時(shí)光飛逝，時(shí)間已經(jīng)進(jìn)入21世紀(jì)，40年改革開(kāi)放以來(lái)電子信息產(chǎn)業(yè)取得的巨大成績(jī)有目共睹！今天集成電路相關(guān)的技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展極快，令人難以想象，在當(dāng)今這個(gè)高速信息時(shí)代，其以超摩爾定律的速度帶給社會(huì)生活無(wú)窮的創(chuàng)新和改變，推動(dòng)著現(xiàn)代信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。

掩模行業(yè)取得巨大技術(shù)進(jìn)步

伴隨集成電路的發(fā)展，隨之而來(lái)的首先是半導(dǎo)體（集成電路）光刻技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)經(jīng)歷了從最初的接觸/接近式光掩模技術(shù)起步，之后為了克服掩模缺陷和分辨率的進(jìn)一步縮小，迫使工藝技術(shù)人員進(jìn)一步尋求新的光刻方法來(lái)滿足批量生產(chǎn)和線寬縮小的要求，1976年美國(guó)GCA公司首先開(kāi)發(fā)出了全球首臺(tái)分步重復(fù)投影曝光機(jī)系統(tǒng)，此后幾年間業(yè)界成功開(kāi)發(fā)出具有更大曝光視場(chǎng)的步進(jìn)掃描投影曝光機(jī)，隨著這種曝光技術(shù)的不斷成熟，進(jìn)一步將集成電路圖形線寬推進(jìn)到0.35μm節(jié)點(diǎn)，相應(yīng)的掩模制版技術(shù)也得到了大幅提升。今天的世界最先進(jìn)光刻技術(shù)已經(jīng)跨越到了7nm。

20紀(jì)紀(jì)80年代初期伴隨著國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國(guó)內(nèi)相關(guān)科研機(jī)構(gòu)和工廠陸續(xù)開(kāi)始進(jìn)行集成電路用掩模研究和生產(chǎn)。改革開(kāi)放的40年，掩模行業(yè)也從最初的零星的、分散的小廠和車間，技術(shù)水平10μm節(jié)點(diǎn)以上，發(fā)展到今天以凸版光掩模、華潤(rùn)掩模工廠、無(wú)錫中微掩模以及中芯國(guó)際等內(nèi)配掩模為主的規(guī)模企業(yè)，整體技術(shù)水平已經(jīng)達(dá)到最高28nm節(jié)點(diǎn)，技術(shù)進(jìn)步是巨大的，同時(shí)極大地縮小了與國(guó)際先進(jìn)水平的差距，為產(chǎn)業(yè)發(fā)展打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

結(jié)合市場(chǎng)需求 推進(jìn)掩模項(xiàng)目

40年的改革開(kāi)放帶來(lái)了我國(guó)經(jīng)濟(jì)社會(huì)的深刻變化，也為我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入了新的生機(jī)與活力。無(wú)錫中微掩模的建設(shè)實(shí)踐成功印證了發(fā)展帶來(lái)的新活力！

集成電路技術(shù)和產(chǎn)品市場(chǎng)的變化極快，新技術(shù)、新工藝不斷快速涌現(xiàn)，只有很好地把握住市場(chǎng)需求變化的要求，緊跟市場(chǎng)變化的步伐，項(xiàng)目建設(shè)才能取得成功。無(wú)錫中微掩模項(xiàng)目的建設(shè)就是充分了解了國(guó)內(nèi)掩模市場(chǎng)的需求和變化，針對(duì)國(guó)內(nèi)已有晶圓代工和大量設(shè)計(jì)公司的現(xiàn)實(shí)需求和未來(lái)發(fā)展要求，經(jīng)過(guò)充分論證而實(shí)施的。技術(shù)節(jié)點(diǎn)瞄準(zhǔn)8英寸晶圓生產(chǎn)線的掩模需求，直接建成具備研發(fā)和生產(chǎn)130nm集成電路用掩模的公共服務(wù)平臺(tái)，項(xiàng)目投產(chǎn)后，發(fā)揮了應(yīng)有的作用。

在集成電路技術(shù)發(fā)展迭代迅速的今天，產(chǎn)業(yè)融合模式創(chuàng)新成為當(dāng)今企業(yè)在競(jìng)爭(zhēng)中獲勝的重要因素。產(chǎn)業(yè)生態(tài)從最初的IDM模式正在向FABLESS、FOUNDRY模式分化，世界上主要的幾家專業(yè)大廠仍然以IDM的模式快速發(fā)展成為行業(yè)翹楚，但是另外更多地二線企業(yè)是向著既分工、又協(xié)同的合作發(fā)展模式轉(zhuǎn)變，也取得了不俗的成績(jī)。因此，國(guó)內(nèi)掩模產(chǎn)業(yè)的發(fā)展更應(yīng)該遵循合作發(fā)展的理念，要堅(jiān)持中國(guó)特色發(fā)展之路，也要借鑒學(xué)習(xí)其他國(guó)外優(yōu)秀企業(yè)的發(fā)展經(jīng)驗(yàn)，摸索和走出一條適合國(guó)情的自我發(fā)展之路。

