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電子發(fā)燒友網(wǎng)>模擬技術(shù)>首批溝槽型MOSFET器件晶圓下線

首批溝槽型MOSFET器件晶圓下線

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2020-12-26 11:25:159947

和硅片到底有什么區(qū)別

是當(dāng)代重要的器件之一,對于,電子等相關(guān)專業(yè)的朋友通常較為熟悉。前文中,小編介紹了是如何變成CPU的。為增進(jìn)大家對的了解,本文中,小編將對、硅片以及和硅片的區(qū)別予以介紹。如果你對具有興趣,不妨繼續(xù)往下閱讀哦。
2021-01-03 11:56:0043210

中欣12英寸第一枚外延片正式下線,國內(nèi)首家獨(dú)立完成12英寸單晶企業(yè)

根據(jù)中欣官方的消息,中欣12英寸第一枚外延片正式下線,成為國內(nèi)首家獨(dú)立完成12英寸單晶、拋光到外延研發(fā)、生產(chǎn)的企業(yè)。 官方表示,12月28日杭州中欣迎來了具有歷史意義的一天:在12英寸
2020-12-31 09:44:145522

華天科技昆山廠級先進(jìn)封裝項(xiàng)目投產(chǎn)

作為華天集團(tuán)級先進(jìn)封裝基地,華天昆山2008年6月落戶昆山開發(fā)區(qū),研發(fā)的級傳感器封裝技術(shù)、扇出封裝技術(shù)、超薄超小型級封裝、級無源器件制造技術(shù)目前已達(dá)到世界領(lǐng)先水平。
2021-01-09 10:16:095508

華虹半導(dǎo)體成為全球功率器件制造領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者

全球領(lǐng)先的特色工藝純代工企業(yè)——華虹半導(dǎo)體有限公司(“華虹半導(dǎo)體”或“公司”,股份代號:1347.HK)宣布,基于Deep-Trench Super Junction(“DT-SJ”)(深溝槽
2021-12-21 14:46:104369

FuzionSC提升扇出級封裝的工藝產(chǎn)量

扇出級封裝最大的優(yōu)勢,就是令具有成千上萬I/O點(diǎn)的半導(dǎo)體器件,通過二到五微米間隔線實(shí)現(xiàn)無縫連接,使互連密度最大化,實(shí)現(xiàn)高帶寬數(shù)據(jù)傳輸,去除基板成本。
2022-03-23 14:02:252885

捷捷微電首批六英寸下線 英特爾至今沒有EUV芯片

捷捷微電首批具有高浪涌防護(hù)能力的六英寸于 2022 年 3 月 26 日產(chǎn)出下線,良率高達(dá) 97.79%。
2022-03-31 16:17:593394

什么是級封裝

在傳統(tǒng)封裝中,是將成品切割成單個(gè)芯片,然后再進(jìn)行黏合封裝。不同于傳統(tǒng)封裝工藝,級封裝是在芯片還在上的時(shí)候就對芯片進(jìn)行封裝,保護(hù)層可以黏接在的頂部或底部,然后連接電路,再將切成單個(gè)芯片。
2022-04-06 15:24:1912071

扇入級封裝是什么?

級封裝技術(shù)可定義為:直接在上進(jìn)行大部分或全部的封裝、測試程序,然后再進(jìn)行安裝焊球并切割,從而產(chǎn)出一顆顆的IC成品單元。
2022-07-10 11:23:512215

SiC MOSFET:是平面柵還是溝槽柵?

溝槽柵結(jié)構(gòu)是一種改進(jìn)的技術(shù),指在芯片表面形成的凹槽的側(cè)壁上形成MOSFET柵極的一種結(jié)構(gòu)。溝槽柵的特征電阻比平面柵要小,與平面柵相比,溝槽MOSFET消除了JFET區(qū)
2023-04-27 11:55:029391

代工器件結(jié)構(gòu)形成與功能實(shí)現(xiàn)

在半導(dǎo)體代工行業(yè)內(nèi),特色工藝是指以拓展摩爾定律為指導(dǎo),不完全依賴縮小晶體管特征尺寸(以下簡稱“線寬”),通過聚焦新材料、新結(jié)構(gòu)、新器件的研發(fā)創(chuàng)新與運(yùn)用,并強(qiáng)調(diào)特色I(xiàn)P定制能力和技術(shù)品類多元性的半導(dǎo)體制造工藝。
2023-05-17 15:49:561077

SiC MOSFET真的有必要使用溝槽柵嗎?

