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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

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臺積電要想保持優(yōu)勢，就必須要加快7nm EUV的進程！

2019-02-14 標簽：臺積電光刻機 EUV 3.9k 0

三星稱在GAA技術(shù)領(lǐng)先臺積電一年更超前英特爾兩到三年

盡管日韓貿(mào)易沖突持續(xù)延燒，三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇將如期舉行。三星屆時預(yù)料將展示自家先進制程技術(shù)，并提供用于生產(chǎn)3納米以下芯片，名為「環(huán)...

2019-08-02 標簽：三星電子晶圓 EUV 3.8k 0

EUV光刻工藝可用到2030年的1.5nm節(jié)點

推動科技進步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...

2017-01-22 標簽：摩爾定律 EUV EUV光刻機 3.8k 0

EUV工藝已拉響戰(zhàn)局美光計劃在2021年持續(xù)加碼投資DRAM

美光計劃在 2021 年提出建設(shè) A5 廠項目的申請，持續(xù)加碼投資 DRAM，將用于 1Znm 制程之后的微縮技術(shù)發(fā)展。據(jù)悉，目前美光在臺灣地區(qū)布局，...

2021-02-27 標簽：DRAM 三星電子美光 3.8k 0

ASML延遲交付EUV設(shè)備給中國，或因為美國的多次施壓

據(jù)路透社報道，知情人士指出，美國政府正竭力阻止荷蘭向中國出售芯片制造技術(shù)（EUV設(shè)備），美國國務(wù)卿邁克·龐培曾多次游說荷蘭政府，而白宮官員則向荷蘭國防部...

2020-01-06 標簽：euv asml 3.8k 0

臺積電宣布7納米強效版制程已大量進入市場 2020年第一季將試產(chǎn)6納米制程技術(shù)

臺積電宣布，其領(lǐng)先業(yè)界導(dǎo)入極紫外光（EUV）微影技術(shù)的7納米強效版（N7+）制程已協(xié)助客戶產(chǎn)品大量進入市場。導(dǎo)入EUV微影技術(shù)的N7+奠基于臺積電成功的...

2019-10-08 標簽：臺積電 EUV 3.8k 0

EUV極紫外光時代步伐漸近或?qū)⒂瓉?50瓦EUV光源

盡管所花的時間與成本幾乎比所有人預(yù)期得要多，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技術(shù)的大量生產(chǎn)──在...

2018-06-10 標簽：英特爾三星電子臺積電 3.8k 0

未來極紫外光刻技術(shù)將如何發(fā)展?產(chǎn)業(yè)格局如何演變?

近日，荷蘭的光刻機制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布2020年度財報，全年凈銷售額達到140億歐元，毛利率達到48.6%。ASML同時宣布實現(xiàn)第100套極紫外...

2021-02-01 標簽：芯片半導(dǎo)體晶圓 3.8k 0

新成果有望解決自主研發(fā)光刻機的“卡脖子”難題

在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機是必不可少的精密設(shè)備，是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟?！拔覈鳨UV光刻機的自主研發(fā)還有很長的路要走，基于SSMB...

2021-03-10 標簽：光刻機 EUV 太赫茲 3.7k 0

三星開始批量生產(chǎn)6納米芯片,縮小與臺積電差距

三星于去年4月向全球客戶提供7納米產(chǎn)品，自開始大規(guī)模生產(chǎn)7納米產(chǎn)品以來，三星僅在八個月內(nèi)就推出了6納米產(chǎn)品。三星的微加工工藝技術(shù)升級周期正在縮短，特別是...

2020-01-06 標簽：三星電子臺積電 euv 3.7k 0

ASML新財報:銷售額與毛利率雙雙超越預(yù)期

荷蘭時間2019年7月17日，ASML Holding N.V.（ASML）公布了2019年第二季度財報

2019-07-22 標簽：EUV ASML 3.7k 0

密度提升近3倍，高NA EUV光刻機有何玄機

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶...

2022-12-07 標簽：光刻機 EUV 3.7k 0

ASML***的最新進展

在 SEMICON West上，本文作者采訪了 ASML 的 Mike Lercel。在本文中，該作者結(jié)合了SPIE 高級光刻會議上的 ASML 演示...

