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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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三星開始批量生產(chǎn)6納米芯片,縮小與臺(tái)積電差距
三星于去年4月向全球客戶提供7納米產(chǎn)品,自開始大規(guī)模生產(chǎn)7納米產(chǎn)品以來(lái),三星僅在八個(gè)月內(nèi)就推出了6納米產(chǎn)品。三星的微加工工藝技術(shù)升級(jí)周期正在縮短,特別是...
三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕近日參觀正在開發(fā)“全球第一個(gè)3納米級(jí)半導(dǎo)體工藝”的韓國(guó)京畿道華城半導(dǎo)體工廠,并聽取了關(guān)于3納米工藝技術(shù)的報(bào)告,他還與三星電子半導(dǎo)體部...
今年臺(tái)半導(dǎo)體股表現(xiàn)亮眼,家登狂漲5.5倍奪冠
2019年31日臺(tái)股封關(guān),半導(dǎo)體業(yè)股價(jià)年度漲幅冠軍由設(shè)備商家登精密拿下,1年來(lái)股價(jià)大漲448.74%,而射頻IC廠立積、LED驅(qū)動(dòng)IC廠凱鈺、ASIC設(shè)...
十多年來(lái),半導(dǎo)體制造行業(yè)一方面一直在期待EUV能夠拯救摩爾定律,但另一方面又擔(dān)心該技術(shù)永遠(yuǎn)都不會(huì)出現(xiàn)。不過最終,它還是來(lái)了,而且不久便將投入使用。
ASML下一代EUV光刻機(jī)堪稱史上最貴半導(dǎo)體設(shè)備 一臺(tái)就是12億元人民幣
截至目前,華為麒麟990 5G是唯一應(yīng)用了EUV極紫外光刻的商用芯片,臺(tái)積電7nm EUV工藝制造,而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的...
AMSL:截止2019年,EUV設(shè)備加工了450萬(wàn)片晶圓
ASML在IEDM 2019大會(huì)上披露,截至2019年,總共已經(jīng)使用EUV設(shè)備處理了450萬(wàn)片晶圓。該公司最新的NXE:3400C系統(tǒng)每小時(shí)可生產(chǎn)170...
臺(tái)積電客戶訂單最多,將在2024年量產(chǎn)2nm工藝
隨著高通驍龍865使用臺(tái)積電N7+工藝量產(chǎn),臺(tái)積電的7nm工藝又多了一個(gè)大客戶,盡管三星也搶走了一部分7nm EUV訂單,不過整體來(lái)看臺(tái)積電在7nm節(jié)點(diǎn)...
ASML將蟬聯(lián)龍頭寶座至明年 國(guó)產(chǎn)設(shè)備企業(yè)將如何尋求突破
近日,業(yè)內(nèi)人士羅伯特·卡斯特拉諾預(yù)測(cè),全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭應(yīng)用材料公司2019年有可能失去其蟬聯(lián)多年的龍頭寶座,讓位給光刻機(jī)大廠荷蘭阿斯麥(ASML)公司...
英特爾未來(lái)十年制造工藝路線圖發(fā)布,1.4納米2029年推出
英特爾預(yù)計(jì)其制造工藝節(jié)點(diǎn)技術(shù)將保持2年一飛躍的節(jié)奏,從2019年的10納米工藝開始,到2021年轉(zhuǎn)向7納米EUV(極紫外光刻),然后在2023年采用5納...
中芯國(guó)際與ASML光刻機(jī)問題解決,開始進(jìn)入光刻階段
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入 10nm 節(jié)點(diǎn)之后,制造越來(lái)越困難,其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到 EUV 光刻機(jī)了,而后者目前只有荷蘭 ASML 阿斯麥公司才能供應(yīng)。
中芯國(guó)際澄清:董事長(zhǎng)周子學(xué)從未提及光刻機(jī)斷供問題
日前,有韓國(guó)媒體稱,中芯國(guó)際董事長(zhǎng)周子學(xué)在韓國(guó)訪問時(shí)表示,已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機(jī)供應(yīng)的問題。對(duì)此中芯國(guó)際表示,韓媒發(fā)布的涉EUV報(bào)道不實(shí),中芯...
盡管三星方面沒有透露具體的公司名字,但出售EUV光刻膠的應(yīng)該是日本JSR公司與比利時(shí)微電子中心IMEC合作成立的公司,2016年成立,主要由JSR比利時(shí)...
臺(tái)積電或在2022年開始3nm工藝的規(guī)模量產(chǎn) 比原定計(jì)劃提前一年
雖然半導(dǎo)體工藝提升越來(lái)越困難,但是被譽(yù)為天字一號(hào)代工廠的臺(tái)積電,這幾年卻仿佛打了雞血,進(jìn)展神速,讓Intel、三星都望塵莫及。
臺(tái)積電的5納米和3納米都將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
臺(tái)積電供應(yīng)鏈管理論壇高度強(qiáng)調(diào)未來(lái)前景正面樂觀,外資買盤昨天重新點(diǎn)火,推升股價(jià)大漲6元,以312元作收,市值重回8.09兆元,外資轉(zhuǎn)為買超1萬(wàn)4,561張。
三星EUV光刻膠需求找不到替代,進(jìn)軍代工行業(yè)老大有難度
據(jù)businessKorea報(bào)道,自去年7月日本開始限制對(duì)韓國(guó)的出口以來(lái),三星仍沒有找到為EUV技術(shù)提供足夠光刻膠的替代供應(yīng)商。到2030年成為全球代工...
11月25日,市場(chǎng)研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾(Robert Castellano)表示:“過去三年來(lái),應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序(WFE)的設(shè)備...
目前,三星7nm EUV技術(shù)已經(jīng)量產(chǎn),在2019下半年將完成的韓國(guó)華城7nm EUV工藝生產(chǎn)線,將在2020年1月份量產(chǎn),5nm制程也計(jì)劃在2020年上...
三星電子向臺(tái)積電發(fā)起正面挑戰(zhàn) 擬用10年時(shí)間挑戰(zhàn)臺(tái)積電世界首位的寶座
境外媒體報(bào)道稱,韓國(guó)三星電子在半導(dǎo)體代工領(lǐng)域向臺(tái)積電發(fā)起正面挑戰(zhàn)。三星將每年花費(fèi)巨額投資,確定采用新一代生產(chǎn)技術(shù)“EUV(極紫外光刻)”的量產(chǎn)體制,用1...
去年4月,中芯國(guó)際向荷蘭ASML公司訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī),用于研究7nm及以下的先進(jìn)工藝?;ㄙM(fèi)超過1.2億歐元(約10億人民幣),預(yù)計(jì)今年底交貨,20...
訂購(gòu)EUV光刻機(jī)受阻? 中芯國(guó)際和ASML回應(yīng)了
針對(duì)近幾日多家媒體報(bào)道的有關(guān)ASML公司對(duì)中芯國(guó)際訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)設(shè)備有意延遲的推測(cè)。二家公司今日均發(fā)表內(nèi)容回應(yīng)。 ASML回應(yīng)如下: 關(guān)于日經(jīng)新聞(...
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