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盤點(diǎn)第三代半導(dǎo)體性能及應(yīng)用

dKBf_eetop_1 ? 來(lái)源:未知 ? 作者:胡薇 ? 2018-09-14 10:51 ? 次閱讀
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近日科技部高新司在北京組織召開“十二五”期間863計(jì)劃重點(diǎn)支持的“第三代半導(dǎo)體器件制備及評(píng)價(jià)技術(shù)”項(xiàng)目驗(yàn)收會(huì)。通過(guò)項(xiàng)目的實(shí)施,我國(guó)在第三代半導(dǎo)體關(guān)鍵的碳化硅和氮化鎵材料、功率器件、高性能封裝以及可見(jiàn)光通信等領(lǐng)域取得突破。

中國(guó)開展SiC、GaN材料和器件方面的研究工作比較晚,與國(guó)外相比水平較低,阻礙國(guó)內(nèi)第三代半導(dǎo)體研究進(jìn)展的重要因素是原始創(chuàng)新問(wèn)題。隨著國(guó)家對(duì)第三代半導(dǎo)體材料的重視,近年來(lái),我國(guó)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)發(fā)展迅速。其中以碳化硅與氮化鎵為主的材料備受關(guān)注。我們認(rèn)為,該項(xiàng)目取得的進(jìn)展,顯示出我國(guó)在半導(dǎo)體前沿材料的研究方面取得了突破進(jìn)展,有助于支撐我國(guó)在節(jié)能減排、現(xiàn)代信息工程、現(xiàn)代國(guó)防建設(shè)上的重大需求。

近年來(lái),國(guó)家和各地方政府陸續(xù)推出政策和產(chǎn)業(yè)扶持基金發(fā)展第三代半導(dǎo)體相關(guān)產(chǎn)業(yè):地方政策在2016年大量出臺(tái),福建、廣東、江蘇、北京、青海等27個(gè)地區(qū)出臺(tái)第三代半導(dǎo)體相關(guān)政策(不包括LED)近30條。

考慮到當(dāng)前國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)投資基本上進(jìn)入了國(guó)家主導(dǎo)的投資階段,2014年大基金的成立開啟了一輪國(guó)內(nèi)投資半導(dǎo)體的熱潮,無(wú)論是政府資金,還是產(chǎn)業(yè)資本都紛紛進(jìn)入這個(gè)領(lǐng)域。隨著碳化硅和氮化鎵材料研發(fā)取得進(jìn)展,我們預(yù)期,第二期大基金的布局焦點(diǎn)應(yīng)該會(huì)向上游的原材料和設(shè)備傾斜更多的資源,尤其是涉及第三代半導(dǎo)體材料氮化鎵和碳化硅這樣的上游材料公司有機(jī)會(huì)受到資金青睞。

第三代半導(dǎo)體是何方神圣?

相比第1代與第2代半導(dǎo)體材料,第3代半導(dǎo)體材料是具有較大禁帶寬度(禁帶寬度>2.2eV)的半導(dǎo)體材料。第3代半導(dǎo)體主要包括碳化硅(SiC)、氮化鋁(AlN)、氮化鎵(GaN)、金剛石、氧化鋅(ZnO),其中,發(fā)展較為成熟的是SiC和GaN。第3代半導(dǎo)體材料在導(dǎo)熱率、抗輻射能力、擊穿電場(chǎng)、電子飽和速率等方面優(yōu)點(diǎn)突出,因此更使用于高溫、高頻、抗輻射的場(chǎng)合。

半導(dǎo)體材料是制作半導(dǎo)體器件和集成電路的電子材料。1958年,世界上第一塊集成電路在美國(guó)誕生,由此開啟了芯片時(shí)代。1965年,中國(guó)獨(dú)立研制出第一塊集成電路。

1958年以后,半導(dǎo)體材料逐漸走上了升級(jí)之路。第一代半導(dǎo)體材料是以硅和鍺為代表的元素半導(dǎo)體,用于電子器件。第二代半導(dǎo)體材料是以砷化鎵、磷化銦為代表的化合物半導(dǎo)體材料。與第一代半導(dǎo)體材料相比,它能夠發(fā)光,但只是紅光波長(zhǎng)以上的光。以氮化鎵、碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體材料,發(fā)光波長(zhǎng)幾乎涵蓋所有可見(jiàn)光,因而其應(yīng)用領(lǐng)域十分廣闊。紅綠藍(lán)三基色能調(diào)配出任何一種顏色。第三代半導(dǎo)體材料發(fā)出的藍(lán)光是調(diào)出白光LED的基礎(chǔ)。

