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SK海力士引入創(chuàng)新MOR技術(shù)于DRAM生產(chǎn)

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-05-30 11:02 ? 次閱讀
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SK海力士在半導(dǎo)體領(lǐng)域再次邁出創(chuàng)新步伐,計劃在其第6代(1c工藝,約10nm)DRAM的生產(chǎn)中,首次采用Inpria的下一代金屬氧化物光刻膠(MOR)。這一突破性的應(yīng)用標(biāo)志著MOR技術(shù)正式進入DRAM量產(chǎn)工藝。

據(jù)悉,SK海力士即將量產(chǎn)的1c DRAM將包含五個極紫外(EUV)層,其中一層將使用MOR進行繪制。這不僅展現(xiàn)了SK海力士在先進制造技術(shù)上的領(lǐng)先實力,也預(yù)示了半導(dǎo)體制造行業(yè)的新趨勢。

值得注意的是,不僅SK海力士,三星電子也對該類無機PR材料表現(xiàn)出濃厚興趣,預(yù)計將加入MOR技術(shù)的探索與應(yīng)用行列。這一技術(shù)的廣泛應(yīng)用,有望為半導(dǎo)體行業(yè)帶來更多的創(chuàng)新與突破。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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