間,并將截止頻率由兆赫茲提升至吉赫茲。中國(guó)科學(xué)院物理研究所張廣宇團(tuán)隊(duì)在基于2D材料的透明、柔性器件大規(guī)模制備工藝方面取得突破性進(jìn)展,實(shí)現(xiàn)了柔性襯底上集成度大于?1000?且良品率達(dá)到?97%。

此外,北京大學(xué)、南京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)等高校都在2D材料的研究上有所突破。





審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:我國(guó)突破12英寸二維半導(dǎo)體晶圓批量制備技術(shù)

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