2023-07-30 標簽：光學傳感器光刻機 EUV 3.7k 0

三星痛下決心,自研極紫外光(EUV)光阻劑

尋找光阻劑替代供應(yīng)商難度很高，就算找到新供應(yīng)來源，所有制程和設(shè)計須重新測試，至少得花1年時間才能運作。

2019-07-26 標簽：三星電子 EUV 3.7k 0

臺積電和三星再次登上摩爾定律階梯

5納米節(jié)點是首個從開始就使用極紫外光刻（EUV）技術(shù)做出來的。在波長只有13.5納米的情況下，EUV燈可以在硅上產(chǎn)生非常精細的圖案。其中一些圖案可以用上...

2019-06-02 標簽：芯片臺積電 EUV 3.7k 0

臺積電首款7納米芯片已經(jīng)完成設(shè)計定案預(yù)計明年4月開始5納米制程風險試產(chǎn)

晶圓代工龍頭臺積電持續(xù)沖刺先進制程，采用極紫外光（EUV）微影技術(shù)的首款7＋納米芯片已經(jīng)完成設(shè)計定案（tape-out），支援最多4層EUV光罩。臺積電...

2018-10-08 標簽：芯片臺積電 EUV 3.7k 0

紫光展銳上線全新中端5G芯片平臺——T765

紫光展銳T765采用6nm EUV工藝，擁有2顆2.3GHz的A76大核、6顆2.1GHz的A55小核，集成Arm Mali G57 MC2（850MH...

2024-01-03 標簽：cpu EUV 5G芯片 3.6k 0

非蔡司不可？EUV***背后的光學系統(tǒng)

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）光刻系統(tǒng)利用光線在晶圓上創(chuàng)建數(shù)十億個微小的結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)組成在一起就成了集成電路。但芯片制造商為了讓更多結(jié)構(gòu)集成在單個芯片...

2023-07-14 標簽：EUV 3.6k 0

張忠謀的告別作!臺積電18廠打遍天下無敵手?

臺積電最新的18廠，將在明年第一季量產(chǎn)5納米制程，領(lǐng)先英特爾、三星一年以上。

2019-07-12 標簽：臺積電 EUV 3.6k 0

三星6nm6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn) 4nm4LPE也會在年內(nèi)設(shè)計完畢

除了臺積電，三星如今在工藝方面也是十分激進：7nm 7LPP去年十月投產(chǎn)之后，按照官方最新給出的時間表，6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn)，5n...

2019-08-02 標簽：三星電子 EUV 3.6k 0

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3D打?。?DP）即快速成型技術(shù)的一種，它是一種以數(shù)字模型文件為基礎(chǔ)，運用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料，通過逐層打印的方式來構(gòu)造物體的技術(shù)。
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　　手機拆解過程，展示手機內(nèi)部零件及結(jié)構(gòu)。一輛報廢汽車的廢電瓶、廢油液進行無害化處理，再拆解出可以利用的零部件后，整個車架被送進一個巨大的破碎“神器”內(nèi)，瞬間進行拆解破碎。
貿(mào)澤電子

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貿(mào)澤電子是一家全球知名的半導(dǎo)體和電子元器件授權(quán)分銷商，分銷1100多家品牌制造商的產(chǎn)品。貿(mào)澤電子專注于快速引入新產(chǎn)品和新技術(shù)，為設(shè)計工程師和采購人員提供引領(lǐng)潮流的選擇。
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半導(dǎo)體芯片：在半導(dǎo)體片材上進行浸蝕，布線，制成的能實現(xiàn)某種功能的半導(dǎo)體器件。不只是硅芯片，常見的還包括砷化鎵（砷化鎵有毒，所以一些劣質(zhì)電路板不要好奇分解它），鍺等半導(dǎo)體材料。半導(dǎo)體也像汽車有潮流。二十世紀七十年代，因特爾等美國企業(yè)在動態(tài)隨機存取內(nèi)存（D-RAM）市場占上風。
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驍龍835（一般指高通驍龍?zhí)幚砥鳎┦且豢钣?017年初由高通廠商研發(fā)的支持Quick Charge 4.0快速充電技術(shù)的手機處理器。
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