一種通過軟光刻技術(shù)制造剛性微流控器件的詳細(xì)方案

軟光刻技術(shù)可通過在可變形彈性體（例如聚二甲基硅氧烷（PDMS））上使用光刻圖形化模具，實(shí)現(xiàn)具有精確特征的微流控器件快速成型（rapid prototyp...

2023-02-14 標(biāo)簽：壓力傳感器光刻技術(shù)PDMS薄膜 4.6k 0

光刻技術(shù)常見方法

光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后，晶圓表面會留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。被除去的部分可能形狀...

2011-09-05 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 4.5k 0

納米壓印光刻，能讓國產(chǎn)繞過ASML嗎？

日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，...

2023-03-22 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)ASML 4.3k 0

利用激光測振技術(shù)提升MEMS器件仿真精度

設(shè)計和開發(fā)MEMS器件涉及大量的數(shù)學(xué)仿真。在制造過程中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，不僅成本昂貴且非常耗時。為了精準(zhǔn)地預(yù)測系統(tǒng)響應(yīng)，需要驗(yàn)證仿真模型。但是，當(dāng)需要用模型...

2019-11-30 標(biāo)簽：MEMS器件光刻技術(shù)激光成像 4.2k 0

芯片升級神助攻 光刻技術(shù)你了解多少？

光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

2018-04-22 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 4.2k 0

EUV光刻的兩大挑戰(zhàn)者，誰扛大旗？

過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 1...

2023-02-02 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 4.1k 0

中國的先進(jìn)封裝技術(shù)取得突破

由于無法獲得尖端光學(xué)光刻技術(shù)，中國芯片的制造工程目前限制在14納米，為了獲得更小的芯片、更強(qiáng)的性能，突破尖端包裝技術(shù)更為重要。此前，toff micro...

2023-06-01 標(biāo)簽：芯片封裝光刻技術(shù) 4k 0

臺積電總市值達(dá)到2482億美元超越英特爾，成為半導(dǎo)體行業(yè)第一

據(jù)臺積電稱，采用EUV光刻技術(shù)的N7+（7nm+）工藝已經(jīng)大批量的供應(yīng)客戶，但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商，目前唯一可完全確認(rèn)的就是華為麒麟990 5G，...

2019-10-12 標(biāo)簽：半導(dǎo)體臺積電光刻技術(shù) 3.8k 0

DNA納米光刻構(gòu)建高度有序的微流控納米界面

與傳統(tǒng)組織活檢相比，檢測原發(fā)或轉(zhuǎn)移灶中脫離進(jìn)入外周血循環(huán)的腫瘤細(xì)胞（CTC）具有腫瘤分子信息全、侵入性小、取樣方便等優(yōu)勢。CTC分析技術(shù)的挑戰(zhàn)在于如何從...

2020-06-01 標(biāo)簽：微流控光刻技術(shù) 3.8k 0

新型光刻技術(shù)解決硅材料脆性難題，MEMS機(jī)械性能極限有望突破

聯(lián)合小組經(jīng)過長達(dá)十年的研究，重點(diǎn)是采用光刻工藝替代聚焦離子束（FIB）工藝來完成在硅晶圓上的結(jié)構(gòu)制作。FIB雖然可以實(shí)現(xiàn)硅晶圓結(jié)構(gòu)，但會對硅表面造成損傷...

2020-06-24 標(biāo)簽：mems光刻技術(shù)半導(dǎo)體芯片 3.7k 0

ASML下一代EUV光刻機(jī)High-NA來了！

對于3nm后的節(jié)點(diǎn)，ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列，具有0.55 NA(High-NA)透鏡...

2022-08-17 標(biāo)簽：分辨率光刻技術(shù)ASML 3.6k 0

一種新型激元光刻技術(shù)，已成為工業(yè)制造的關(guān)鍵技術(shù)

據(jù)國內(nèi)媒體報道，來自中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所等單位的研究人員，開發(fā)了一種新型飛秒激光等離子激元光刻技術(shù)(FPL)。

2020-05-14 標(biāo)簽：工業(yè)自動化光刻技術(shù) 3.6k 0

光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘，EUV光刻機(jī)并非是是中國半導(dǎo)體行業(yè)的唯一癥結(jié)

在一顆芯片誕生的過程中，光刻是最關(guān)鍵又最復(fù)雜的一步。 說最關(guān)鍵，是因?yàn)楣饪痰膶?shí)質(zhì)將掩膜版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移至硅片，化虛為實(shí)。說最復(fù)雜，是因?yàn)楣饪坦に囆枰?..

2020-11-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)EUV光刻機(jī) 3.4k 0

光刻的基礎(chǔ)內(nèi)容

負(fù)性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯，一種天然的橡膠；溶劑是二甲苯；感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟a(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...

2022-06-22 標(biāo)簽：光刻技術(shù)光刻膠 3.2k 0

美國將光刻技術(shù)納入出口限制清單

商務(wù)部長威爾伯·羅斯（Wilbur Ross）宣稱：“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護(hù)美國國家安全，確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重...

2020-11-12 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 3.2k 0

7納米工藝面臨的各種挑戰(zhàn)與解決方案

本文介紹了7納米工藝面臨的各種挑戰(zhàn)與解決方案。 一、什么是7納米工藝？ 在談?wù)?納米工藝之前，我們先了解一下“納米”是什么意思。納米（nm）是一個長度單...

2024-12-17 標(biāo)簽：工藝光刻技術(shù)7納米 3.2k 0

AMD憑借其5000系列處理器再次成功進(jìn)入了用戶的應(yīng)收名單

該公司最近推出了Ryzen 9 5950X，5900X，5800X和5600X型號。盡管在Ryzen 5000系列中使用了7 nm光刻技術(shù)，但與前幾代產(chǎn)...

2020-10-23 標(biāo)簽：處理器amd光刻技術(shù) 3.1k 0

最新CMOS技術(shù)發(fā)展趨勢

隨著科技的飛速發(fā)展，CMOS技術(shù)也在不斷進(jìn)步，以滿足日益增長的性能需求。從最初的簡單邏輯門到現(xiàn)在的復(fù)雜集成電路，CMOS技術(shù)已經(jīng)成為推動數(shù)字革命的關(guān)鍵力...

2024-11-14 標(biāo)簽：集成電路制程技術(shù)光刻技術(shù) 3.1k 0