半導(dǎo)體制程 分立器件 二極管的種類及其用法 二極管是一種具有1個(gè)PN接合的2個(gè)端子的器件。具有按照外加電壓的方向,使電流流動(dòng)或不流動(dòng)的性質(zhì)。 二極管的基本特性 利用PN接合的少
2012-03-27 11:02:28
7281 手機(jī)性能越來越強(qiáng)勁離不開半導(dǎo)體制程的進(jìn)步,明年手機(jī)處理器將會(huì)進(jìn)入10nm時(shí)代。高通驍龍835、聯(lián)發(fā)科Helio X30、蘋果A11處理器都將采用10nm制程,因此晶圓代工廠商臺(tái)積電、英特爾、三星等也在紛紛搶進(jìn)10nm、7nm先進(jìn)半導(dǎo)體制程。不過,市場真的能跟上先進(jìn)半導(dǎo)體制程的腳步嗎?
2016-12-27 15:47:02
1278 根據(jù)致力于規(guī)劃新版半導(dǎo)體發(fā)展藍(lán)圖的工程師所提供的白皮書,傳統(tǒng)的半導(dǎo)體制程微縮預(yù)計(jì)將在2024年以前告終。值得慶幸的是,各種新型的組件、芯片堆棧和系統(tǒng)創(chuàng)新,可望持續(xù)使運(yùn)算性能、功耗和成本受益。
2017-03-27 08:59:35
1664 
本文是為了在Si
基板蝕刻制造金剛石時(shí)提高制造收率,為此,將
半導(dǎo)體Si
基板接入陽極,將Pt電極接入陰極后,在pt電極用跳汰機(jī)內(nèi)放入氮?dú)馀菖萜?,旋轉(zhuǎn)對向的正電極上外部認(rèn)可電壓,泡泡器內(nèi)吹入氮?dú)猓诩訙?/div>
2022-03-24 16:47:48
4409 
BGA基板工藝制程簡介
2022-11-16 10:12:27
1843 BGA基板工藝制程簡介
2022-11-28 14:58:00
2982 在這個(gè)半導(dǎo)體制程工藝即將面臨更新?lián)Q代之際,我們不妨從設(shè)計(jì)、制造和代工不同角度審視一下,迎接全新工藝的半導(dǎo)體企業(yè)的應(yīng)對策略。
2011-09-30 09:16:23
2088 
年代的第一年,半導(dǎo)體工藝制程發(fā)展的狀況又會(huì)如何變化呢?是否會(huì)帶來一些新的進(jìn)展呢? 英特爾 10nm快速崛起,重返Tick-Tock時(shí)代 英特爾的發(fā)展步伐一直是業(yè)內(nèi)關(guān)注的焦點(diǎn)。2019年下
2020-07-07 11:38:14
半導(dǎo)體發(fā)展至今,無論是從結(jié)構(gòu)和加工技術(shù)多方面都發(fā)生了很多的改進(jìn),如同Gordon E. Moore老大哥預(yù)測的一樣,半導(dǎo)體器件的規(guī)格在不斷的縮小,芯片的集成度也在不斷提升,工藝制程從90nm
2020-12-10 06:55:40
其中國市場的開發(fā)、推廣。公司自有產(chǎn)品包括半導(dǎo)體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應(yīng)用中的各種濕制程設(shè)備,例如硅片濕法清洗、蝕刻,硅芯硅棒濕法化學(xué)處理,液晶基板清洗,LED基片顯影脫膜等
2015-04-02 17:21:04
半導(dǎo)體制冷—— 2 1 世紀(jì)的綠色“冷源”唐春暉(上海理工大學(xué)光學(xué)與電子信息工程學(xué)院,上海 200093)摘要:基于節(jié)能和環(huán)保已是當(dāng)今一切科技發(fā)展進(jìn)步的基本要求,對半導(dǎo)體制冷技術(shù)原理以及應(yīng)用情況做了
2010-04-02 10:14:56
大家有沒有用過半導(dǎo)體制冷的,我現(xiàn)在選了一種制冷片,72W的,我要對一個(gè)2.5W的熱負(fù)載空間(100x100x100mm)降溫,用了兩片,在環(huán)溫60度時(shí)熱負(fù)載所處的空間只降到30度,我采用的時(shí)泡沫膠
2012-08-15 20:07:10
半導(dǎo)體制冷的機(jī)理主要是電荷載體在不同的材料中處于不同的能量級,在外電場的作用下,電荷載體從高能級的材料向低能級的材料運(yùn)動(dòng)時(shí),便會(huì)釋放出多余的能量。
2020-04-03 09:02:14
半導(dǎo)體制冷片控制板開發(fā)技術(shù)需要用到的功能模塊有哪些?有知道的朋友嗎?展開講講?
