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      標簽　>　光刻機

      光刻機

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      文章：1121個 瀏覽：48966次 帖子：5個

      光刻機資訊

      ASML透露稱：可繼續(xù)供貨中國非EUV光刻機，美國新規(guī)影響有限

      近日，光刻巨頭阿斯麥（ASML）發(fā)布2022年第三季度財報。 ? 財報顯示，2022年第三季度，ASML實現(xiàn)了凈銷售額58億歐元，毛利率為51.8%，凈...

      2022-10-25 標簽：光刻機ASML 999 0

      俄羅斯政府預計2030年開發(fā)28nm級制造技術

      能夠使用 7nm 級工藝技術處理晶圓的現(xiàn)代光刻機是一種高度復雜的設備，它涉及高性能光源、精密光學和精確計量，等很多關鍵部件。

      2022-10-25 標簽：光刻機7nm 3.4k 0

      俄羅斯研究所7nm級制造技術生產預計2028年建成

      在時間方面，IAP 可能有點過于樂觀。對于 32nm 以下的一切，芯片制造商使用所謂的浸沒式光刻技術（本質上是 DUV 工具的助推器）生產。

      2022-10-24 標簽：光刻機EUV 1.1k 0

      中國光刻機實現(xiàn)90nm制程芯片生產

      對國內半導體行業(yè)有一定了解的人都知道，如今國內頂尖的半導體企業(yè)，基本上都來自上海。而該地區(qū)之所以能夠形成如此大規(guī)模的集成電路市場，主要是一些企業(yè)在推動。

      2022-10-24 標簽：集成電路光刻機蝕刻機 5.5萬 0

      新增訂單金額創(chuàng)歷史新高！ASML發(fā)布2022年第三季度財報

      2022年第三季度，ASML實現(xiàn)了凈銷售額58億歐元，毛利率為51.8%，凈利潤達17億歐元。今年第三季度新增訂單金額創(chuàng)歷史新高，達到89億歐元。

      2022-10-20 標簽：晶圓光刻機ASML 1.6k 0

      光子芯片計算速度對比電子芯片快約1000倍

      相較于電子芯片，光子芯片對結構的要求較低，一般是百納米級，因此降低了對先進工藝的依賴。中科鑫通總裁隋軍也表示，光子芯片使用我國已相對成熟的原材料及設備就...

      2022-10-19 標簽：光刻機EUV光子芯片 1.4萬 0

      “芯片之母”被美封鎖，我國芯片如何突圍

      這幾年，有一個非常先進的設備映入了大家眼簾：光刻機。 雖然大家沒有在生活中見過光刻機，可這并不影響大家知道光刻機的作用。光刻機嘛，就是拿來造芯片的設備，...

      2022-10-13 標簽：芯片eda光刻機 3.2k 0

      中芯國際大擴產計劃有望帶動國產半導體設備、材料產業(yè)發(fā)展

      在芯片流程中芯國際負責的是其中的制造環(huán)節(jié)，即將芯片設計公司的圖紙真正在產線中使用各類芯片制造設備制造出來。 9月24日，中芯國際天津西青12英寸芯片項目...

      2022-09-30 標簽：集成電路中芯國際晶圓 4k 0

      壓電納米運動產品在光刻機中的應用

      隨著信息技術的飛速發(fā)展，各行業(yè)對芯片的要求越來越高，要求高速、納米級超小尺寸、低功耗、低時延等，而這些要求都對微電子制造裝備的性能和精度提出了更高層次的...

      2022-09-29 標簽：光刻機直線壓電馬達壓電促動器 2.2k 0

      華為布局光量子芯片計劃，不用光刻機也能量產

      因為光量子芯片采用的材料與傳統(tǒng)的硅基芯片不同，而且光量子芯片的傳輸速度比硅基芯片更快，在實現(xiàn)相同性能的情況下，不需要頂級半導體設備也能達到媲美硅基芯片的效果。

      2022-09-20 標簽：芯片華為光刻機 3.2萬 0

      臺積電將2024年獲高NA EUV光刻機 助于2nm工藝量產

      　　最近，據(jù)報道，臺積電將于2024年收購下一代Asmail的最新極紫外光刻設備，為客戶開發(fā)相關基礎設施和架構解決方案。

      2022-09-20 標簽：臺積電光刻機 1.9k 0

      光刻機曝光光學系統(tǒng)、半導體生產涂膠機高精度測溫儀簡介

      智測電子1611A系列多通道測溫采集儀，滿足《JJF1527-2015聚合酶鏈反應分析儀校準規(guī)范》。按連接傳感器的不同，可分為鉑電阻、熱敏電阻和熱電偶三...

      2022-09-19 標簽：半導體測溫儀光刻機 2.8k 0

      傳臺積電計劃關閉EUV光刻機來減少產能

      一臺EUV光刻機工作一天大概需要耗電3萬度。如果關閉1臺EUV光刻機，一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價格約為2.45新臺幣（約合人民幣0.55元...

      2022-09-08 標簽：臺積電光刻機EUV 1.8k 0

      佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案Lithography Plus

      來源：佳能集團 通過技術與數(shù)據(jù)優(yōu)勢，提升光刻機的生產效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務（以下簡...

      2022-09-06 標簽：半導體光刻機 2.4k 0

      芯片市場萎靡，臺積電計劃年底關停部分EUV

      電子發(fā)燒友網報道（文/黃山明）近日，產業(yè)鏈傳來消息稱，受先進制程產能利用率下滑影響，臺積電正在考慮從今年年底開始，關閉部分EUV光刻機，以節(jié)省能耗。 就...

      2022-09-04 標簽：臺積電光刻機3nm 6.8k 0

      光刻機到底是臺什么樣的機器？中國在這方面又該如何突破？

      為何只有荷蘭能造頂級光刻機？就連米國都不行，中國芯片如何突破 1光刻機到底是臺什么樣的機器？ 如果你在路上看見寫著AMSL的集箱貨車，就算你開勞斯萊斯，...

      2022-08-21 標簽：光刻機 6.3k 0

      高NA EUVL：光刻的下一個主要步驟

      高NA EUVL：光刻的下一個主要步驟

      2019 年是極紫外 (EUV) 光刻技術的重要里程碑。當年，EUV圖案化技術首次用于7nm技術一代邏輯芯片的量產。插入以圖案化芯片后端 (BEOL) ...

      2022-07-26 標簽：光刻機 3k 0

      芯片是怎么被“光刻”出來的

      首先光刻膠成分復雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。

      2022-07-25 標簽：光刻機光刻膠 5.3k 0

      外媒：美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機

      溫彼得此番言論是出于營收考慮？還是真的擔心全球半導體產業(yè)供應鏈中斷？我們根據(jù)幾項數(shù)據(jù)事實來深入分析一下。

      2022-07-25 標簽：半導體光刻機ASML 3.2k 0

      ASML警告美國：對中國斷供DUV光刻機半導體供應鏈將中斷，真是如此嗎？

      電子發(fā)燒友網報道（文/吳子鵬）近日，針對全球半導體產業(yè)廣泛關注的美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機一事，ASML首席執(zhí)行官（CEO）溫彼得正式回應稱，...

      2022-07-25 標簽：光刻機ASMLDUV 5k 0

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