。金屬污染對芯片有害，所以應(yīng)避免裸晶圓片上有金屬污染。本文的研究目的是交流解決裸硅圓片上金屬污染問題的經(jīng)驗(yàn)，介紹如何使用互補(bǔ)性測量方法檢測裸硅圓片上的少量金屬污染物并找出問題根源，解釋從多個(gè)不同的檢測方法中選擇適合方法的難度，以及用壽命測量技術(shù)檢測污染物對熱處理的依賴性。 I.前言 本文旨
2021-02-23 17:08:39
6365 
切割工藝，也稱為商業(yè)上的Smart CutTM工藝。該工藝結(jié)合了半導(dǎo)體晶片鍵合和使用光離子注入缺陷工程的底切。只要滿足一系列技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，就可以生產(chǎn)出直接外延生長通常無法實(shí)現(xiàn)的體質(zhì)量異質(zhì)結(jié)構(gòu)，從而在異質(zhì)和柔性器件的設(shè)計(jì)和制
2023-08-14 17:03:501336 
股份計(jì)劃發(fā)行不超過2203.33萬股，為“年產(chǎn)12000噸半導(dǎo)體專用材料項(xiàng)目”等募集7.11億元資金。 ? 艾森股份成立于2010年，專注于電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主要為電子電鍍、光刻兩個(gè)半導(dǎo)體制造及封裝的工藝環(huán)節(jié)提供電解液及配套試劑、光
2022-10-15 00:59:002132 本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:51 編輯
半導(dǎo)體工藝
2012-08-20 09:02:05
有沒有半導(dǎo)體工藝方面的資料啊
2014-04-09 22:42:37
半導(dǎo)體發(fā)展至今，無論是從結(jié)構(gòu)和加工技術(shù)多方面都發(fā)生了很多的改進(jìn)，如同Gordon E. Moore老大哥預(yù)測的一樣，半導(dǎo)體器件的規(guī)格在不斷的縮小，芯片的集成度也在不斷提升，工藝制程從90nm
2020-12-10 06:55:40
半導(dǎo)體工藝講座ObjectiveAfter taking this course, you will able to? Use common semiconductor terminology
2009-11-18 11:31:10
半導(dǎo)體器件與工藝
2012-08-20 08:39:08
半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成：在半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學(xué)品、建設(shè)靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高端PP/PVC通風(fēng)柜/廚、CDS化學(xué)品集中供液系統(tǒng)等一站式解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等
2016-09-06 13:53:08
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:21:04
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:23:36
將全面介紹濕化學(xué)工藝的應(yīng)用以及從這些分析技術(shù)中獲得的數(shù)據(jù)的有用性。這篇論文不僅將涵蓋人們期望通過濕法進(jìn)行的那些測試，例如化學(xué)品中的金屬分析，還將涵蓋濕化學(xué)分析的許多不尋常應(yīng)用，例如它們在評估來自各種
2021-07-09 11:30:18
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：CMOS 單元工藝編號：JFSJ-21-027作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html晶圓生產(chǎn)需要三個(gè)一般過程：硅
2021-07-06 09:32:40
的試劑，無論是單獨(dú)工作還是與其他化學(xué)品混合，對于半導(dǎo)體制造中的濕法清洗工藝。通過適當(dāng)?shù)膽?yīng)用，它可以避免使用一些需要在高溫下操作的高腐蝕性化學(xué)品，從而減少 CoO，包括化學(xué)品費(fèi)用、沖洗水量、安全問題
2021-07-06 09:36:27