第三代半導(dǎo)體材料現(xiàn)在和將來(lái)能改變生活的方面主要集中在三大領(lǐng)域。

一是發(fā)光。它能做成LED(發(fā)光二極管)。用于顯示如手機(jī)屏、電視屏、大型顯示屏等,亦可用于照明,如電燈、路燈、汽車前燈等。近年來(lái),國(guó)內(nèi)LED行業(yè)發(fā)展非常迅速,占據(jù)了大部分的顯示市場(chǎng);同時(shí),很多照明領(lǐng)域都在逐步被LED照明所替代。盛況認(rèn)為,我國(guó)在這一領(lǐng)域的發(fā)展是很成功的。

二是通訊。人們對(duì)它的預(yù)期前景是5G,即第五代移動(dòng)通信網(wǎng)絡(luò)。其中基站用的射頻功放管器件,僅華為和中興通訊每年的采購(gòu)量近億只,采購(gòu)金額超過(guò)100億元。目前基本依賴進(jìn)口。實(shí)現(xiàn)以GaN(氮化鎵)射頻功放管器件為代表的核心器件國(guó)產(chǎn)化,將對(duì)我國(guó)在未來(lái)5G通信競(jìng)爭(zhēng)中打破受制于人的局面具有重要的意義。

三是電能變換。電能變換的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣,所有用電的裝備、設(shè)施,幾乎都要用電能變換的半導(dǎo)體器件對(duì)電能進(jìn)行控制、管理和變換。

電能變換的用途量大面廣。盛況向記者舉例,軌道交通、新能源汽車、光伏和風(fēng)電的并網(wǎng),以及消費(fèi)類電子中的變頻空調(diào)、冰箱、手機(jī)充電器、電腦電源等都需要半導(dǎo)體器件。如果第三代半導(dǎo)體材料能替代現(xiàn)在第二代半導(dǎo)體材料,能使半導(dǎo)體器件的功率更大、效率更高、體積更小。

美國(guó)工程院院士Fred C.LEE曾表示數(shù)據(jù)中心未來(lái)將帶來(lái)大量的能耗,如果采用第三代半導(dǎo)體的電力電子器件并從結(jié)構(gòu)上整體優(yōu)化,能將效率由原來(lái)的73%提升到87%。相當(dāng)于節(jié)省3.5個(gè)三峽的發(fā)電量。

碳化硅和氮化鎵都可以做電力電子器件?;谶@兩種材料的器件發(fā)展各有各的難度。碳化硅器件的研究時(shí)間更長(zhǎng),技術(shù)更成熟,在產(chǎn)業(yè)化和市場(chǎng)化比氮化鎵器件走得遠(yuǎn)一些。目前一些先進(jìn)的汽車廠商已經(jīng)在開始用碳化硅器件,比如特斯拉。盡管手機(jī)充電器尚未大量使用氮化鎵器件。相信在不遠(yuǎn)的將來(lái),手機(jī)充電器可能會(huì)具備快充和高功率密度兩大特點(diǎn)。在這個(gè)領(lǐng)域,氮化鎵的用途可能會(huì)更明顯。

第三代半導(dǎo)體性能及應(yīng)用

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展至今經(jīng)歷了三個(gè)階段,第一代半導(dǎo)體材料以硅(Si)為代表。第二代半導(dǎo)體材料砷化鎵(GaAs)也已經(jīng)廣泛應(yīng)用。而以氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)、氧化鋅(ZnO)等寬禁帶為代表的第三代半導(dǎo)體材料,相較前兩代產(chǎn)品,性能優(yōu)勢(shì)顯著并受到業(yè)內(nèi)的廣泛好評(píng)。第三代半導(dǎo)體具有高擊穿電場(chǎng)、高飽和電子速度、高熱導(dǎo)率、高電子密度、高遷移率等特點(diǎn),因此也被業(yè)內(nèi)譽(yù)為固態(tài)光源、電力電子、微波射頻器件的“核芯”以及光電子和微電子等產(chǎn)業(yè)的“新發(fā)動(dòng)機(jī)”。發(fā)展較好的寬禁帶半導(dǎo)體主要是SiC和GaN,其中SiC的發(fā)展更早一些。SiC、GaN、Si以及GaAs的一些參數(shù)如下圖所示:

可見(jiàn),SiC和GaN的禁帶寬度遠(yuǎn)大于Si和GaAs,相應(yīng)的本征載流子濃度小于Si和GaAs,寬禁帶半導(dǎo)體的最高工作溫度要高于第一、第二代半導(dǎo)體材料。擊穿場(chǎng)強(qiáng)和飽和熱導(dǎo)率也遠(yuǎn)大于Si和GaAs。以SiC為例,其具有寬的禁帶寬度、高的擊穿電場(chǎng)、高的熱導(dǎo)率、高的電子飽和速率及更高的抗輻射能力,非常適合于制作高溫、高頻、抗輻射及大功率器件。

產(chǎn)品被市場(chǎng)所接受,價(jià)格和性能是最主要的考慮因素。SiC的性能毋庸置疑,但成本還是比硅產(chǎn)品高,在相同特性、相同電壓、相同使用條件的情況下,大約會(huì)比硅產(chǎn)品貴5~6倍,因此,現(xiàn)階段只能從要求高性能、且對(duì)價(jià)格不是很敏感的應(yīng)用開始來(lái)取代硅產(chǎn)品,例如汽車、汽車充電樁、太陽(yáng)能等。要取代硅制產(chǎn)品,SiC還是有很大的發(fā)展空間的。當(dāng)SiC的成本能降到硅的2~3倍的時(shí)候,應(yīng)該會(huì)形成很大的市場(chǎng)規(guī)模。到2020年,EV汽車大規(guī)模推出的時(shí)候,SiC市場(chǎng)會(huì)有爆發(fā)式的增長(zhǎng)。

在應(yīng)用方面,根據(jù)第三代半導(dǎo)體的發(fā)展情況,其主要應(yīng)用為半導(dǎo)體照明、電力電子器件、激光器和探測(cè)器、以及其他4個(gè)領(lǐng)域,每個(gè)領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)成熟度各不相同,如下圖所示。在前沿研究領(lǐng)域,寬禁帶半導(dǎo)體還處于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)階段。

下面,我們重點(diǎn)關(guān)注一下其在功率管理方面的應(yīng)用情況。許多公司開始研發(fā)SiC MOSFET,領(lǐng)先企業(yè)包括包括英飛凌(Infineon)、科銳(Cree)旗下的Wolfspeed、羅姆(ROHM)、意法半導(dǎo)體(STMicroelctronics)、三菱和通用電氣等。與此相反,進(jìn)入GaN市場(chǎng)中的玩家較少,起步較晚。

SiC和GaN商業(yè)化功率器件發(fā)展歷程

SiC的電力電子器件市場(chǎng)在2016年正式形成,市場(chǎng)規(guī)模約在2.1億~2.4億美金之間。而據(jù)Yole最新預(yù)測(cè),SiC市場(chǎng)規(guī)模在2021年將上漲到5.5億美金,這期間的復(fù)合年均增長(zhǎng)率預(yù)計(jì)將達(dá)19%。目前,全球有超過(guò)30家公司在電力電子領(lǐng)域擁有SiC、GaN相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)、設(shè)計(jì)、制造和銷售能力。2016年SiC無(wú)論在襯底材料、器件還是在應(yīng)用方面,均有很大進(jìn)展,已經(jīng)開發(fā)出耐壓水平超過(guò)20KV的IGBT樣片。

消耗大量二極管的功率因素校正(PFC)電源市場(chǎng),仍將是SiC功率半導(dǎo)體最主要的應(yīng)用。緊隨PFC電源市場(chǎng)之后的應(yīng)用領(lǐng)域是光伏逆變器。目前,許多光伏逆變器制造商將SiC二極管和MOSFET應(yīng)用于他們的產(chǎn)品之中。SiC二極管的應(yīng)用能夠?yàn)楣夥孀兤魈峁┲T多性能優(yōu)勢(shì),包括提高效率、降低尺寸和重量等。此外,SiC二極管能在一定功率范圍內(nèi)降低系統(tǒng)成本。

SiC器件市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)

各國(guó)的SiC戰(zhàn)略

第三代半導(dǎo)體材料引發(fā)全球矚目,并成為半導(dǎo)體技術(shù)研究前沿和產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn),美、日、歐等國(guó)都在積極進(jìn)行戰(zhàn)略部署。作為電力電子器件,SiC器件在低壓領(lǐng)域如高端的白色家電、電動(dòng)汽車等由于成本因素,逐漸失去了競(jìng)爭(zhēng)力。但在高壓領(lǐng)域,如高速列車、風(fēng)力發(fā)電以及智能電網(wǎng)等,SiC具有不可替代性的優(yōu)勢(shì)。

