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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題，國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

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美光公布DRAM和NANDFlash的最新技術(shù)線路圖將持續(xù)推進(jìn)1ZnmDRAM技術(shù)及研發(fā)128層3DNAND

作為全球知名的存儲(chǔ)器廠商，近日，美光召開了2019年投資者大會(huì)，在大會(huì)中上，美光展示了DRAM和NAND Flash下一代技術(shù)的發(fā)展以及規(guī)劃。

2019-05-24 標(biāo)簽：DRAM NAND 美光 4.8k 0

鴻蒙OS的合作伙伴中，京東排在第一位

華為并非三星和微軟，令人欣慰的是，在華為宣布鴻蒙系統(tǒng)上線后，生態(tài)圈里已吸引了京東、銀聯(lián)、百度地圖等120多家企業(yè)的加盟。

2021-01-11 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 5nm 4.7k 0

三大半導(dǎo)體廠微影技術(shù)進(jìn)度一覽

臺(tái)積電總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)魏哲家在日前法人說明會(huì)中指出，7+nm良率推進(jìn)情況良好，預(yù)期第二季后進(jìn)入量產(chǎn)階段，臺(tái)積電已經(jīng)與數(shù)家客戶合作，協(xié)助其第二代或第三代產(chǎn)品設(shè)...

2019-02-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體臺(tái)積電 EUV 4.7k 0

臺(tái)積電的5納米和3納米都將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

臺(tái)積電供應(yīng)鏈管理論壇高度強(qiáng)調(diào)未來前景正面樂觀，外資買盤昨天重新點(diǎn)火，推升股價(jià)大漲6元，以312元作收，市值重回8.09兆元，外資轉(zhuǎn)為買超1萬4，561張。

2019-12-06 標(biāo)簽：臺(tái)積電晶圓 euv 4.6k 0

英特爾確定的7納米制程會(huì)支援新一代EUV技術(shù)

隨著晶圓代工廠臺(tái)積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光（EUV）微影技術(shù)，并會(huì)在2019年進(jìn)入量產(chǎn)階段，半導(dǎo)體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的...

2019-01-03 標(biāo)簽：英特爾 EUV 4.6k 0

消息稱三星5nm等部分工藝良率低于50%，三星沒否認(rèn)

在全球晶圓代工市場(chǎng)上，臺(tái)積電的市場(chǎng)份額超過了50%，位居第一，其產(chǎn)能和技術(shù)都是領(lǐng)先的。排名第二的三星拿下了超過20%的市場(chǎng)份額，先進(jìn)工藝直追臺(tái)積電，高通...

2021-07-05 標(biāo)簽：芯片代工 EUV 5nm 4.5k 0

AMSL宣布：無須美國(guó)許可同意可向中國(guó)供貨DUV光刻機(jī)，但EUV受限

光刻機(jī)，在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。在全球光刻機(jī)市場(chǎng)，日本的尼康、佳能，和荷蘭的ASML，就占據(jù)了市場(chǎng)90%以上份額。而最...

2020-10-17 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV AMSL 4.5k 0

關(guān)于ASML EUV工藝的最新信息進(jìn)展

在上周的Semicon West上，ASML提供了有關(guān)當(dāng)前EUV系統(tǒng)以及正在開發(fā)的0.55高NA系統(tǒng)的最新信息。

2019-07-27 標(biāo)簽：EUV ASML 4.5k 0

SK 海力士 M16 新廠已竣工：首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機(jī)在生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片

存儲(chǔ)芯片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣布，其公司位于韓國(guó)首爾南部利川市的 M16 新廠已經(jīng)竣工，SK 海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機(jī)在...

2021-02-02 標(biāo)簽：存儲(chǔ)芯片光刻機(jī)EUV 4.4k 0

Cadence 數(shù)字全流程解決方案通過三星5LPE工藝認(rèn)證

采用極紫外（EUV）光刻技術(shù)的Cadence 數(shù)字全流程解決方案已通過Samsung Foundry 5nm早期低功耗版（5LPE）工藝認(rèn)證。

2019-07-11 標(biāo)簽：三星電子 EUV 4.4k 0

EUV光刻工藝終于商業(yè)化新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多...