齊全、自動(dòng)化程度高的清洗設(shè)備是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量清洗效果的保證。 南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司設(shè)備有限公司已成功應(yīng)用于眾多用戶的生產(chǎn)線，并滿足了用戶的要求。 如有侵權(quán)，請聯(lián)系作者刪除`
2021-07-07 10:24:07
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：III-V/SOI 波導(dǎo)電路的化學(xué)機(jī)械拋光工藝開發(fā)編號：JFSJ-21-064作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:14:11
測試，并且在錯(cuò)誤的情況下可能導(dǎo)致工藝失敗，因此，基于研究的重要性，不管從藥液還是設(shè)備都需選擇穩(wěn)定可靠的，而華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司在濕法刻蝕領(lǐng)域已有十幾年的經(jīng)驗(yàn)，其生產(chǎn)的設(shè)備功能完善，并能針對客戶的需求給出一系列的解決辦法跟方案。 如有侵權(quán)，請聯(lián)系作者刪除
2021-07-06 09:39:22
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：用于半導(dǎo)體封裝基板的化學(xué)鍍 Ni-P/Pd/Au編號：JFSJ-21-077作者：炬豐科技 隨著便攜式電子設(shè)備的普及，BGA（球柵陣列）越來越多地用于安裝在高密度
2021-07-09 10:29:30
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：硅納米柱與金屬輔助化學(xué)蝕刻的比較編號：JFSJ-21-015作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:33:58
表面吸收濕氣。在潮濕環(huán)境中，CO2、H2S、SO2 和 HCl 等氣體會(huì)產(chǎn)生導(dǎo)致腐蝕的酸性介質(zhì)。它們被NH中和3或氫氧化鈉或石灰。12.一些化學(xué)品可以降低腐蝕速度。這些化學(xué)品稱為腐蝕抑制劑。它們有兩種
2021-07-01 09:40:10
我是南通華林科納半導(dǎo)體的，主要做半導(dǎo)體，太陽能，液晶LED，電子器件濕法工藝，各種清洗，濕制程設(shè)備。我們3月14日—16日去上海新國際博覽中心參加2017慕尼黑上海半導(dǎo)體展，有其他去的公司嗎，應(yīng)該
2017-03-04 11:50:42
寧波億諾化學(xué)品( ISO9001:2008認(rèn)證企業(yè)，提供高品質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù), 2,5-二溴-3-甲基吡啶 [2,5
2010-06-13 17:22:08
這些可持續(xù)性項(xiàng)目是安森美半導(dǎo)體企業(yè)社會(huì)責(zé)任活動(dòng)的重要一環(huán)。每年，我們都會(huì)跟蹤150多個(gè)以減少碳排放、降低能耗、節(jié)水、減少使用化學(xué)品和減少廢物產(chǎn)生為目標(biāo)的項(xiàng)目。安森美半導(dǎo)體的企業(yè)社會(huì)責(zé)任大部分建基于我
2018-10-26 08:53:09
招聘蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司職位月薪：面議工作地點(diǎn)：蘇州工作性質(zhì)：全職工作經(jīng)驗(yàn)：1年以上最低學(xué)歷：大專招聘人數(shù)：5人 職位類別：銷售經(jīng)理職位描述要求：工作經(jīng)驗(yàn)：1年以上崗位職責(zé)：1、負(fù)責(zé)
2015-07-28 11:38:16
。 第1章 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)介紹 第2章 半導(dǎo)體材料特性 第3章 器件技術(shù) 第4章 硅和硅片制備 第5章 半導(dǎo)體制造中的化學(xué)品 第6章 硅片制造中的沾污控制 第7章 測量學(xué)和缺陷檢查 第8章 工藝腔內(nèi)的氣體控制
2025-04-15 13:52:11
circuit technique ）（百度百科）電子集成技術(shù)按工藝方法分為以硅平面工藝為基礎(chǔ)的單片集成電路、以薄膜技術(shù)為基礎(chǔ)的薄膜集成電路和以絲網(wǎng)印刷技術(shù)為基礎(chǔ)的厚膜集成電路。 半導(dǎo)體工藝是集成電路工藝