2022-05-22 18:26:09
半導(dǎo)體制冷片新技術(shù)應(yīng)用類金剛石基板,提高制冷效率,屬于我司新技術(shù)應(yīng)用方向,故歡迎此方面專家探討交流,手機(jī)***,QQ6727689,周S!詳細(xì)見附件!
2013-09-05 15:33:52
半導(dǎo)體制冷片是利用半導(dǎo)體材料的Peltier效應(yīng)而制作的電子元件,當(dāng)直流電通過兩種不同半導(dǎo)體材料串聯(lián)成的電偶時(shí),在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量,可以實(shí)現(xiàn)制冷的目的。它是一種產(chǎn)生負(fù)熱阻的制冷技術(shù),其特點(diǎn)是無運(yùn)動(dòng)部件,可靠性也比較高。半導(dǎo)體制冷片的工作原理是什么?半導(dǎo)體制冷片有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?
2021-02-24 09:24:02
在制造半導(dǎo)體器件時(shí),為什么先將導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導(dǎo)體,使之導(dǎo)電性極差,然后再用擴(kuò)散工藝在本征半導(dǎo)體中摻入雜質(zhì)形成N型半導(dǎo)體或P型半導(dǎo)體改善其導(dǎo)電性?
2012-07-11 20:23:15
們的投入中,80%的開支會(huì)用于先進(jìn)產(chǎn)能擴(kuò)增,包括7nm、5nm及3nm,另外20%主要用于先進(jìn)封裝及特殊制程。而先進(jìn)工藝中所用到的EUV極紫外光刻機(jī),一臺(tái)設(shè)備的單價(jià)就可以達(dá)到1.2億美元,可見半導(dǎo)體
2020-02-27 10:42:16
。電路集成度越高,挑戰(zhàn)半導(dǎo)體制造工藝的能力,在可接受的成本條件下改善工藝技術(shù),以生產(chǎn)高級程度的大規(guī)模集成電路芯片。為達(dá)到此目標(biāo),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已變成高度標(biāo)準(zhǔn)化的,大多數(shù)制造商使用相似的制造工藝和設(shè)備。開發(fā)
2020-09-02 18:02:47
。這樣,半導(dǎo)體工廠投產(chǎn)以后整體生產(chǎn)系統(tǒng)才能發(fā)揮最大的生產(chǎn)效能。特別是迅速發(fā)展的亞微米工藝對生產(chǎn)場所空氣潔凈度要求特別高,所有半導(dǎo)體制程設(shè)備,都必須安置在隔絕粉塵進(jìn)入的密閉空間中,這就是潔凈室的來由
2020-09-24 15:17:16
的積體電路所組成,我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴(kuò)散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù),所須制程多達(dá)二百至三百個(gè)步驟。半導(dǎo)體制程的繁雜性是為了確保每一個(gè)元器件的電性參數(shù)和性能,那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
~ 3,000三、半導(dǎo)體制程設(shè)備 半導(dǎo)體制程概分為三類:(1)薄膜成長,(2)微影罩幕,(3)蝕刻成型。設(shè)備也跟著分為四類:(a)高溫爐管,(b)微影機(jī)臺(tái),(c)化學(xué)清洗蝕刻臺(tái),(d)電漿真空腔室
2011-08-28 11:55:49
`《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`
2012-08-20 19:40:32
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:CMOS 單元工藝編號:JFSJ-21-027作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html晶圓生產(chǎn)需要三個(gè)一般過程:硅
2021-07-06 09:32:40
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN 基板的表面處理編號:JFSJ-21-077作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html關(guān)鍵詞: GaN 襯底
2021-07-07 10:26:01
`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN 納米線制造和單光子發(fā)射器器件應(yīng)用的蝕刻工藝編號:JFSJ-21-045作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:11:24
