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拉普拉斯新能源科創(chuàng)板IPO過會,上交所提出兩大問詢

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-12-28 14:01 ? 次閱讀
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最新消息,隸屬上海證券交易所的上市審核委員會于12月27日舉行了2023年第103次審議會議,該會議審議通過了拉普拉斯新能源科技股份有限公司科創(chuàng)板IPO申請。

然而,在上交所上市委對該申請進行審查時,發(fā)現(xiàn)有兩大問題需要企業(yè)解答。其一,要求企業(yè)分析光伏PERC、TOPCon、XBC三個技術(shù)選項的優(yōu)缺點,兼顧光伏高效高端裝備制造市場競爭態(tài)勢,明確拉普拉斯核心技術(shù)的優(yōu)越性及其利潤增長的穩(wěn)健持久性。另外,還希望了解拉普拉斯獲取的關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新及應用成果,以及其符合生產(chǎn)特性與固定資產(chǎn)現(xiàn)狀的大額固定資產(chǎn)建設(shè)的必要性和合理性。

值得注意的是,拉普拉斯是一家專注于生產(chǎn)光伏電池片核心設(shè)備且可提供解決方案的供應商,除了提供制造所需的高性能熱制程、鍍膜以及自動化設(shè)備外,還有半導體分立器件的相關(guān)設(shè)備、產(chǎn)品和服務。其穩(wěn)定的供貨能力可以提升整個生產(chǎn)線的效率,給客戶帶來滿意的使用體驗。

針對半導體分立器件設(shè)備,拉普拉斯正在逐步開拓市場,引進氧化、退火、鍍膜和釬焊爐設(shè)備這些具有較強競爭力的產(chǎn)品,并積極將市場范圍擴大至下游行業(yè)的領(lǐng)先企業(yè)。并且,已經(jīng)開始將高溫氧化設(shè)備和高溫退火設(shè)備適配于SiC基半導體器件的生產(chǎn)流程中。

在產(chǎn)品開發(fā)方面,拉普拉斯優(yōu)化了LPCVD設(shè)備以適應氮化硅/氧化硅/多晶硅(Poly-Si)/非晶硅(α-Si)薄膜沉積技術(shù),以及滿足半導體分立器件的生產(chǎn)需求。隨著技術(shù)的發(fā)展和產(chǎn)品完善,半導體分立器件設(shè)備已成功打入比亞迪、基本半導體的供應體系,并繼續(xù)積極地向其他優(yōu)質(zhì)客戶推廣。

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