2009-09-16 11:51:34
蘇州晶淼有限公司專業(yè)制作半導(dǎo)體設(shè)備、LED清洗腐蝕設(shè)備、硅片清洗、酸洗設(shè)備等王經(jīng)理***/13771786452
2016-07-20 11:58:26
基于Labview的7200T化學(xué)品船機(jī)艙監(jiān)測報(bào)警系統(tǒng) 有沒有大神能幫助一下，給點(diǎn)啟發(fā)，不知從何下手啊，謝謝大神
2013-01-14 15:40:07
用785便攜拉曼光譜儀成功為知名化學(xué)醫(yī)藥企業(yè)測試化學(xué)品高利通科技GL-PRS-785便攜拉曼光譜儀能夠測量各式各樣的化學(xué)品的拉曼光譜。下面，我們對甲氧基苯甲酸粗品和羥基苯甲酸進(jìn)行了拉曼光譜檢測，可以
2017-10-19 11:22:26
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:26:21
公司名稱：蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司公司地址：蘇州工業(yè)園區(qū)啟月街288號公司電話：0512-62872541蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備
2016-10-26 17:05:04
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:22:46
化學(xué)品安全技術(shù)說明書編寫規(guī)定 GB16483-2000化學(xué)品安全技術(shù)說明書編寫規(guī)定General rules for preparation of Chemical safety data sheet(CSDS)附錄A（標(biāo)準(zhǔn)的附錄）化學(xué)品安全技術(shù)說明書填寫
2008-11-26 13:22:35
10 危險(xiǎn)化學(xué)品安全管理知識競賽題
?、薄段ｋU(xiǎn)化學(xué)品安全管理?xiàng)l例》自 起施行。 A．2002年1月15日 B.2002年2月15日 C.2002年3月15日 D. 2002年4月15日
2008-12-31 23:01:5514 一、劇毒化學(xué)品的判定界限1.劇毒化學(xué)品的定義劇毒化學(xué)品是指具有非常劇烈毒性危害的化學(xué)品，包括人工合成的化學(xué)品及其混合物（含農(nóng)藥）和天然毒素。2.劇毒化學(xué)品毒
2009-04-09 21:59:510 、無機(jī)化學(xué)品、有機(jī)化學(xué)品、有機(jī)溶劑、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片、等產(chǎn)品進(jìn)行在線顆粒監(jiān)測和分析。產(chǎn)品優(yōu)勢：在線優(yōu)勢：在線化學(xué)品液體微粒子計(jì)數(shù)器為生產(chǎn)
2022-12-14 11:37:02
、無機(jī)化學(xué)品、有機(jī)化學(xué)品、有機(jī)溶劑、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片、等產(chǎn)品進(jìn)行在線顆粒監(jiān)測和分析。產(chǎn)品優(yōu)勢：在線優(yōu)勢：MPS-100A化學(xué)品、光刻
2023-01-03 15:30:32
GB18218-2009危險(xiǎn)化學(xué)品重大危險(xiǎn)源辨識
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了辨識危險(xiǎn)化學(xué)品重大危險(xiǎn)的依據(jù)和方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于危險(xiǎn)化學(xué)品的生產(chǎn)、使用、儲(chǔ)存和經(jīng)營等各企業(yè)或
2010-02-24 14:18:2457 化學(xué)品安全技術(shù)說明書編寫規(guī)定(GB16483-2000)
范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了化學(xué)品安全技術(shù)說明書（MSDS）的內(nèi)容和編寫要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于工業(yè)
2010-02-25 15:09:0016 BK-WFB5化學(xué)品罐區(qū)風(fēng)速風(fēng)向監(jiān)控儀器在選擇時(shí)，需要考慮以下幾個(gè)關(guān)鍵因素，以確保安全和有效的監(jiān)測： 精度和可靠性： 確保儀器具備高精度的風(fēng)速和風(fēng)向測量能力，以及穩(wěn)定可靠的數(shù)據(jù)輸出，確保監(jiān)測
