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衛(wèi)光科技李樸:600V超結MOSFET器件研究

第三代半導體產(chǎn)業(yè) ? 來源:第三代半導體產(chǎn)業(yè) ? 2023-08-09 16:21 ? 次閱讀
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近日,“2023功率與光電半導體器件設計及集成應用論壇”于西安召開。論壇由第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)指導,西安交通大學、極智半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)(www.casmita.com)、第三代半導體產(chǎn)業(yè)主辦,西安電子科技大學、中國科學院半導體研究所、第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟人才發(fā)展委員會、全國半導體應用產(chǎn)教融合(東莞)職業(yè)教育集團聯(lián)合組織、西安和其光電股份有限公司等單位協(xié)辦。

期間,“平行論壇1:功率半導體器件設計及集成應用”上,西安衛(wèi)光科技有限公司器件研究中心工程師李樸帶來《600V超結MOSFET器件研究》的主題報告。詳細分享了600V 超結MOSFET研究過程與成果。

報告中介紹,隨著功率半導體應用領域逐漸擴大,當應用在計算機和航空電子等領域中時,低導通壓降能夠縮小整機的冷卻系統(tǒng),從而降低整機尺寸和成本,所以用戶對器件的導通電阻提出了更高的要求。

而傳統(tǒng)功率MOSFET中擊穿電壓與導通電阻的關系,始終被限制在了“硅限”2.5次方,難以克服。為了能突破發(fā)展瓶頸,“超結理論”應運而生,極大的推動了功率半導體的發(fā)展?;诔Y理論的器件能夠在保證擊穿電壓的同時,進一步提高N柱區(qū)摻雜濃度,從而減小通態(tài)電阻,將擊穿電壓與通態(tài)電阻的限制關系優(yōu)化到1.3次方。

報告對SJMOS的基本工作原理進行分析,進而利用仿真軟件對600V SJMOS的元胞區(qū)工藝進行工藝仿真,并對其擊穿電壓、導通電阻、閾值進行了優(yōu)化。最終得到元胞區(qū)仿真擊穿電壓722V,閾值電壓3.04V,特征導通電阻27mΩ?cm2。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:衛(wèi)光科技李樸:600V超結MOSFET器件研究

文章出處:【微信號:第三代半導體產(chǎn)業(yè),微信公眾號:第三代半導體產(chǎn)業(yè)】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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