SiC材料與電力電子器件的發(fā)展

美國(guó)等發(fā)達(dá)國(guó)家為了搶占第三代半導(dǎo)體技術(shù)的戰(zhàn)略制高點(diǎn),通過(guò)國(guó)家級(jí)創(chuàng)新中心、協(xié)同創(chuàng)新中心、聯(lián)合研發(fā)等形式,將企業(yè)、高校、研究機(jī)構(gòu)及相關(guān)政府部門等有機(jī)地聯(lián)合在一起,實(shí)現(xiàn)第三代半導(dǎo)體技術(shù)的加速進(jìn)步,引領(lǐng)、加速并搶占全球第三代半導(dǎo)體市場(chǎng)。

例如,美國(guó)國(guó)家宇航局(NASA)、國(guó)防部先進(jìn)研究計(jì)劃署(DARPA)等機(jī)構(gòu)通過(guò)研發(fā)資助、購(gòu)買訂單等方式,開展SiC、GaN研發(fā)、生產(chǎn)與器件研制;韓國(guó)方面,在政府相關(guān)機(jī)構(gòu)主導(dǎo)下,重點(diǎn)圍繞高純SiC粉末制備、高純SiC多晶陶瓷、高質(zhì)量SiC單晶生長(zhǎng)、高質(zhì)量SiC外延材料生長(zhǎng)這4個(gè)方面,開展研發(fā)項(xiàng)目。在功率器件方面,韓國(guó)還啟動(dòng)了功率電子的國(guó)家項(xiàng)目,重點(diǎn)圍繞Si基GaN和SiC。

美國(guó)等發(fā)達(dá)國(guó)家2016年第三代半導(dǎo)體材料相關(guān)部分政策措施如下圖所示:

資料來(lái)源:CASA整理

中國(guó)現(xiàn)狀

我國(guó)開展SiC、GaN材料和器件方面的研究工作比較晚,水平較低,阻礙國(guó)內(nèi)第三代半導(dǎo)體研究進(jìn)展的重要因素是原始創(chuàng)新問(wèn)題。國(guó)內(nèi)新材料領(lǐng)域的科研院所和相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)大都急功近利,難以容忍長(zhǎng)期“只投入,不產(chǎn)出”的現(xiàn)狀。因此,以第三代半導(dǎo)體材料為代表的新材料原始創(chuàng)新舉步維艱。

但與此同時(shí)政府也在積極推進(jìn),國(guó)家和各地方政府陸續(xù)推出政策和產(chǎn)業(yè)扶持基金發(fā)展第三代半導(dǎo)體相關(guān)產(chǎn)業(yè):地方政策在2016年大量出臺(tái),福建、廣東、江蘇、北京、青海等27個(gè)地區(qū)出臺(tái)第三代半導(dǎo)體相關(guān)政策(不包括LED)近30條。一方面多地均將第三代半導(dǎo)體寫入“十三五”相關(guān)規(guī)劃,另一方面不少地方政府有針對(duì)性對(duì)當(dāng)?shù)鼐哂幸欢▋?yōu)勢(shì)的SiC和GaN材料企業(yè)進(jìn)行扶持。福建省更是計(jì)劃投入500億,成立專門的安芯基金來(lái)建設(shè)第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集群。

我國(guó)多家半導(dǎo)體廠商也在積極布局SiC和GaN器件,華潤(rùn)華晶微電子和華虹宏力就是其中的代表企業(yè)。曾經(jīng)距離收購(gòu)仙童半導(dǎo)體那么近,可以看出華潤(rùn)微電子在布局先進(jìn)功率器件方面的決心和力度。華潤(rùn)華晶微電子是華潤(rùn)微電子旗下從事半導(dǎo)體分立器件的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),在國(guó)內(nèi),其功率器件的規(guī)模和品牌具有一定優(yōu)勢(shì)。華虹宏力則是業(yè)內(nèi)首個(gè)擁有深溝槽超級(jí)結(jié)(Deep Trench Super Junction,DT-SJ)及場(chǎng)截止型IGBT(Field Stop,F(xiàn)S IGBT)工藝平臺(tái)的200mm代工廠。中國(guó)企業(yè)已經(jīng)具備一定規(guī)模。

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原文標(biāo)題:我國(guó)第三代半導(dǎo)體取得突破!第三代半導(dǎo)體是何方神圣?