2018-10-30 標(biāo)簽：光刻 EUV 4.4k 0

DRAM開始進(jìn)入EUV時(shí)代？

根據(jù)國(guó)外媒體報(bào)導(dǎo)，曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落，短期看不到止跌訊號(hào)的情況下，也頂不住生產(chǎn)成本的壓力，開始...

2019-06-21 標(biāo)簽：半導(dǎo)體 DRAM 三星電子 4.4k 0

疫情或使三星與臺(tái)積電的差距進(jìn)一步擴(kuò)大 5nm工藝將遙遙無期

4月14日消息，據(jù)《韓國(guó)商業(yè)報(bào)》報(bào)道，荷蘭ASML是全球唯一一家生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的制造商。由于受到疫情影響，荷蘭ASML公司很難將設(shè)備出口，這給三星、臺(tái)...

2020-04-14 標(biāo)簽：三星電子臺(tái)積電 EUV 4.3k 0

三星最先進(jìn)EUV產(chǎn)線投用：7nm產(chǎn)能今年增加兩倍

V1產(chǎn)線/工廠2018年2月動(dòng)工，2019年下半年開始測(cè)試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動(dòng)芯片的生產(chǎn)...

2020-02-21 標(biāo)簽：三星電子 EUV 4.3k 0

臺(tái)積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術(shù) 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

臺(tái)積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。

2019-05-28 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻 EUV 4.3k 0

臺(tái)積電投資250億美元建廠，明年4月試產(chǎn)5nm EUV工藝

在7nm及以下節(jié)點(diǎn)上，臺(tái)積電的進(jìn)展是最快的，今年量產(chǎn)7nm不說，最快明年4月份就要試產(chǎn)5nm EUV工藝了，不過這個(gè)節(jié)點(diǎn)的投資花費(fèi)也是驚人的，臺(tái)積電投資...

2018-10-08 標(biāo)簽：臺(tái)積電 EUV 5nm 4.3k 0

三星Exynos 1080處理器 5nm EUV FinFET工藝制造

蘋果A14仿生芯片拉動(dòng)手機(jī)芯片正式跨入了5nm時(shí)代。三星不甘人后，今天發(fā)布的三星Exynos 1080處理器，采用了5nm制程工藝，在性能和功耗控制等方...

2020-11-12 標(biāo)簽：三星電子 EUV 5nm 4.3k 0

光刻膠國(guó)產(chǎn)化的道路上有哪6道坎？

材料是半導(dǎo)體大廈的地基，不過，目前中國(guó)的這一地基對(duì)國(guó)外依存度還很高。 2019年，日韓發(fā)生沖突，日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和...

2021-05-11 標(biāo)簽：半導(dǎo)體 EUV 光刻膠 4.3k 0

光刻成為摩爾定律的前沿制造工藝成主要瓶頸

十多年來，半導(dǎo)體制造行業(yè)一方面一直在期待EUV能夠拯救摩爾定律，但另一方面又擔(dān)心該技術(shù)永遠(yuǎn)都不會(huì)出現(xiàn)。不過最終，它還是來了，而且不久便將投入使用。

2020-01-26 標(biāo)簽：摩爾定律光刻 EUV 4.3k 0

光刻機(jī)行業(yè)需求空間廣闊，國(guó)產(chǎn)設(shè)備有優(yōu)勢(shì)嗎？

光刻機(jī)技術(shù)壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術(shù)的發(fā)展。

2020-02-21 標(biāo)簽：光刻機(jī)euv 4.3k 0

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3D打印（3DP）即快速成型技術(shù)的一種，它是一種以數(shù)字模型文件為基礎(chǔ)，運(yùn)用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料，通過逐層打印的方式來構(gòu)造物體的技術(shù)。
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紫光展銳是我國(guó)集成電路設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)的龍頭企業(yè)，以生態(tài)為核心戰(zhàn)略，高舉5G和AI兩面技術(shù)旗幟，以價(jià)值、未來、服務(wù)為三個(gè)指向，為個(gè)人與社會(huì)的智能化服務(wù)。
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梁孟松他是加州大學(xué)柏克萊分校電機(jī)博士，畢業(yè)后曾在美國(guó)處理器大廠AMD工作幾年，在四十歲那年加入臺(tái)積電，后來到三星，現(xiàn)在為中芯國(guó)際執(zhí)行長(zhǎng)。
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