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN、ZnO和SiC的濕法化學(xué)蝕刻編號:JFKJ-21-830作者:炬豐科技摘要寬帶隙半導(dǎo)體具有許多特性,使其對高功率、高溫器件應(yīng)用具有吸引力。本文綜述了三種
2021-10-14 11:48:31
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN晶體蝕刻的幾何方面和光子應(yīng)用編號:JFSJ-21-044作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要:濕法
2021-07-08 13:09:52
`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN的晶體濕化學(xué)蝕刻[/td][td]編號:JFSJ-21-0作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html 目前
2021-07-07 10:24:07
`書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:IC制造工藝編號:JFSJ-21-046作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要:集成電路的制造主要包括以下工藝
2021-07-08 13:13:06
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:InGaP 和 GaAs 在 HCl 中的濕蝕刻編號:JFSJ-21-0作者:炬豐科技關(guān)鍵字:InGaP,濕法蝕刻,蝕刻速率 在H3P04和H202不同含量
2021-07-09 10:23:37
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:微鏡角度依賴性與蝕刻劑選擇編號:JFKJ-21-047作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html抽象的:在為微光學(xué)創(chuàng)建
2021-07-19 11:03:23
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:用于半導(dǎo)體封裝基板的化學(xué)鍍 Ni-P/Pd/Au編號:JFSJ-21-077作者:炬豐科技 隨著便攜式電子設(shè)備的普及,BGA(球柵陣列)越來越多地用于安裝在高密度
2021-07-09 10:29:30
書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:硅納米柱與金屬輔助化學(xué)蝕刻的比較編號:JFSJ-21-015作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:33:58
1、GaAs半導(dǎo)體材料可以分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類,元素半導(dǎo)體指硅、鍺單一元素形成的半導(dǎo)體,化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導(dǎo)體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍,非常適合
2019-07-29 07:16:49
從7nm到5nm,半導(dǎo)體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來表示,比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
我想用單片機(jī)開發(fā)板做個(gè)熱療儀,開發(fā)板是某寶上買的那種,有兩個(gè)猜想:一個(gè)用半導(dǎo)體制冷片發(fā)熱,一個(gè)用電熱片。但我不會(huì)中間要不要接個(gè)DA轉(zhuǎn)換器還是繼電器什么的,查過一些資料,如果用半導(dǎo)體制冷片用PWM控制
2017-11-22 14:15:40
求大神解答,半導(dǎo)體制冷片的正負(fù)極能反接嗎,如果可以,那原來的制冷面是不是可變成散熱面而原來的散熱面變成制冷面??
2016-03-03 16:53:12
基于半導(dǎo)體制冷片的高精度溫度控制系統(tǒng),總結(jié)的太棒了
2021-05-08 06:20:22
如何實(shí)現(xiàn)基于STM32的半導(dǎo)體制冷片(TEC)溫度控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)?