集成電路產(chǎn)業(yè)首先是一項(xiàng)系統(tǒng)工程，通常是資金密集、人才密集產(chǎn)業(yè)，項(xiàng)目建設(shè)起點(diǎn)越高投入資金越大。必須形成相應(yīng)規(guī)模的生產(chǎn)、研發(fā)能力，具備一定的規(guī)模，形成規(guī)模經(jīng)濟(jì)，才能保持良好的發(fā)展。同時(shí)為了緊隨不斷變化的市場(chǎng)需求和行業(yè)整體技術(shù)水平的不斷提升和產(chǎn)能的擴(kuò)充，需要持續(xù)不斷地資金投入。在人才引進(jìn)和培養(yǎng)方面要著力打造一支具備一流的工藝技術(shù)、芯片設(shè)計(jì)和管理人才隊(duì)伍，保證技術(shù)、產(chǎn)品的不斷創(chuàng)新和企業(yè)高效運(yùn)營(yíng)。在技術(shù)儲(chǔ)備和引進(jìn)工作中要形成自有的先進(jìn)工藝技術(shù)和芯片設(shè)計(jì)服務(wù)能力，擁有一批自主的知識(shí)產(chǎn)權(quán)和專利。

實(shí)踐證明，國(guó)內(nèi)外集成電路產(chǎn)業(yè)大多采用集中人力物力，集中建設(shè)，上下游融合，抱團(tuán)規(guī)劃共謀發(fā)展的戰(zhàn)略，行業(yè)發(fā)展更多的是相互合作，而不是單打獨(dú)斗的局面。集成電路用掩模產(chǎn)業(yè)的發(fā)展就是在這種背景和發(fā)展思路的指導(dǎo)下，逐步建立和發(fā)展起來(lái)的，行業(yè)內(nèi)的企業(yè)間更多的是協(xié)同、合作、支持。

掩模項(xiàng)目的成功建設(shè)就是在政府的大力支持下，結(jié)合市場(chǎng)的細(xì)分了解和客戶需求，全面評(píng)估后作出的正確選擇，項(xiàng)目建成后取得了較好的社會(huì)效益和企業(yè)發(fā)展。

掩模產(chǎn)業(yè)發(fā)展迎來(lái)機(jī)遇期

我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展面臨著前所未有的新機(jī)遇。一方面，我國(guó)逐步成為世界上集成電路最大的消費(fèi)國(guó)，另一方面未來(lái)幾年國(guó)內(nèi)和國(guó)際知名企業(yè)紛紛登陸中國(guó)建設(shè)新的晶圓廠。以上產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)的積極變化，對(duì)掩模行業(yè)的配套發(fā)展可以說(shuō)是重大歷史機(jī)遇，我們要在清醒認(rèn)識(shí)自我的同時(shí)，抓住機(jī)遇，群策群力，全方位、大視野、大格局的有效開(kāi)展項(xiàng)目論證和建設(shè)，擴(kuò)大國(guó)際合作的深度與廣度，多渠道、全方位開(kāi)展合作，實(shí)現(xiàn)掩模行業(yè)飛躍發(fā)展。

創(chuàng)新是產(chǎn)業(yè)發(fā)展的靈魂，是不竭的動(dòng)力。掩模產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展應(yīng)不僅停留在技術(shù)、管理上，更應(yīng)該把制度、體制創(chuàng)新放在突出位置，激發(fā)人才的主觀創(chuàng)造性，最終打造出企業(yè)長(zhǎng)期發(fā)展的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

當(dāng)今科技和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，帶來(lái)了社會(huì)生活的巨大變革，我們注意到在物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、AI智能應(yīng)用逐步普及的今天，集成電路的發(fā)展和應(yīng)用需求發(fā)生著巨大的變化，以新能源、智慧產(chǎn)業(yè)、數(shù)據(jù)分析等領(lǐng)域的這些將深刻影響我們未來(lái)生活的應(yīng)用，極大推動(dòng)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，它將有可能成為影響未來(lái)經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的大產(chǎn)業(yè)。

回首過(guò)去，我們滿懷信心！展望未來(lái)，我們壯志不已！相信集成電路掩模產(chǎn)業(yè)必將迎來(lái)發(fā)展的新時(shí)代！