2024-07-02 14:59:51
在半導(dǎo)體制造的精密鏈條中，半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備是確保芯片良率與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。它通過化學(xué)或物理手段去除晶圓表面的污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬離子等），為后續(xù)制程提供潔凈的基底。本文將從設(shè)備定義、核心特點(diǎn)
2025-06-25 10:31:51
一、易制毒化學(xué)品源頭監(jiān)管系統(tǒng)背景
眾所周知，化學(xué)合成的***類興奮劑將替代海洛因，它們即將成為21世紀(jì)全世界范圍內(nèi)濫用最為廣泛的毒品。毒品加工過程中，易制毒化學(xué)品作為原料或配劑必不可少
2018-02-03 12:04:017675 
本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載主要內(nèi)容包括了：1.1 引言 1.2基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導(dǎo)體制造企業(yè) 1.6基本的半導(dǎo)體材料 1.7 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品 1.8芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境
2018-11-19 08:00:00221 12月18日晚間，新宙邦發(fā)布公告稱，公司擬向不超過5名特定投資者，發(fā)行不超過6500萬股，募資總額不超過10億元，扣除發(fā)行費(fèi)用后的凈額將全部用于有機(jī)氟化學(xué)品、鋰電池化學(xué)品相關(guān)項(xiàng)目（如下表所示）。
2018-12-19 15:14:481909 
半導(dǎo)體廠主要生產(chǎn)半導(dǎo)體原材料，比較高純度的硅，在提煉硅的時(shí)候，可能存在空氣和水污染?？諝?b class="flag-6" style="color: red">污染主要來源于在處理過程中揮發(fā)出來的酸性氣體，水污染除了有加工使用的化學(xué)物質(zhì)外，還可能帶來重金屬的污染。
2019-03-27 17:14:4629161 演練主要模擬化學(xué)品臨時(shí)存放點(diǎn)甲04室門口冠華公司運(yùn)輸化學(xué)品時(shí)，由于操作不慎，小車上的無水乙醇發(fā)生傾倒泄漏，并有人員受傷；由于泄漏的無水乙醇具有揮發(fā)性，可能引起火災(zāi)和波及化學(xué)品存放點(diǎn)的安全的緊急應(yīng)急處置。
2019-10-25 09:53:252863 化學(xué)品在儲(chǔ)存或者運(yùn)輸?shù)倪^程中一般是需要使用到專用的容器，為了防止化學(xué)品發(fā)生泄露， 那么按照正常的標(biāo)準(zhǔn)來說就需要嚴(yán)格做到良好的容器密封性，就可以保證化學(xué)品在儲(chǔ)存或者運(yùn)輸?shù)倪^程中會(huì)安全穩(wěn)定，其實(shí)不然
2020-08-11 10:25:05958 還是集中在200mm(8英寸）或以下尺寸，300mm半導(dǎo)體硅片幾乎全部依賴進(jìn)口。 半導(dǎo)體的材料主要包括硅片、電子氣體、光掩膜、光刻膠配套化學(xué)品、拋光材料、光刻膠、濕法化學(xué)品與濺射靶材等。其中硅片約占半導(dǎo)體制造材料的三分之一，90%以上的半導(dǎo)體產(chǎn)
2021-01-29 12:17:402949 隨著半導(dǎo)體、顯示面板、太陽能電池等下游產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，濕電子化學(xué)品發(fā)展非常迅速。2019年全球濕電子化學(xué)品整體市場規(guī)模約54.9億美元，半導(dǎo)體、顯示面板、太陽能電池等三大市場需求量達(dá)到327萬噸
2020-10-23 10:55:345808 晶圓制造是屬于技術(shù)要求最高的環(huán)節(jié)，并且隨著集成電路的集成度不斷提高，要求的線寬不斷變小，薄膜不斷變薄，相應(yīng)需要技術(shù)水平更高的濕電子化學(xué)品才能滿足工藝生產(chǎn)需要。
2021-03-19 13:36:045716 
