設(shè)計(jì)一款芯片，明確需求（功能和性能）之后，先由架構(gòu)工程師設(shè)計(jì)架構(gòu)，得出芯片設(shè)計(jì)方案，前端設(shè)計(jì)工程師形成RTL代碼，驗(yàn)證工程師進(jìn)行代碼驗(yàn)證，再通過后端設(shè)計(jì)工程師和版圖工程師生成物理版圖。

設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)到此為止，后面則是制造和封測環(huán)節(jié)。

設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)的各個(gè)工作崗位，都需要使用到EDA工具。這也就要求IC設(shè)計(jì)端的工程師們對(duì)EDA工具的使用了如指掌。

設(shè)計(jì)中使用的EDA工具如下：

1、架構(gòu)的設(shè)計(jì)與驗(yàn)證

按照要求，對(duì)整體的設(shè)計(jì)劃分模塊。

架構(gòu)模型的仿真可以使用Synopsys公司的CoCentric軟件，它是基于System C的仿真工具。

2、HDL設(shè)計(jì)輸入

設(shè)計(jì)輸入方法有：HDL語言（Verilog或VHDL）輸入、電路圖輸入、狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖輸入。

使用的工具有：Active-HDL，而RTL分析檢查工具有Synopsys的LEDA。

3、前仿真工具（功能仿真）

初步驗(yàn)證設(shè)計(jì)是否滿足規(guī)格要求。

使用的工具有：Synopsys的VCS，Simens EDA的ModelSim，Cadence的Verilog－XL，Cadence的NC-Verilog。

4、邏輯綜合

將HDL語言轉(zhuǎn)換成門級(jí)網(wǎng)表Netlist。綜合需要設(shè)定約束條件，就是你希望綜合出來的電路在面積，時(shí)序等目標(biāo)參數(shù)上達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)；邏輯綜合需要指定基于的庫，使用不同的綜合庫，在時(shí)序和面積上會(huì)有差異。邏輯綜合之前的仿真為前仿真，之后的仿真為后仿真。

使用的工具有：Synopsys的Design Compiler，Cadence的 PKS，Synplicity的Synplify等。

5、靜態(tài)時(shí)序分析工具（STA）

在時(shí)序上，檢查電路的建立時(shí)間（Setuptime）和保持時(shí)間（Hold time）是否有違例（Violation）。

使用的工具有：Synopsys的Prime Time。

6、形式驗(yàn)證工具

在功能上，對(duì)綜合后的網(wǎng)表進(jìn)行驗(yàn)證。常用的就是等價(jià)性檢查（Equivalence Check）方法，以功能驗(yàn)證后的HDL設(shè)計(jì)為參考，對(duì)比綜合后的網(wǎng)表功能，他們是否在功能上存在等價(jià)性。這樣做是為了保證在邏輯綜合過程中沒有改變?cè)菻DL描述的電路功能。

使用的工具有：Synopsys的Formality

而后端相應(yīng)的流程如下：

1、數(shù)據(jù)準(zhǔn)備

對(duì)于 CDN 的 Silicon Ensemble而言，后端設(shè)計(jì)所需的數(shù)據(jù)主要有是Foundry廠提供的標(biāo)準(zhǔn)單元、宏單元和I/O Pad的庫文件，它包括物理庫、時(shí)序庫及網(wǎng)表庫，分別以.lef、.tlf和.v的形式給出。前端的芯片設(shè)計(jì)經(jīng)過綜合后生成的門級(jí)網(wǎng)表，具有時(shí)序約束和時(shí)鐘定義的腳本文件和由此產(chǎn)生的約束文件以及定義電源Pad的DEF（Design Exchange Format）文件。（對(duì)synopsys 的Astro 而言，?經(jīng)過綜合后生成的門級(jí)網(wǎng)表，時(shí)序約束文件 SDC 是一樣的，Pad的定義文件–tdf，.tf 文件 --technology file，F(xiàn)oundry廠提供的標(biāo)準(zhǔn)單元、宏單元和I/O Pad的庫文件 就與FRAM， CELL view， LM view形式給出（Milkway 參考庫 and DB， LIB file）

2、布局規(guī)劃

主要是標(biāo)準(zhǔn)單元、I/O Pad和宏單元的布局。I/OPad預(yù)先給出了位置，而宏單元?jiǎng)t根據(jù)時(shí)序要求進(jìn)行擺放，標(biāo)準(zhǔn)單元?jiǎng)t是給出了一定的區(qū)域由工具自動(dòng)擺放。布局規(guī)劃后，芯片的大小，Core的面積，Row的形式、電源及地線的Ring和Strip都確定下來了。如果必要在自動(dòng)放置標(biāo)準(zhǔn)單元和宏單元之后，你可以先做一次PNA（power network analysis）–IR drop and EM 。