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    AMEYA360理品牌:上海永銘第三代半導(dǎo)體落地關(guān)鍵,如何為GaN/SiC系統(tǒng)匹配高性能電容解決方案 ? 引言:氮化鎵(GaN)與碳化硅(SiC)技術(shù)正推動(dòng)功率電子革命,但真正的場(chǎng)景
    的頭像 發(fā)表于 12-04 15:34 ?332次閱讀

    第三代半導(dǎo)體半橋上管電壓電流測(cè)試方案

    第三代半導(dǎo)體器件的研發(fā)與性能評(píng)估中,對(duì)半橋電路上管進(jìn)行精確的電壓與電流參數(shù)測(cè)試,是優(yōu)化電路設(shè)計(jì)、驗(yàn)證器件特性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。一套科學(xué)、可靠的測(cè)試方案可為技術(shù)開發(fā)提供堅(jiān)實(shí)的數(shù)據(jù)支撐,加速技術(shù)迭代與產(chǎn)業(yè)化
    的頭像 發(fā)表于 11-19 11:01 ?237次閱讀
    <b class='flag-5'>第三代</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>半橋上管電壓電流測(cè)試方案

    CINNO出席第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作大會(huì)

    10月25日,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作大會(huì)在鹽城高新區(qū)召開。省工業(yè)和信息化廳二級(jí)巡視員余雷、副市長(zhǎng)祁從峰出席會(huì)議并致辭。鹽都區(qū)委書記馬正華出席,鹽都區(qū)委副書記、區(qū)長(zhǎng)臧沖主持會(huì)議。
    的頭像 發(fā)表于 10-27 18:05 ?1422次閱讀

    基本半導(dǎo)體B3M平臺(tái)深度解析:第三代SiC碳化硅MOSFET技術(shù)與應(yīng)用

    基礎(chǔ),將其定位為平面柵碳化硅(SiC)MOSFET技術(shù)的一次重要演進(jìn),其目標(biāo)不僅在于追趕,更在于在特定性能維度上超越市場(chǎng)現(xiàn)有成熟方案。 1.1 第三代(B3M)平臺(tái)概述 B3M系列是基本半導(dǎo)體推出的
    的頭像 發(fā)表于 10-08 13:12 ?787次閱讀
    基本<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>B3M平臺(tái)深度解析:<b class='flag-5'>第三代</b>SiC碳化硅MOSFET技術(shù)與應(yīng)用

    電鏡技術(shù)在第三代半導(dǎo)體中的關(guān)鍵應(yīng)用

    第三代半導(dǎo)體材料,以碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)為代表,因其在高頻、高效率、耐高溫和耐高壓等性能上的卓越表現(xiàn),正在成為半導(dǎo)體領(lǐng)域的重要發(fā)展方向。在這些材料的制程中,電鏡技術(shù)發(fā)揮著
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    電鏡技術(shù)在<b class='flag-5'>第三代</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>中的關(guān)鍵應(yīng)用

    SiC碳化硅第三代半導(dǎo)體材料 | 耐高溫絕緣材料應(yīng)用方案

    發(fā)展最成熟的第三代半導(dǎo)體材料,可謂是近年來(lái)最火熱的半導(dǎo)體材料。尤其是在“雙碳”戰(zhàn)略背景下,碳化硅被深度綁定新能源汽車、光伏、儲(chǔ)能等節(jié)能減碳行業(yè),萬(wàn)眾矚目。陶瓷方面,
    的頭像 發(fā)表于 06-15 07:30 ?1291次閱讀
    SiC碳化硅<b class='flag-5'>第三代</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>材料 |  耐高溫絕緣材料應(yīng)用方案

    第三代半導(dǎo)體的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用領(lǐng)域

    隨著電子技術(shù)的快速發(fā)展,半導(dǎo)體材料的研究與應(yīng)用不斷演進(jìn)。傳統(tǒng)的硅(Si)半導(dǎo)體已無(wú)法滿足現(xiàn)代電子設(shè)備對(duì)高效能和高頻性能的需求,因此,第三代半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 05-22 15:04 ?2436次閱讀

    瑞能半導(dǎo)體第三代超結(jié)MOSFET技術(shù)解析(1)

    隨著AI技術(shù)井噴式快速發(fā)展,進(jìn)一步推動(dòng)算力需求,服務(wù)器電源效率需達(dá)97.5%-98%,通過(guò)降低能量損耗,來(lái)支撐高功率的GPU。為了抓住市場(chǎng)機(jī)遇,瑞能半導(dǎo)體先發(fā)制人,推出的第三代超結(jié)MOSFET,能全面滿足高效能需求。
    的頭像 發(fā)表于 05-22 13:58 ?887次閱讀
    瑞能<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>第三代</b>超結(jié)MOSFET技術(shù)解析(1)