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三星電子考慮采用1c nm DRAM裸片生產(chǎn)HBM4內(nèi)存

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-17 15:54 ? 次閱讀
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據(jù)韓媒 ZDNet Korea 于今日的報(bào)導(dǎo),三星電子正醞釀在HBM4內(nèi)存上采用1c納米制程(即第六代10+nm級)的DRAM裸片,以此增強(qiáng)其產(chǎn)品在能效競爭力方面的優(yōu)勢。

早前在Memcon 2024行業(yè)會議上,三星電子代表曾表示,該公司計(jì)劃在年底前實(shí)現(xiàn)對1c納米制程的大規(guī)模生產(chǎn);而關(guān)于HBM4,他們預(yù)見在明年會完成研發(fā),并在2026年開始量產(chǎn)。

盡管作為已有HBM3E量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的三星電子,卻未能如其主要競爭者SK海力士及美光那樣,采用1b納米制程的DRAM裸片,反而選擇了1a納米顆粒,從而在能耗方面略顯不足。

有消息人士指出,這可能是促使三星決定在HBM4上引入1c納米DRAM顆粒的關(guān)鍵因素之一。

據(jù)悉,同一制程節(jié)點(diǎn)的首批DRAM產(chǎn)品通常面向桌面與移動設(shè)備市場的標(biāo)準(zhǔn)DDR/LPDDR產(chǎn)品,待技術(shù)成熟后再應(yīng)用于高價(jià)值且良率較低的HBM領(lǐng)域。

此外,消息人士還透露,三星電子HBM業(yè)務(wù)的高層及團(tuán)隊(duì)也有意將HBM4的開發(fā)周期縮短,以滿足AI處理器制造商的需求。然而,這無疑將增加良率風(fēng)險(xiǎn)。

目前,在HBM內(nèi)存領(lǐng)域占據(jù)領(lǐng)先地位的SK海力士已經(jīng)表明計(jì)劃在HBM4E上引入1c納米制程顆粒,但尚未明確HBM4內(nèi)存將采用何種制程的DRAM。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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