熱烈慶祝中微公司CCP刻蝕設備反應腔全球出貨超3000臺

近日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）的電容耦合等離子體（CCP）刻蝕設備第3000臺反應腔順利付運國內一家先進的半導體芯片制造商。這一重要里程碑標志著中微公司刻蝕設備的優(yōu)異性能、機臺穩(wěn)定性和高效的量產能力已得到客戶與市場的廣泛認可。

自首臺CCP刻蝕設備發(fā)布以來，中微公司不斷拓展CCP刻蝕設備產品線，以滿足先進的芯片器件制造日益嚴苛的技術需求。CCP刻蝕設備系列包括單反應臺刻蝕設備Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE，雙反應臺刻蝕設備Primo D-RIE、Primo AD-RIE和刻蝕及除膠一體化的 Primo iDEA。這些產品為客戶提供了全面綜合的解決方案，用于65納米至5納米及以下工藝的多種應用。中微公司的刻蝕設備產品線還包括其他多款電感耦合低能等離子體（ICP）刻蝕設備和硅通孔（TSV）刻蝕設備。目前，中微公司累計已有超過700臺ICP和TSV設備在國內外生產線實現量產。

憑借獨特的技術創(chuàng)新和差異化設計，中微公司刻蝕設備不斷擴大市場占有率，在國內外半導體前道設備行業(yè)占據優(yōu)勢地位。2023年，中微公司營業(yè)收入約62.64億元，較2022年增加約15.24億元，同比增長約32.15%。其中，2023年刻蝕設備銷售約47.03億元，同比增長約49.43%。此前，占公司營業(yè)收入約75.1%的刻蝕設備在2021年和2022 年分別增長了55.4%和57.1%。公司2023年新增訂單總金額約83.6億元，較2022年的63.2億元增加約20.4億元，同比增長約32.3%，其中刻蝕設備新增訂單達到69.5 億元，同比增長約60.1%。此外，中微公司綜合競爭優(yōu)勢不斷增強，各項營運指標已達到國際先進半導體設備企業(yè)水平。在過去的十年中，公司的營業(yè)收入一直以高于35%的年平均增長速度持續(xù)增長。

中微公司董事、集團副總裁、刻蝕和外延產品部總經理叢海談及這一付運里程碑時表示，中微公司緊跟先進制程工藝發(fā)展的最前沿，在產品開發(fā)、設計和制造過程中，始終強調創(chuàng)新和差異化，也正是中微公司的領先技術及專業(yè)服務使我們的設備產品贏得了客戶的青睞。未來，我們也將持續(xù)貫徹中微公司“四個十大”的企業(yè)文化，深化實踐“產品開發(fā)的十大原則”，不斷為客戶和市場提供性能卓越 、高效節(jié)能的高端設備產品。

關于中微半導體設備（上海）股份有限公司

AMEC中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發(fā)的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業(yè)的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶先進工藝的眾多刻蝕應用，中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據優(yōu)勢地位。