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華虹半導(dǎo)體宣布第二代0.18微米5V/40VBCD工藝平臺已成功量產(chǎn)

半導(dǎo)體動態(tài) ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:工程師吳畏 ? 2018-10-10 15:58 ? 次閱讀
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10月10日,華虹半導(dǎo)體有限公司(“華虹半導(dǎo)體”)宣布,其第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺已成功量產(chǎn),該平臺具有導(dǎo)通電阻低、高壓種類全、光刻層數(shù)少等優(yōu)勢,對于工業(yè)控制應(yīng)用和DC-DC轉(zhuǎn)換器等產(chǎn)品是理想的工藝選擇。

第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺40V DMOS擊穿電壓達到52V,其導(dǎo)通電阻低至 20 mOhm.mm2,達到該節(jié)點領(lǐng)先工藝水平,可提高產(chǎn)品的驅(qū)動能力,減小芯片面積,擴大高壓管安全工作區(qū)(Safe-Operation-Area, SOA),保證產(chǎn)品的高可靠性。該工藝平臺最少光罩層數(shù)為18層。

該工藝平臺提供豐富的可選擇器件,包括高阻、電容、Zener二極管肖特基二極管等。此外,該平臺還提供in-house設(shè)計的標準單元庫、SRAM編譯器、IO和eFuse,從而為電源管理芯片提供完善的設(shè)計解決方案。

目前,在與國內(nèi)外多家客戶緊密合作下,公司已完成應(yīng)用于電機驅(qū)動、快充、通訊、安防、DC-DC、LDO等多個領(lǐng)域芯片產(chǎn)品的驗證,并成功進入量產(chǎn)。

以綠色科技為主導(dǎo),電源管理技術(shù)扮演著舉足輕重的地位。華虹半導(dǎo)體已引入全面的電源管理(PMIC)BCD工藝方案,在成熟的0.5微米、0.35微米、0.18微米節(jié)點上積累了豐富的量產(chǎn)經(jīng)驗。未來,華虹半導(dǎo)體將繼續(xù)發(fā)揮在BCD和eNVM特色工藝上的技術(shù)優(yōu)勢,提供二者的集成方案,為智能化電源產(chǎn)品,打造高端電源管理系統(tǒng)級芯片(SoC)。

華虹半導(dǎo)體執(zhí)行副總裁孔蔚然博士表示:“華虹半導(dǎo)體一直將電源管理平臺視作工藝研發(fā)的重點之一,第二代0.18微米5V/40V BCD工藝量產(chǎn)標志著我們在PMIC領(lǐng)域的核心競爭力再度提升。展望未來,我們還將持續(xù)拓展更先進的智能電源管理平臺,為客戶提供差異化技術(shù)的競爭優(yōu)勢。”

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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