半導(dǎo)體工藝化學(xué)原理。
2021-03-19 17:07:23116 書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：金屬氧化物半導(dǎo)體的制造 編號：JFKJ-21-207 作者：炬豐科技 概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設(shè)計(jì)規(guī)則 ? 互補(bǔ)金屬氧化物
2023-04-20 11:16:00744 
[技術(shù)領(lǐng)域] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種酸性化學(xué)品供應(yīng)控制系 統(tǒng)。 由于半導(dǎo)體行業(yè)中芯片生產(chǎn)線的工作對象是硅晶片，而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質(zhì)、微粒子的化學(xué)品
2023-04-20 13:57:00466 目前，在通過干燥工藝去除硅基體表面的金屬雜質(zhì)和損傷方面，濕式工藝是唯一的。因此，進(jìn)一步提高工藝很重要。
2021-12-14 09:45:392023 
本方法一般涉及半導(dǎo)體的制造，更具體地說，涉及在生產(chǎn)最終半導(dǎo)體產(chǎn)品如集成電路的過程中清洗半導(dǎo)體或 硅晶片，由此中間清洗步驟去除在先前處理步驟中沉積在相關(guān)硅晶片表面上的污染物。
2021-12-20 17:21:051866 
引言 我們華林科納研究了電化學(xué)沉積的銅薄膜在含高頻的脫氧和非脫氧商業(yè)清洗溶液中的腐蝕行為。采用電感耦合等離子體質(zhì)譜監(jiān)測Cu2+，利用x射線光電子譜監(jiān)測硅片表面的氧化態(tài)，研究了薄膜銅的溶解和反應(yīng)動(dòng)力學(xué)
2022-01-07 13:15:56997 
氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術(shù)的堿金屬氫氧化物，是用于微加工硅片的最常用的硅蝕刻化學(xué)物質(zhì)之一。各向異性蝕刻優(yōu)先侵蝕基底。也就是說，它們在某些方向上的蝕刻速率比在其他方向上的蝕刻速率
2022-01-11 11:50:333264 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?；蛉毕荨U(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻工藝
2022-02-22 13:47:512798 
摘要 提供了清潔覆蓋半導(dǎo)體襯底的金屬區(qū)域的方法。文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁從金屬區(qū)域去除材料的方法包括加熱金屬區(qū)域，由包含氫氣和二氧化碳的氣體形成等離子體，以及將金屬區(qū)域暴露于等離子體
2022-02-24 13:45:531374 
摘要 處理納米級顆粒污染仍然是半導(dǎo)體器件制造過程中的主要挑戰(zhàn)之一。對于越來越多的關(guān)鍵處理步驟而言尤其如此，在這些步驟中，需要去除顆粒物質(zhì)的殘留物而不會(huì)對敏感器件圖案造成機(jī)械損壞，同時(shí)實(shí)現(xiàn)盡可能低
2022-03-01 14:35:08856 
本文通過繪制少數(shù)載流子擴(kuò)散長度、體中鐵濃度和表面污染（表面電荷和表面重組），介紹了表面光電電壓(SPV)在監(jiān)測化學(xué)清洗和化學(xué)品純度方面的應(yīng)用。新的SPV方法和精密儀器的非接觸性、晶片級的特性使該技術(shù)
2022-03-09 14:38:221283 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆粒或缺陷。擴(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻工藝
2022-04-21 12:27:431233 
濕電子化學(xué)品是微電子制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料，在顯影、蝕刻、清洗等工藝中必不可少，直接關(guān)系到下游產(chǎn)品質(zhì)量。由于處于精細(xì)化工和電子信息行業(yè)交叉的領(lǐng)域，其專業(yè)跨度大，技術(shù)門檻高，被德國、美國和日本的知名企業(yè)占據(jù)著高端市場大部分份額。