2021-12-23 06:07:59
想用半導(dǎo)體制冷片制作小冰箱,需要用到大功率電源,半導(dǎo)體制冷片,還有散熱系統(tǒng),單片機(jī)控制系統(tǒng),能調(diào)溫度,還能顯示溫度,具體的思路已經(jīng)有了,想問問你們有沒好點(diǎn)的意見,能盡量提高點(diǎn)效率還有溫度調(diào)節(jié)的精度
2020-08-27 08:07:58
{:1:}想了解半導(dǎo)體制造相關(guān)知識(shí)
2012-02-12 11:15:05
。 第1章 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)介紹 第2章 半導(dǎo)體材料特性 第3章 器件技術(shù) 第4章 硅和硅片制備 第5章 半導(dǎo)體制造中的化學(xué)品 第6章 硅片制造中的沾污控制 第7章 測量學(xué)和缺陷檢查 第8章 工藝腔內(nèi)的氣體控制
2025-04-15 13:52:11
問個(gè)菜的問題:半導(dǎo)體(或集成電路)工藝 來個(gè)人講講 半導(dǎo)體工藝 集成電路工藝 硅工藝 CMOS工藝的概念和區(qū)別以及聯(lián)系吧。查了一下:集成電路工藝(integrated
2009-09-16 11:51:34
是半導(dǎo)體制造,微機(jī)械和微流控設(shè)備中的重要過程,需要微尺度的特征來優(yōu)化性能或創(chuàng)建層流態(tài),這在宏觀上幾乎是不可能獲得的。由于能夠通過改變蝕刻劑濃度和蝕刻時(shí)間來輕松控制z軸蝕刻,因此常用于分層應(yīng)用。缺點(diǎn)包括許多化學(xué)廢物,其中許多是高酸性和多步過程。
2021-01-08 10:15:01
可行嗎?還需要電器隔離嗎?半導(dǎo)體制冷片的額定電壓是12v,mcu是stm32
2018-05-01 19:29:12
碳化硅(SiC)即使在高達(dá)1400℃的溫度下,仍能保持其強(qiáng)度。這種材料的明顯特點(diǎn)在于導(dǎo)熱和電氣半導(dǎo)體的導(dǎo)電性極高。碳化硅化學(xué)和物理穩(wěn)定性,碳化硅的硬度和耐腐蝕性均較高。是陶瓷材料中高溫強(qiáng)度好的材料
2021-01-12 11:48:45
到了二十世紀(jì)五十年代隨著半導(dǎo)體材料的迅猛發(fā)展,熱電制冷器才逐漸從實(shí)驗(yàn)室走向工程實(shí)踐,在國防、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療和日常生活等領(lǐng)域獲得應(yīng)用,大到可以做核潛艇的空調(diào),小到可以用來冷卻紅外線探測器的探頭,因此通常又把熱電制冷器稱為半導(dǎo)體制冷器。
2013-11-29 09:26:38
芯片制造-半導(dǎo)體工藝制程實(shí)用教程學(xué)習(xí)筆記[/hide]
2009-11-18 11:44:51
其中國市場的開發(fā)、推廣。公司自有產(chǎn)品包括半導(dǎo)體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應(yīng)用中的各種濕制程設(shè)備,例如硅片濕法清洗、蝕刻,硅芯硅棒濕法化學(xué)處理,液晶基板清洗,LED基片顯影脫膜等
2015-04-02 17:26:21
英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人戈登·摩爾在半世紀(jì)前提出的摩爾定律,是指每代制程工藝都要讓芯片上的晶體管數(shù)量翻一番??v觀芯片每代創(chuàng)新歷史,業(yè)界一直遵循這一定律,并按前一代制程工藝縮小約 0.7倍來對新制程節(jié)點(diǎn)命名
2019-07-17 06:27:10
、物理學(xué)等相關(guān)專業(yè)是否應(yīng)屆要求不限性別要求男女不限年齡要求-薪金面議詳細(xì)描述受新加坡公司委托***半導(dǎo)體工程師數(shù)名。主要包括:半導(dǎo)體制成整合,光刻,蝕刻,薄膜,擴(kuò)散等工藝和設(shè)備工程師要求:本科及以上
2009-10-12 11:10:18
、物理學(xué)等相關(guān)專業(yè)是否應(yīng)屆要求不限性別要求男女不限年齡要求-薪金面議詳細(xì)描述受新加坡公司委托***半導(dǎo)體工程師數(shù)名。主要包括:半導(dǎo)體制成整合,光刻,蝕刻,薄膜,擴(kuò)散等工藝和設(shè)備工程師要求:本科及以上
2009-10-12 11:15:49
半導(dǎo)體制程之薄膜沉積
在半導(dǎo)體組件工業(yè)中,為了對所使用的材料賦與某種特性,在材料表面上常以各種方法形成被膜而加以使用,假如
2009-03-06 17:14:58
6630 
圖解半導(dǎo)體制程概論1
█ 半導(dǎo)體的物理特性及電氣特性
【
2010-03-01 17:00:49
7951 圖解半導(dǎo)體制程概論(2)
邏輯IC
電子機(jī)器的動(dòng)作所必需的內(nèi)部信號處理大致可以分為模擬信號處理和數(shù)字信號處理
2010-03-01 17:03:52
