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科學家提出傾斜臺階面外延生長菱方氮化硼單晶方法

半導體芯科技SiSC ? 來源:中國科學院物理研究所 ? 作者:中國科學院物理研 ? 2024-05-07 17:55 ? 次閱讀
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來源:中國科學院物理研究所

常見的六方相氮化硼(hBN)因化學穩(wěn)定、導熱性能好以及表面無懸掛鍵原子級平整等特點,被視為理想的寬帶隙二維介質(zhì)材料。菱方相氮化硼(rBN)可以保持hBN較多優(yōu)異性質(zhì),并具有非中心對稱的ABC堆垛結(jié)構(gòu),因而具備本征的滑移鐵電性和非線性光學性質(zhì)。rBN是極具應用潛力的功能材料,可以為變革性技術(shù)應用(如存算一體器件和深紫外光源等)提供新材料和解決方案。

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然而,相較于常見的hBN晶體,rBN晶體屬于亞穩(wěn)相,因而制備多層rBN單晶充滿挑戰(zhàn)。制備困難在于快速生長的首層hBN薄膜對襯底催化產(chǎn)生屏蔽效應,阻礙后續(xù)層數(shù)的持續(xù)生長,同時,界面間B和N原子的范德華作用導致含有AA’A堆垛的hBN晶體在成核過程中具備能量優(yōu)勢。因此,人工制造大尺寸rBN晶體是尚未解決的難題。

中國科學院物理研究所/北京凝聚態(tài)物理國家研究中心研究員白雪冬團隊與北京大學的科研人員合作,在氮化硼單晶制備方面取得進展。相關(guān)研究成果在線發(fā)表在《自然》上,并申請國際PCT專利和中國發(fā)明專利。

2019年,該團隊開發(fā)了利用表面對稱性破缺襯底外延非中心對稱型二維單晶的方法,實現(xiàn)了大面積單層hBN單晶薄膜制備。近日,該團隊進一步提出基于表面對稱性破缺襯底面內(nèi)、面外協(xié)同調(diào)控的創(chuàng)新機制,即通過在單晶金屬鎳表面構(gòu)建由(100)晶面和(110)晶面組成斜面高臺階,在化學氣相沉積的形核階段匹配并逐層鎖定rBN晶格的面內(nèi)晶格取向和面外滑移矢量,進而在大面積范圍內(nèi)誘導形成同向rBN晶疇。掃描透射電子顯微鏡觀測表明,取向一致的rBN晶疇通過逐層無縫拼接,形成具有精準ABC原子堆垛的晶體結(jié)構(gòu),制備出rBN單晶,面積可達4×4平方厘米。

該研究通過理論計算發(fā)現(xiàn),rBN非中心對稱堆垛會導致其層間電極化矢量在面外方向積累,展現(xiàn)鐵電性。研究利用壓電力掃描探針,測量驗證了rBN具有高居里溫度鐵電性,并實現(xiàn)了鐵電疇區(qū)反復的擦、寫操作。透射電鏡原位觀測結(jié)果進一步確認了rBN的極化翻轉(zhuǎn)源自層間滑移。

該工作提出了傾斜臺階面制備多層菱方氮化硼單晶的新方法,創(chuàng)新了表面外延生長模式,通過精準排列三維空間原子,人工制造新型晶體,并將以往的氮化硼絕緣介質(zhì)賦予鐵電存儲功能,為制造存算一體器件提供了新的材料策略。

審核編輯 黃宇

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