2022-06-06 10:46:336855 我們華林科納半導(dǎo)體開發(fā)了一種新的濕法清洗配方方法，其錫蝕刻速率在室溫下超過30/min，在50°c下超過100/min。該化學(xué)品與銅和低k材料兼容，適用于銅雙鑲嵌互連28 nm和更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)
2022-06-14 10:06:243990 
全球PCB專用電子化學(xué)品的主要供應(yīng)商包括安美特、陶氏化學(xué)、麥德美樂思、超特、JCU株式會(huì)社、上村工業(yè)株式會(huì)社等，上述企業(yè)占據(jù)了70%以上的市場份額，并在高端PCB專用電子化學(xué)品領(lǐng)域處于壟斷地位。
2022-08-09 14:44:315809 股份計(jì)劃發(fā)行不超過2203.33萬股，為“年產(chǎn)12000噸半導(dǎo)體專用材料項(xiàng)目”等募集7.11億元資金。 艾森股份成立于2010年，專注于電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主要為電子電鍍、光刻兩個(gè)半導(dǎo)體制造及封裝的工藝環(huán)節(jié)提供電解液及配套試劑、光刻
2022-10-17 14:35:051460 半導(dǎo)體先進(jìn)制程要求工藝使用的超純水，超純化學(xué)品的純度越來越高，污染物水平越來越低，用于超純水，超純化學(xué)品運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的系統(tǒng)和部件不能帶入污染。雖然在超純水與化學(xué)品的質(zhì)量都有相對應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)與規(guī)范
2022-10-28 14:40:295017 單晶硅錠經(jīng)過切片、研磨、蝕刻、拋光、外延（如有）、鍵合（如有）、清洗等工藝步驟，制造成為半導(dǎo)體硅片。在生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，半導(dǎo)體硅片需要盡可能地減少晶體缺陷，保持極高的平整度與表面潔凈度，以保證集成電路或半導(dǎo)體器件的可靠性。
2022-11-02 09:26:278073 本篇要講的金屬布線工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨(dú)立的工藝不同。在半導(dǎo)體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實(shí)是為了金屬布線才進(jìn)行的。在金屬布線過程中，會(huì)采用很多與之前的電子元器件層性質(zhì)不同的配線材料（金屬）。
2023-04-25 10:38:492938 
晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:152928 
5月18日-5月19日，由華林科納舉辦的2023泛半導(dǎo)體濕法交流會(huì)第五期：化學(xué)流體系統(tǒng)技術(shù)與應(yīng)用交流會(huì)在江蘇南通市成功召開。會(huì)議共邀請42家企業(yè)參會(huì)，參會(huì)人員96人。本期交流會(huì)安排了學(xué)術(shù)技術(shù)交流報(bào)告、流體展示及實(shí)操等多種形式的活動(dòng)，交流高純流體在濕法領(lǐng)域的技術(shù)與應(yīng)用，并展示了超100種高純流體產(chǎn)品。
2023-06-09 17:30:341065 半導(dǎo)體同時(shí)具有“導(dǎo)體”的特性，因此允許電流通過，而絕緣體則不允許電流通過。離子注入工藝將雜質(zhì)添加到純硅中，使其具有導(dǎo)電性能。我們可以根據(jù)實(shí)際需要使半導(dǎo)體導(dǎo)電或絕緣。 重復(fù)光刻、刻蝕和離子注入步驟會(huì)在
2023-07-03 10:21:574672 
國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的行業(yè)盛會(huì)將在上海如期舉行，華林科納將為您帶來超全面且領(lǐng)先的濕法解決方案，并攜泛半導(dǎo)體濕法裝備服務(wù)平臺(tái)亮相SEMICON China，與上下游企業(yè)進(jìn)行一對一交流，為企業(yè)發(fā)展瓶頸找到“痛
2023-07-04 17:01:30763 
由華林科納舉辦的2023泛半導(dǎo)體濕法交流會(huì)第五期：化學(xué)流體系統(tǒng)技術(shù)與應(yīng)用交流會(huì)在江蘇南通市成功召開。會(huì)議共邀請42家企業(yè)參會(huì)，參會(huì)人員96人。本期交流會(huì)安排了學(xué)術(shù)技術(shù)交流報(bào)告、流體展示及實(shí)操等