3466 微機(jī)電制作技術(shù),尤其是最大宗以硅半導(dǎo)體為基礎(chǔ)的微細(xì)加工技術(shù)(silicon- based micromachining),原本就肇源于半導(dǎo)體組件的制程技術(shù),所以必須先介紹清楚這類制程。
2011-08-28 11:56:38
286 臺(tái)積電(TSMC)表示在接下來十年以FinFET技術(shù)持續(xù)進(jìn)行半導(dǎo)體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達(dá) 7nm節(jié)點(diǎn);但在 7nm節(jié)點(diǎn)以下,半導(dǎo)體制程微縮的最大挑戰(zhàn)來自于經(jīng)濟(jì),并非技術(shù)。
2011-11-01 09:34:33
1679 先進(jìn)工藝制程成本的變化是一個(gè)有些爭議的問題。成本問題是一個(gè)復(fù)雜的問題,有許多因素會(huì)影響半導(dǎo)體制程成本。本文將討論關(guān)于半導(dǎo)體制程的種種因素以及預(yù)期。 晶圓成本 影響半導(dǎo)體工藝制程成本的第一個(gè)因素是晶圓成本。 毫無疑問,晶圓成本在不斷上升。
2016-12-20 02:14:11
2784 
半導(dǎo)體制作工藝CH
2017-10-18 10:19:47
48 半導(dǎo)體制作工藝CH13
2017-10-18 10:22:09
23 半導(dǎo)體制作工藝CH12
2017-10-18 10:24:14
19 半導(dǎo)體制作工藝CH11
2017-10-18 10:26:07
20 半導(dǎo)體制作工藝CH10
2017-10-18 10:28:15
24 半導(dǎo)體制作工藝CH09
2017-10-18 10:30:53
23 半導(dǎo)體制作工藝CH08
2017-10-18 10:32:44
26 半導(dǎo)體制作工藝CH06
2017-10-18 10:34:22
20 半導(dǎo)體制作工藝CH07
2017-10-18 10:36:10
22 半導(dǎo)體制作工藝CH05
2017-10-18 10:37:59
26 半導(dǎo)體制作工藝CH04
2017-10-18 10:39:43
22 半導(dǎo)體制作工藝CH03
2017-10-18 10:41:23
30 半導(dǎo)體制作工藝CH02
2017-10-18 10:43:21
35 半導(dǎo)體制作工藝CH01
2017-10-18 10:45:23
57 本文開始介紹了陶瓷基板的用途與優(yōu)點(diǎn),其次介紹了半導(dǎo)體制冷器概述與主要特點(diǎn),最后介紹了半導(dǎo)體制冷機(jī)工作原理。
2018-04-19 11:38:58
16436 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載主要內(nèi)容包括了:1.1 引言 1.2基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導(dǎo)體制造企業(yè) 1.6基本的半導(dǎo)體材料 1.7 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品 1.8芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境
2018-11-19 08:00:00
221 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造教程之工藝晶體的生長資料概述
一、襯底材料的類型1.元素半導(dǎo)體 Si、Ge…。2. 化合物半導(dǎo)體 GaAs、SiC 、GaN…
2018-11-19 08:00:00
151 半導(dǎo)體制造的工藝節(jié)點(diǎn),涉及到多方面的問題,如制造工藝和設(shè)備,晶體管的架構(gòu)、材料等。隨著制程的進(jìn)一步縮小,芯片制造的難度確實(shí)已經(jīng)快接近理論極限了。
2020-03-08 15:53:00
27965 MEMS工藝——半導(dǎo)體制造技術(shù)說明。
2021-04-08 09:30:41
252 半導(dǎo)體一般是指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體的應(yīng)用非常廣泛,在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明應(yīng)用等都有應(yīng)用。那么半導(dǎo)體工藝制程中常用的工序有哪些呢?下面一起
2021-10-03 18:14:00
5863 標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造工藝可以大致分為兩種工藝。一種是在襯底(晶圓)表面形成電路的工藝,稱為“前端工藝”。另一種是將形成電路的基板切割成小管芯并將它們放入封裝的過程,稱為“后端工藝”或封裝工藝。在半導(dǎo)體制
2022-03-14 16:11:13