3、Placement -自動(dòng)放置標(biāo)準(zhǔn)單元

布局規(guī)劃后，宏單元、I/O Pad的位置和放置標(biāo)準(zhǔn)單元的區(qū)域都已確定，這些信息SE（Silicon Ensemble）會(huì)通過DEF文件傳遞給PC（Physical Compiler），PC根據(jù)由綜合給出的.DB文件獲得網(wǎng)表和時(shí)序約束信息進(jìn)行自動(dòng)放置標(biāo)準(zhǔn)單元，同時(shí)進(jìn)行時(shí)序檢查和單元放置優(yōu)化。如果你用的是PC +Astro，那你可用write_milkway，read_milkway 傳遞數(shù)據(jù)。

4、時(shí)鐘樹生成（CTS Clock tree synthesis）?

芯片中的時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)要驅(qū)動(dòng)電路中所有的時(shí)序單元，所以時(shí)鐘源端門單元帶載很多，其負(fù)載延時(shí)很大并且不平衡，需要插入緩沖器減小負(fù)載和平衡延時(shí)。時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)及其上的緩沖器構(gòu)成了時(shí)鐘樹。一般要反復(fù)幾次才可以做出一個(gè)比較理想的時(shí)鐘樹—Clock skew。

5、STA 靜態(tài)時(shí)序分析和后仿真

時(shí)鐘樹插入后，每個(gè)單元的位置都確定下來了，工具可以提出Global Route形式的連線寄生參數(shù)，此時(shí)對(duì)延時(shí)參數(shù)的提取就比較準(zhǔn)確了。

SE把.V和.SDF文件傳遞給PrimeTime做靜態(tài)時(shí)序分析。確認(rèn)沒有時(shí)序違規(guī)后，將這來兩個(gè)文件傳遞給前端人員做后仿真。

對(duì)Astro 而言，在detail routing 之后，用starRC XT 參數(shù)提取，生成的SPEF文件傳遞給PrimeTime做靜態(tài)時(shí)序分析，那將會(huì)更準(zhǔn)確。

6、ECO（Engineering Change Order）

針對(duì)靜態(tài)時(shí)序分析和后仿真中出現(xiàn)的問題，對(duì)電路和單元布局進(jìn)行小范圍的改動(dòng)。

7、Filler的插入（padfliier，?cell filler）

Filler指的是標(biāo)準(zhǔn)單元庫和I/O Pad庫中定義的與邏輯無關(guān)的填充物，用來填充標(biāo)準(zhǔn)單元和標(biāo)準(zhǔn)單元之間，I/O Pad和I/O Pad之間的間隙，它主要是把擴(kuò)散層連接起來，滿足DRC規(guī)則和設(shè)計(jì)需要。

8、布線（Routing）

布線是指在滿足工藝規(guī)則和布線層數(shù)限制、線寬、線間距限制和各線網(wǎng)可靠絕緣的電性能約束的條件下，根據(jù)電路的連接關(guān)系將各單元和I/O Pad用互連線連接起來，這些是在時(shí)序驅(qū)動(dòng)（Timing driven ）?的條件下進(jìn)行的，保證關(guān)鍵時(shí)序路徑上的連線長度能夠最小。

9、Dummy Metal的增加

Foundry廠都有對(duì)金屬密度的規(guī)定，使其金屬密度不要低于一定的值，以防在芯片制造過程中的刻蝕階段對(duì)連線的金屬層過度刻蝕從而降低電路的性能。加入Dummy Metal是為了增加金屬的密度。

10、DRC和LVS

DRC是對(duì)芯片版圖中的各層物理圖形進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查（spacing ，width），它也包括天線效應(yīng)的檢查，以確保芯片正常流片。LVS主要是將版圖和電路網(wǎng)表進(jìn)行比較，來保證流片出來的版圖電路和實(shí)際需要的電路一致。

DRC和LVS的檢查–EDA工具Synopsy hercules/ Simens EDA calibre/ CDN Dracula進(jìn)行的。Astro also include LVS/DRC check commands。

11、Tape out

在所有檢查和驗(yàn)證都正確無誤的情況下把最后的版圖GDSⅡ文件傳遞給Foundry廠進(jìn)行掩膜制造，也就是送去流片了。

審核編輯：劉清