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      標(biāo)簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關(guān)注10人關(guān)注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：340個 瀏覽：31827次 帖子：4個

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      提到半導(dǎo)體芯片，大家往往能想到的公司是設(shè)計類的高通、海思、英偉達、AMD、聯(lián)發(fā)科、蘋果，代工類的臺積電、中芯國際，以及全能型的英特爾、三星。 但是，以上...

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      半導(dǎo)體技術(shù)新進展，南大光電高端ArF光刻膠獲得突破

      在半導(dǎo)體制造方面，國內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機等核心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機，已經(jīng)獲得了國內(nèi)某企業(yè)的認證，可用于5...

      2021-06-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻膠 3.2k 0

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      2021-06-25 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻膠 1.3k 0

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        +關(guān)注
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        光立方
        +關(guān)注
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