半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是高科技行業(yè)，技術(shù)門檻高，產(chǎn)值也高，全球半導(dǎo)體行業(yè)今年的產(chǎn)值有望達(dá)到5000億美元。半導(dǎo)體制造不僅需要先進(jìn)的***，材料也是其中重要的一環(huán)，主要包括硅片、光刻膠、高純度試劑、CMP材料，濺射靶材也是其中之一。國內(nèi)濺射靶材行業(yè)龍頭公司江豐電子日前表示該公司已經(jīng)掌握了用于7nm工藝節(jié)點(diǎn)的金屬濺射靶材核心技術(shù)，目前正在積極與客戶溝通評(píng)價(jià)事宜。

　　高純金屬濺射靶材主要是指純度為 99.9%-99.999%的金屬靶材，應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣象沉積（PVD）工藝，是制備電子薄膜的關(guān)鍵材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。

　　根據(jù)江豐電子的資料，該公司生產(chǎn)的金屬濺射靶材主要有四種：鋁、鈦、鉭、鎢鈦靶。除此之外，公司生產(chǎn)的其他產(chǎn)品包括銅靶、鎳靶、鈷靶、鉻靶、陶瓷靶等濺射靶材以及金屬蒸發(fā)料、LCD 用碳纖維復(fù)合材料部件（主要包括碳纖維支撐、碳纖維傳動(dòng)軸、碳纖維叉臂）等，同時(shí)公司對(duì)外出售從客戶端回收的鉭靶（含鉭環(huán)）和鈦靶（含鈦環(huán)）等，并向客戶提供環(huán)件的清洗翻新服務(wù)。

　　目前江豐電子生產(chǎn)的金屬靶材純度如下所示：

　　在金屬濺射靶材方面，江豐電子是國內(nèi)行業(yè)龍頭，根據(jù)該公司于8月29日發(fā)布2018年半年度報(bào)告，2018年上半年?duì)I業(yè)收入2.96億元，同比增長 18.11%；歸母凈利潤 0.25 億元，同比增長 19.48%。不過全球行業(yè)龍頭霍尼韋爾今年上半年?duì)I收213億美元，其中包括濺射靶材在內(nèi)的先進(jìn)材料業(yè)務(wù)2018年上半年?duì)I收達(dá)到14.55億美元。

　　在新一代制程工藝所用的濺射靶材方面，江豐電子今天公告稱已經(jīng)掌握了7nm節(jié)點(diǎn)工藝的金屬濺射靶材的核心技術(shù)，目前正在積極與客戶溝通評(píng)價(jià)事宜，不過該公司并沒有提及具體詳情。

　　江豐電子的客戶包括臺(tái)積電、Globalfoundries、聯(lián)電、中芯國際等，不過現(xiàn)在7nm節(jié)點(diǎn)上只有臺(tái)積電有量產(chǎn)，GF、聯(lián)電都已經(jīng)退出先進(jìn)工藝研發(fā)，中芯國際的7nm工藝還在早期探索階段。

　　此外，掌握7nm工藝用的金屬靶材跟掌握7nm工藝并不一樣，靶材并不影響工藝先進(jìn)程度。此外，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)新產(chǎn)品、新技術(shù)的接納會(huì)有很長時(shí)間的認(rèn)證測(cè)試過程，江豐電子在初次打入臺(tái)積電供應(yīng)鏈時(shí)用了5-8年時(shí)間，不過現(xiàn)在的認(rèn)證時(shí)間已經(jīng)大幅縮短到1-2年。