2023-07-14 08:47:031111 超凈高純電子級氫氟酸、電子級多晶硅都是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。記者從省工業(yè)和信息化廳了解到，半導(dǎo)體關(guān)鍵材料是我省的優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)，在硅片、濕化學(xué)品、電子特氣、超純銅等方面有較好技術(shù)積淀并不斷有新突破，部分產(chǎn)品還打破了國外壟斷。
2023-07-14 16:54:301127 的影響。高純PFA擴(kuò)口接頭采用高度純凈的PFA材料制造，確保管道系統(tǒng)中的流體不受雜質(zhì)污染。這種高純度的材料選擇有助于維持制程的穩(wěn)定性，降低產(chǎn)物缺陷率，從而提高光伏器件的性能和效率。 其次，半導(dǎo)體光伏工藝涉及許多化學(xué)反應(yīng)和腐蝕性
2023-08-14 16:51:29922 濕法腐蝕在半導(dǎo)體工藝里面占有很重要的一塊。不懂化學(xué)的芯片工程師是做不好芯片工藝的。
2023-08-30 10:09:045902 
我們華林科納討論了在InP、GaAs、GaN、AlN和ZnO等化合物半導(dǎo)體中氫和/或氦注入引起的表面起泡和層分裂。起泡現(xiàn)象取決于許多參數(shù)，例如半導(dǎo)體材料、離子注量、離子能量和注入溫度。給出了化合物
2023-09-04 17:09:311104 
該設(shè)備用途：硅片在加工運(yùn)輸過程中，需要將硅片從一個(gè)花籃內(nèi)，傳送到另一個(gè)花籃內(nèi)，提高導(dǎo)片效率，同時(shí)減少人為污染。 我們華林科納研發(fā)的全自動(dòng)晶舟轉(zhuǎn)換器，它是一款用于調(diào)整集成電路產(chǎn)線上晶圓生產(chǎn)材料序列
2023-09-06 17:23:461071 
很多半導(dǎo)體、光伏行業(yè)的制造企業(yè)在選擇化學(xué)品酸堿輸送供應(yīng)管道時(shí)，都喜歡選擇華林科納的高純PFA管，選擇華林科納生產(chǎn)的高純PFA管作為化學(xué)品酸堿輸送供應(yīng)管道有以下幾個(gè)重要原因： 1、優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性
2023-09-13 17:29:481396 據(jù)淮安工業(yè)園區(qū)消息，該工程建成后將成為世界最高等級的電子化學(xué)品和電子煤氣綜合型工廠，為華東地區(qū)半導(dǎo)體、面板、光伏、智能制造提供全面的產(chǎn)品解決方案。
2023-09-15 11:07:411456 和化學(xué)品以及哪些接口板適用于氧化鋯氧傳感器。 一、特定的氣體和化學(xué)品對氧化鋯氧傳感器產(chǎn)生不良影響 可燃性氣體 少量可燃?xì)怏w將在傳感器的熱Pt電極表面或AI2O3過濾器處燃燒。一般來說，只要有足夠的氧氣，燃燒將是化學(xué)計(jì)量的，
2023-09-26 11:50:501765 
半導(dǎo)體和太陽能光伏領(lǐng)域的應(yīng)用與優(yōu)勢備受關(guān)注。 華林科納是一家專注于生產(chǎn)高性能氟化共聚物材料的公司。其生產(chǎn)的PFA管具有優(yōu)異的耐化學(xué)腐蝕、耐高溫、低摩擦系數(shù)和高絕緣性能等特性。在半導(dǎo)體和太陽能光伏領(lǐng)域，華林科納的PFA管具
2023-10-17 10:19:25871 隨著科技的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體設(shè)備在制造過程中需要經(jīng)過多個(gè)工藝步驟，而每個(gè)步驟都需要使用到各種不同的材料和設(shè)備。其中，華林科納的PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:341121 隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，對于連接技術(shù)的要求也越來越高。傳統(tǒng)的金屬接頭在高溫、高壓和高輻射環(huán)境下存在許多問題，而PFA接頭作為一種高性能的塑料接頭，正逐漸得到廣泛的認(rèn)可和應(yīng)用。本文將圍繞晶圓制造
2023-11-09 17:47:47865 晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染程度與種類。
2024-02-23 17:34:235281 
