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SK海力士發(fā)布全球首款321層NAND!

要長高 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2023-08-10 16:01 ? 次閱讀
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目前,主流的閃存芯片通常在128層或232層進(jìn)行堆疊。一些廠商如長江存儲(chǔ)已經(jīng)成功研發(fā)并推出了232層閃存顆粒,其中使用了他們自己研發(fā)的晶棧Xtacking技術(shù)。這種技術(shù)通過兩次堆疊128層和125層閃存顆粒、去除一定冗余并合體的方式,實(shí)現(xiàn)了232層的閃存顆粒。

在最新的閃存峰會(huì)上,SK海力士宣布將首次展示全球首款321層NAND閃存,成為業(yè)界首家開發(fā)出300層以上NAND閃存的公司。他們展示了321層1Tb TLC 4D NAND閃存的樣品,并介紹了開發(fā)進(jìn)展情況。與上一代238層512Gb NAND閃存相比,321層1Tb TLC NAND閃存的效率提高了59%。這是因?yàn)樵谕瑯哟笮〉男酒娣e上,可以堆疊更多的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元,從而實(shí)現(xiàn)更大的存儲(chǔ)容量,并增加每片芯片的產(chǎn)量。

未來,3D NAND Flash的發(fā)展方向主要集中在提高密度和增加層數(shù)。SK海力士在ISSCC 2023會(huì)議上提交了一篇論文,展示了他們?nèi)绾伍_發(fā)出超過300層的3D NAND技術(shù),并以創(chuàng)紀(jì)錄的194GBps的數(shù)據(jù)讀取速度。

SK海力士表示,他們將進(jìn)一步完善321層NAND閃存技術(shù),初步計(jì)劃在2025年上半年開始量產(chǎn)。這將推動(dòng)閃存技術(shù)的發(fā)展,為存儲(chǔ)領(lǐng)域提供更高的性能和更大的容量。

編輯:黃飛

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