資料介紹
電力電子世界在1959年取得突破,當時Dawon Kahng和Martin Atalla在貝爾實驗室發(fā)明了金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)。首款商業(yè)MOSFET在五年后發(fā)布生產(chǎn),從那時起,幾代MOSFET晶體管使電源設計人員實現(xiàn)了雙極性早期產(chǎn)品不可能實現(xiàn)的性能和密度級別。
然而,近年來,這些已取得的進步開始逐漸弱化,為下一個突破性技術(shù)創(chuàng)造了空間和需求。這就是氮化鎵(GaN)引人注目的地方。
作為一種寬帶隙晶體管技術(shù),GaN正在創(chuàng)造一個令人興奮的機會,以實現(xiàn)電力電子系統(tǒng)達到新的性能和效率。GaN的固有優(yōu)勢為工程師開啟了重新考慮功率密度的方法,這些方法在以前并不可能實現(xiàn),如今能滿足世界日益增長的電力需求。在這篇文章中,我將探討如何實現(xiàn)。
?
為何選擇GaN?
當涉及功率密度時,GaN為硅MOSFET提供了幾個主要優(yōu)點和優(yōu)勢,包括:
?較低的RDS(on):如表1所示…
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