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通過使半導(dǎo)體制造工藝中澆口蝕刻后生成的聚合物去除順暢,可以簡化后處理序列,從而縮短前工藝處理時(shí)間,上述感光膜去除方法是:在工藝室內(nèi)晶片被抬起的情況下,用CF4+O2等離子體去除聚合物的步驟;將晶片安放在板上,然后用O2等離子體去除感光膜的步驟;和RCA清洗步驟。
2022-04-11 17:02:43
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半導(dǎo)體制冷片是電子器件中重要的輔助元件,用于控制器件的溫度,從而保證器件的穩(wěn)定性和可靠性。在半導(dǎo)體制冷片的制造過程中,半導(dǎo)體制冷片的基板材料選擇是非常關(guān)鍵的,因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">基板材料的性能會(huì)直接影響到制冷片的性能。
2023-06-08 11:34:19
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在前幾篇文章(點(diǎn)擊查看),我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導(dǎo)體制程 。在上一篇我們說到,為制作巧克力夾心,需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分,然后倒入巧克力糖漿,再蓋上一層餅干層?!暗谷肭煽肆μ菨{”和“蓋上餅干層”的過程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。
2023-06-29 16:56:17
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半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:54
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隨著科技的不斷進(jìn)步,半導(dǎo)體制冷片在各種領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。而陶瓷基板DPC工藝作為一種先進(jìn)的制作技術(shù),在半導(dǎo)體制冷片制作中具有顯著的優(yōu)勢。本文將從多個(gè)方面介紹陶瓷基板DPC工藝在半導(dǎo)體制冷片中
2023-09-06 14:45:22
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[半導(dǎo)體前端工藝:第二篇] 半導(dǎo)體制程工藝概覽與氧化
2023-11-29 15:14:34
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芯片濕法蝕刻工藝是一種在半導(dǎo)體制造中使用的關(guān)鍵技術(shù),主要用于通過化學(xué)溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 濕法蝕刻是一種將硅片浸入特定的化學(xué)溶液中以去除不需要材料的工藝,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件如芯片
2024-12-27 11:12:40
1538 半導(dǎo)體行業(yè)用Chiller(冷熱循環(huán)系統(tǒng))通過溫控保障半導(dǎo)體制造工藝的穩(wěn)定性,其應(yīng)用覆蓋晶圓制造流程中的環(huán)節(jié),以下是對Chiller在半導(dǎo)體工藝中的應(yīng)用、選購及操作注意事項(xiàng)的詳細(xì)闡述。一
2025-04-21 16:23:48
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在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,工藝制程對溫度控制的精度和響應(yīng)速度要求嚴(yán)苛。半導(dǎo)體制冷機(jī)chiller實(shí)現(xiàn)快速升降溫及±0.5℃精度控制。一、半導(dǎo)體制冷機(jī)chiller技術(shù)原理與核心優(yōu)勢半導(dǎo)體制冷機(jī)chiller
2025-05-22 15:31:01
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微型導(dǎo)軌在半導(dǎo)體制造中用于晶圓對準(zhǔn)和定位系統(tǒng),確保晶圓在光刻、蝕刻等工藝中精確移動(dòng)。
2025-08-08 17:50:08
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在半導(dǎo)體制造向“納米級工藝、微米級控制”加速演進(jìn)的背景下,滾珠導(dǎo)軌憑借其高剛性、低摩擦、高潔凈度等特性,成為晶圓傳輸、光刻對準(zhǔn)、蝕刻沉積等核心工藝設(shè)備中不可或缺的精密運(yùn)動(dòng)載體。
2025-08-26 17:54:03
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