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氫空位簇對鍺烷電子結(jié)構(gòu)的調(diào)控以及鍺烷中分子摻雜的影響

鴻之微 ? 來源:鴻之微 ? 2023-08-24 16:15 ? 次閱讀
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01引言?

2013年,Bianco等通過CaGe2拓撲化學剝離的方法,首次在實驗上合成了具有較高熱穩(wěn)定性和抗氧化性的單層鍺烷。鍺烷因其合適的帶隙、較高的電子遷移速率、較好的環(huán)境穩(wěn)定性、較小的電噪聲和超薄的幾何結(jié)構(gòu),有望取代現(xiàn)有硅基或鍺基材料成為下一代半導體器件的理想載體。目前,成熟的脫氫技術(shù)已可實現(xiàn)較為精確可控的氫缺陷調(diào)制,這有利于脫去鍺烷特定位置和特定數(shù)量的氫原子。尤其值得關(guān)注的是,脫氫還往往會誘導體系產(chǎn)生磁性,而具有可調(diào)控的磁性是量子信息器件應用的前提。因此,采用脫氫的方式調(diào)控鍺烷的電子性質(zhì)仍具有較大的優(yōu)勢。盡管如此,鍺烷基半導體器件在實際應用中仍面臨許多挑戰(zhàn),其中一個重大挑戰(zhàn)便是如何實現(xiàn)有效且安全可控的載流子摻雜。而傳統(tǒng)的半導體摻雜很容易破壞僅有原子層級別厚度的二維半導體材料。相比之下,在不損壞襯底材料的前提下,表面非共價吸附分子是一種安全有效的載流子摻雜方式。基于以上的考慮,本文系統(tǒng)研究了氫空位簇對鍺烷電子結(jié)構(gòu)的調(diào)控以及鍺烷中分子摻雜的影響。

02成果簡介

本文基于密度泛函理論和非平衡格林函數(shù)的第一性原理方法,使用鴻之微的DS-PAW和Nanodcal軟件研究了不同構(gòu)型和濃度的氫空位簇對鍺烷電子結(jié)構(gòu)及鍺烷中Tetrathiafulvalene (TTF)分子摻雜性能的影響。計算結(jié)果表明,不同構(gòu)型氫空位簇的引入可誘導GermananeDehydrogenated-xH(GD-xH)體系產(chǎn)生不同性質(zhì)的磁性,且磁矩大小亦與Lieb定理的預測結(jié)果相符,并能在GD-xH/TTF (x=1,4, 6)體系自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中實現(xiàn)由缺陷態(tài)引起的類p型半導體摻雜效應,其電子激發(fā)所需的能量則會隨著體系脫氫濃度的升高而不斷降低。吸附TTF分子后,G/TTF和GD-xH/TTF(x=1, 2, 6)體系表現(xiàn)出分子摻雜效應,且GD-xH/TTF (x=1, 6)體系因分子軌道與缺陷態(tài)的雜化作用,可在自旋向上與自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中形成不同的摻雜類型。進一步的量子輸運計算還表明,Armchair和Zigzag類型的鍺烷基器件表現(xiàn)為明顯的各向同性,且TTF分子吸附所導致的載流子摻雜可大幅提高其I-V特性。

03圖文導讀

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圖1鍺烷中典型的四種氫空位簇構(gòu)型俯視圖:(a) GD-1H;(b) GD-2H;(c) GD-4H;(d) GD-6H,藍色、綠色小球分別代表Ge和H原子

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圖2 (a)-(e)鍺烷和不同氫空位簇鍺烷GD-xH(x=1, 2, 4, 6)體系對應的能帶結(jié)構(gòu); (f) Eg, Ep和體系磁矩隨脫氫濃度的變化

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圖3G/TTF和GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)最佳吸附構(gòu)型的俯視圖和側(cè)視圖:(a) H2-site;(b) V2-side, (c) B2-side, (d) H2-side, (e) V2-side.藍色、綠色、紅色和棕色小球分別代表Ge、H、S和C原子

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圖4 (a) G/TTF和(b)-(e) GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)體系對應能帶結(jié)構(gòu),其中綠色和粉色平帶分別代表由TTF分子貢獻和脫氫處的Ge原子貢獻,橙色平帶代表由TTF分子和脫氫處Ge原子共同貢獻;(f) Eg, En, Ep和體系凈磁矩隨脫氫濃度的變化

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圖5 G/TTF體系和GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)體系的HOMO和LUMO.等值面設(shè)為0.004e/?3

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圖6 (a)-(e) G/TTF和GD-xH/TTF (x=1, 2, 4, 6)體系的差分電荷密度俯視和側(cè)視圖.青色和黃色分別代表失電荷和得電荷.等值面設(shè)為(a) 0.0002 e/?3, (b)-(e) 0.001 e/?3

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圖7 (a)-(b)基于Armchair和Zigzag構(gòu)型的鍺烷基納米器件模

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圖8 (a)-(b) Armchair和Zigzag類型的鍺烷器件模型的電子透射譜和態(tài)密度圖.藍色實線表示透射譜曲線,綠色虛線表示態(tài)密度

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圖9 (a)-(d)本征鍺烷、G/TTF和GD-xH/TTF (x=1, 2)基器件的I-V特性曲線

04 小結(jié)

本文使用鴻之微的DS-PAW和Nanodcal軟件,研究了不同構(gòu)型和濃度的氫空位簇對鍺烷的電子結(jié)構(gòu)及其TTF分子摻雜效應的影響,并基于非平衡格林函數(shù)計算了對應的鍺烷基納米器件的電子輸運特性。研究結(jié)果表明,引入氫空位簇可以有效地調(diào)控體系的磁性和能帶結(jié)構(gòu),且磁矩大小符合Lieb定理預測分析,并可在具有磁性的GD-xH(x=1, 4, 6)體系自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中形成由缺陷態(tài)引入的類p型摻雜效應。吸附TTF分子后,不同于G/TTF和GD-2H/TTF體系中形成的n型分子摻雜效應,GD-xH/TTF(x=1, 6)體系在分子軌道與缺陷態(tài)的共同作用下,可在自旋向上與自旋向下的能帶結(jié)構(gòu)中分別形成n型與p型兩種不同的摻雜效應。而GD-4H/TTF體系中的類n型或類p型摻雜效應仍由氫空位簇的缺陷態(tài)引入。進一步的量子輸運計算結(jié)果表明,Armchair和Zigzag構(gòu)型的器件輸運特性都表現(xiàn)出了明顯的各向同性,而吸附TTF分子能極大地改善器件的I-V特性曲線。





審核編輯:劉清

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原文標題:文獻賞析 | 氫空位簇調(diào)控鍺烷的電子結(jié)構(gòu)和分子摻雜(劉剛)

文章出處:【微信號:hzwtech,微信公眾號:鴻之微】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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