濕電子化學(xué)品屬于電子化學(xué)品領(lǐng)域的一個(gè)分支，是微電子、光電子濕法工藝制程（主要包括濕法蝕刻、清洗、顯影、互聯(lián)等）中使用的各種液體化工材料，主體成分純度大于99.99%，雜質(zhì)顆粒粒徑低于 0.5μm
2024-03-08 13:56:032995 
這一關(guān)鍵設(shè)備中，PFA管憑借其獨(dú)特的性能優(yōu)勢，發(fā)揮著不可替代的作用。華林科納半導(dǎo)體將詳細(xì)探討PFA管在換熱器中的具體應(yīng)用及其優(yōu)勢。 ### 耐腐蝕性：延長換熱器壽命 換熱器作為化工、制藥、食品等行業(yè)中不可或缺的設(shè)備，經(jīng)常需要處理各種腐蝕性介質(zhì)。這些
2024-10-17 17:32:11958 影響半導(dǎo)體器件的成品率和可靠性。 晶圓表面污染物種類繁多，大致可分為顆粒污染、金屬污染、化學(xué)污染（包括有機(jī)和無機(jī)化合物）以及天然氧化物四大類。 圖1：硅晶圓表面可能存在的污染物 01 顆粒污染 顆粒污染主要來源于空氣中的粉
2025-02-20 10:13:134069 
特性，使其在特殊工業(yè)場景中表現(xiàn)出色。以下是華林科納半導(dǎo)體對其的詳細(xì)解析： 一、PTFE隔膜泵的結(jié)構(gòu)與工作原理 結(jié)構(gòu) ：主要由PTFE隔膜、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)（氣動(dòng)、電動(dòng)或液壓）、泵腔、進(jìn)出口閥門（通常為PTFE球閥或蝶閥）組成。部分型號的泵體內(nèi)壁也會(huì)覆蓋PTFE涂層
2025-03-06 17:24:09643 
半導(dǎo)體清洗SC1是一種基于氨水（NH?OH）、過氧化氫（H?O?）和去離子水（H?O）的化學(xué)清洗工藝，主要用于去除硅片表面的有機(jī)物、顆粒污染物及部分金屬雜質(zhì)。以下是其技術(shù)原理、配方配比、工藝特點(diǎn)
2025-04-28 17:22:334240 半導(dǎo)體封裝過程中的清洗工藝是確保器件可靠性和性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，主要涉及去除污染物、改善表面狀態(tài)及為后續(xù)工藝做準(zhǔn)備。以下是主流的清洗技術(shù)及其應(yīng)用場景：一、按清洗介質(zhì)分類濕法清洗
2025-08-13 10:51:341916 
半導(dǎo)體金屬腐蝕工藝是集成電路制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，涉及精密的材料去除與表面改性技術(shù)。以下是該工藝的核心要點(diǎn)及其實(shí)現(xiàn)方式：一、基礎(chǔ)原理與化學(xué)反應(yīng)體系金屬腐蝕本質(zhì)上是一種受控的氧化還原反應(yīng)過程。常用酸性溶液
2025-09-25 13:59:25958 
半導(dǎo)體器件清洗工藝是確保芯片制造良率和可靠性的關(guān)鍵基礎(chǔ)，其核心在于通過精確控制的物理化學(xué)過程去除各類污染物，同時(shí)避免對材料造成損傷。以下是該工藝的主要技術(shù)要點(diǎn)及實(shí)現(xiàn)路徑的詳細(xì)闡述：污染物分類與對應(yīng)
2025-10-09 13:40:46709 
這三個(gè)藏在日常里的小好奇，看似各有側(cè)重、毫無關(guān)聯(lián)，但是它們的答案都指向了同一種“隱形支撐”——精細(xì)化學(xué)品制造工藝的精準(zhǔn)駕馭。那么如何掌控精細(xì)化學(xué)品生產(chǎn)全流程，讓“小”分子精準(zhǔn)釋放“大”能量?
2025-12-12 15:39:15288 一、核心化學(xué)品與工藝參數(shù) 二、常見問題點(diǎn)與專業(yè)處理措施 ? ? ? ? ? 三、華林科納設(shè)備選型建議 槽式設(shè)備：適合批量處理（25-50片/批次），成本低但需關(guān)注交叉污染風(fēng)險(xiǎn)，建議搭配高精度過濾系統(tǒng)
2025-12-23 16:21:5946 
流程、核心化學(xué)品、常見問題及創(chuàng)新解決方案等維度，解析RCA濕法設(shè)備如何為晶圓表面凈化提供全周期保障。 一、RCA濕法設(shè)備核心工藝流程 華林科納RCA清洗技術(shù)通過多步驟化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，系統(tǒng)清除晶圓表面的顆粒、有機(jī)物及金屬污染物
2025-12-24 10:39:08136
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