眾所周知,“挖坑”是英飛凌的祖?zhèn)魇炙?。在硅基產(chǎn)品時(shí)代,英飛凌的溝槽IGBT(例如TRENCHSTOP系列)和溝槽MOSFET就獨(dú)步天下。在碳化硅的時(shí)代,市面上大部分的SiCMOSFET都是平面
2023-01-12 14:34:012202

用于電光器件的石墨烯級集成

研究人員對使用化學(xué)氣相沉積 (CVD) 生長的 6 英寸石墨烯層進(jìn)行了處理,并使用 Graphenea 的專利轉(zhuǎn)移工藝轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體上。根據(jù)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),使用鑲嵌接觸和硬掩模光刻在石墨烯層上構(gòu)建器件
2023-06-20 09:28:171473

橫向與垂直MOSFET簡介

橫向MOSFET,又稱之為橫向?qū)щ?b class="flag-6" style="color: red">型的MOSFET,結(jié)構(gòu)如下圖所示。這里橫向的意思是指電流的流動方向與襯底之間的方向。
2023-06-25 17:14:545157

平面柵和溝槽柵的MOSFET的導(dǎo)通電阻構(gòu)成

兩者因?yàn)槠鋿艠O都是在外延表面生長出來的平面結(jié)構(gòu)所以都統(tǒng)稱為平面柵MOSFET。還有另外一種結(jié)構(gòu)是把柵極構(gòu)建在結(jié)構(gòu)內(nèi)部,挖出來的溝槽里面,叫做溝槽MOSFET。針對兩種不同的結(jié)構(gòu),對其導(dǎo)通電阻的構(gòu)成進(jìn)行簡單的分析介紹。
2023-06-25 17:19:026122

鍵合的種類和應(yīng)用

鍵合技術(shù)是將兩片不同結(jié)構(gòu)/不同材質(zhì)的,通過一定的物理方式結(jié)合的技術(shù)。鍵合技術(shù)已經(jīng)大量應(yīng)用于半導(dǎo)體器件封裝、材料及器件堆疊等多種半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域。
2023-10-24 12:43:242895

扇出級封裝技術(shù)的優(yōu)勢分析

扇出級封裝技術(shù)的優(yōu)勢在于能夠利用高密度布線制造工藝,形成功率損耗更低、功能性更強(qiáng)的芯片封裝結(jié)構(gòu),讓系統(tǒng)級封裝(System in a Package, SiP)和3D芯片封裝更愿意采用扇出級封裝工藝。
2023-10-25 15:16:142051

新型溝槽SiC基MOSFET器件研究

SiC具有高效節(jié)能、穩(wěn)定性好、工作頻率高、能量密度高等優(yōu)勢,SiC溝槽MOSFET(UMOSFET)具有高溫工作能力、低開關(guān)損耗、低導(dǎo)通損耗、快速開關(guān)速度等特點(diǎn)
2023-12-27 09:34:562548

一文看懂級封裝

分為扇入級芯片封裝(Fan-In WLCSP)和扇出級芯片封裝(Fan-Out WLCSP),其特點(diǎn)是在整個(gè)封裝過程中,
2024-03-05 08:42:133555

2.5薄組件90°彎曲

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《2.5薄組件90°彎曲.pdf》資料免費(fèi)下載
2024-09-03 14:21:520

的制備流程

本文從硅片制備流程為切入點(diǎn),以方便了解和選擇合適的硅,硅的制備工藝流程比較復(fù)雜,加工工序多而長,所以必須嚴(yán)格控制每道工序的加工質(zhì)量,才能獲得滿足工藝技術(shù)要求、質(zhì)量合格的硅單晶片(),否則就會對器件的性能產(chǎn)生顯著影響。
2024-10-21 15:22:271991

溝槽SiC MOSFET的結(jié)構(gòu)和應(yīng)用

MOSFET(U-MOSFET)作為新一代功率器件,近年來備受關(guān)注。本文將詳細(xì)解析溝槽SiC MOSFET的結(jié)構(gòu)、特性、制造工藝、應(yīng)用及其技術(shù)挑戰(zhàn)。
2025-02-02 13:49:001996

功率器件測試及封裝成品測試介紹

???? 本文主要介紹功率器件測試及封裝成品測試。?????? ? 測試(CP)???? 如圖所示為典型的碳化硅和分立器件電學(xué)測試的系統(tǒng),主要由三部分組成,左邊為電學(xué)檢測探針臺阿波羅
2025-01-14 09:29:132360

英飛凌首批采用200毫米工藝制造的SiC器件成功交付

眾所周知,幾乎所有 SiC 器件都是在 150 毫米上制造的,使用更大的存在重大挑戰(zhàn)。從 200 毫米出貨器件是降低 SiC 器件成本的關(guān)鍵一步,其他公司也在開發(fā) 200 毫米技術(shù)
2025-02-19 11:16:55813

清洗機(jī)怎么做夾持

清洗機(jī)中的夾持是確保在清洗過程中保持穩(wěn)定、避免污染或損傷的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。以下是夾持的設(shè)計(jì)原理、技術(shù)要點(diǎn)及實(shí)現(xiàn)方式: 1. 夾持方式分類 根據(jù)尺寸(如2英寸到12英寸)和工藝需求,夾持
2025-07-23 14:25:43931

派恩杰3300V MOSFET的應(yīng)用場景

派恩杰3300V MOSFET,專為高耐壓場景設(shè)計(jì)的第三代半導(dǎo)體功率器件核心材料,基于4H-SiC,擊穿電壓達(dá)3300V以上,相比于傳統(tǒng)硅基器件(如IGBT),它在高壓、高溫、高頻場景下性能
2025-08-01 10:20:291244

白光干涉儀在肖特基二極管的深溝槽 3D 輪廓測量

技術(shù)支持。 關(guān)鍵詞:白光干涉儀;肖特基二極管;深溝槽;3D 輪廓測量 一、引言 肖特基二極管的深溝槽是實(shí)現(xiàn)器件高壓、低功耗特性的關(guān)鍵結(jié)構(gòu),承擔(dān)著電場調(diào)制、電流路徑控制等重要功能,其 3D 輪廓參數(shù)(如溝槽深度、側(cè)壁陡
2025-10-20 11:13:27279

英偉達(dá)首片美國制造Blackwell下線,重塑AI芯片制造格局

近日,美國亞利桑那州鳳凰城的臺積電 Fab 21 晶圓廠內(nèi),一塊承載全球 AI 產(chǎn)業(yè)期待的特殊正式下線 —— 這是首片在美國本土制造的英偉達(dá) Blackwell 芯片晶。英偉達(dá) CEO 黃仁勛
2025-10-22 17:21:52703

白光干涉儀在深腐蝕溝槽的 3D 輪廓測量

摘要:本文研究白光干涉儀在深腐蝕溝槽 3D 輪廓測量中的應(yīng)用,分析其工作原理及適配深腐蝕溝槽特征的技術(shù)優(yōu)勢,通過實(shí)際案例驗(yàn)證測量精度,為深腐蝕工藝的質(zhì)量控制與器件性能優(yōu)化提供技術(shù)支持
2025-10-30 14:22:51230

扇出級封裝技術(shù)的概念和應(yīng)用

扇出級封裝(FOWLP)的概念最早由德國英飛凌提出,自2016 年以來,業(yè)界一直致力于FOWLP 技術(shù)的發(fā)展。
2026-01-04 14:40:30202

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